[發明專利]氣體供給系統及其控制方法、等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 202011267533.8
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN112825296A
• 公開（公告）日: 2021-05-21
• 發明（設計）人: 鄭和俊;北邨友志
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創株式會社
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種氣體供給系統，被連接在具有第一氣體入口和第二氣體入口的腔室與至少一個氣體源之間，所述氣體供給系統具有：

流量調整單元，其具備多個流量調整線路，各流量調整線路具有成對的第一線路和第二線路，所述第一線路將所述至少一個氣體源與所述第一氣體入口連接，并且所述第一線路具有第一閥和第一節流孔，所述第二線路將所述至少一個氣體源與所述第二氣體入口連接，并且所述第二線路具有第二閥和第二節流孔，各流量調整線路中所述第一節流孔和所述第二節流孔具有相同的尺寸；以及

至少一個控制部，其構成為控制各流量調整線路中的所述第一閥和所述第二閥的開閉。

2.根據權利要求1所述的氣體供給系統，其特征在于，

所述多個流量調整線路中的一個流量調整線路的節流孔的尺寸與所述多個流量調整線路中的其它流量調整線路的節流孔的尺寸不同。

3.根據權利要求2所述的氣體供給系統，其特征在于，

所述多個流量調整線路具有第一流量調整線路、第二流量調整線路、第三流量調整線路、第四流量調整線路、第五流量調整線路以及第六流量調整線路，

所述第二流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑為所述第一流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑的5/8，

所述第三流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑為所述第一流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑的4/9，

所述第四流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑為所述第一流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑的1/3，

所述第五流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑為所述第一流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑的2/9，

所述第六流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑為所述第一流量調整線路中的第一節流孔和第二節流孔的孔徑的1/6。

4.根據權利要求1至3中的任一項所述的氣體供給系統，其特征在于，

所述至少一個控制部具有表，在所述表中將從所述至少一個氣體源供給的氣體分流供給至所述第一氣體入口的流量與供給至所述第二氣體入口的流量的流量比同各流量調整線路中的所述第一閥及所述第二閥的開閉進行了對應，

所述至少一個控制部構成為：基于接收到的與流量比有關的數據以及所述表，來控制各流量調整線路中的所述第一閥和所述第二閥的開閉。

5.根據權利要求1至4中的任一項所述的氣體供給系統，其特征在于，

所述至少一個控制部構成為：控制所述流量調整單元，以將所述多個流量調整線路的各流量調整線路的第一閥中的多個第一閥設為開，以及/或者將所述多個流量調整線路的各流量調整線路的第二閥中的多個第二閥設為開。

6.根據權利要求1至5中的任一項所述的氣體供給系統，其特征在于，

所述至少一個控制部構成為：在將所述多個流量調整線路的各流量調整線路的第一閥中的多個第一閥設為開的情況下，控制所述流量調整單元以將所述多個第一閥從離所述腔室遠的閥起依次設為開，

并且，所述至少一個控制部構成為：在將所述多個流量調整線路的各流量調整線路的第二閥中的多個第二閥設為開的情況下，控制所述流量調整單元以將所述多個第二閥從離所述腔室遠的閥起依次設為開。

7.根據權利要求1至6中的任一項所述的氣體供給系統，其特征在于，

在所述多個流量調整線路的各流量調整線路的所述第一線路中，在所述第一節流孔的上游側配置所述第一閥，

在所述多個流量調整線路的各流量調整線路的所述第二線路中，在所述第二節流孔的上游側配置所述第二閥。

8.一種等離子體處理裝置，具備：

腔室，其具有第一氣體入口、第二氣體入口以及等離子體處理空間，所述等離子體處理空間與所述第一氣體入口及所述第二氣體入口呈流體連通；以及

根據權利要求1至權利要求7中的任一項所述的氣體供給系統。