[發(fā)明專利]晶圓裝載平臺裝置及拆裝工具

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202011265303.8
• 申請日: 2020-11-13
• 公開（公告）號: CN112382552A
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張海建
• 申請（專利權(quán)）人: 上海華力集成電路制造有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01L21/683;H01L21/67;B25B27/02;B25B27/14
• 代理公司: 上海浦一知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31211
• 代理人: 顧浩

晶圓裝載平臺裝置，包含：靜電吸盤板，所述靜電吸盤板上設(shè)有第一安裝孔和沉孔；冷卻板，所述冷卻板上設(shè)有第二安裝孔，所述第一安裝孔、沉孔、第二安裝孔同軸設(shè)置；螺栓，所述螺栓設(shè)置于第一安裝孔處，所述螺栓將所述靜電吸盤板和冷卻板連接后，所述螺栓的頭部容置于所述沉孔中；保護(hù)蓋，所述保護(hù)蓋設(shè)置于所述沉孔處。拆裝工具，包含吸頭，所述吸頭通過真空吸附所述保護(hù)蓋。拆裝工具，所述保護(hù)蓋上設(shè)有拆卸孔，所述拆裝工具包含拆卸頭，所述拆卸頭與所述拆卸孔相嵌合設(shè)置。據(jù)此，能夠消除現(xiàn)有技術(shù)中靜電吸盤連接結(jié)構(gòu)中狹縫中堆積生成物難以清洗的弊端，能夠提供更易清潔的結(jié)構(gòu)，延長腔體維護(hù)周期，減少晶圓缺陷，提升工廠產(chǎn)能。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及集成電路制造領(lǐng)域，特別涉及晶圓裝載平臺裝置及拆裝工具。

背景技術(shù)

集成電路制造領(lǐng)域，其中一個重要的工藝步驟是刻蝕。晶圓被固定在靜電吸盤（ESC，Electrostatic Chuck）。參閱圖1所示，現(xiàn)有技術(shù)中，靜電吸盤通常由吸盤01與冷卻盤02通過六角沉頭螺栓03連接在一起。在反應(yīng)腔體08中進(jìn)行干法刻蝕工藝過程（Dry etchProcess），通過等離子體04的能量轟擊或化學(xué)反應(yīng)，晶圓05會被刻蝕，產(chǎn)出大量的生成物06，大部分的生成物06會被干泵07從反應(yīng)腔體08中抽走，少量生成物06會殘留在反應(yīng)腔體08內(nèi)。而，殘留的生成物06會堆積，至一定程度后，產(chǎn)生顆粒。而，晶圓05在加工過程中對潔凈度要求較高，這些生成物06的堆積顆粒如果揚(yáng)起后掉落至晶圓05表面，會造成產(chǎn)品缺陷。

現(xiàn)有技術(shù)中，對反應(yīng)腔體的維護(hù)工作中，需要將腔體內(nèi)的部件進(jìn)行清洗或者更換。而，六角沉頭螺栓03和吸盤01之間的縫隙09處、六角沉頭螺栓03的六角孔中堆積的生成物06難以清洗，會導(dǎo)致此處的生成物06堆積后再次落入晶圓表面，造成產(chǎn)品缺陷。而且，隨著特征尺寸從μm向nm技術(shù)節(jié)點邁進(jìn)，干法刻蝕過程中對缺陷控制要求愈加嚴(yán)格。而且，能夠造成缺陷的未清理的生成物06的量也越來越少，換句話說，要求將生成物06清洗的更加干凈。針對難以清洗的部件，現(xiàn)有技術(shù)中采用的方案是，延長清洗時間、拆卸后清洗、拆卸后更換、縮短腔體維護(hù)周期及時清洗。

現(xiàn)有技術(shù)中存在的問題是由于靜電吸盤中的連接結(jié)構(gòu)造成了干法刻蝕后生成物的清洗困難，導(dǎo)致了反應(yīng)腔體中引入了生成物雜質(zhì)，會在后續(xù)晶圓加工過程中產(chǎn)生缺陷，降低了生產(chǎn)效率，降低了產(chǎn)品的合格率，從而影響了工廠的產(chǎn)能。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明需要解決的技術(shù)問題是：靜電吸盤的連接結(jié)構(gòu)導(dǎo)致的生成物的堆積難于清洗。

為了解決以上技術(shù)問題，本發(fā)明提供一種晶圓裝載平臺裝置及拆裝工具，其目的在于能夠避免生成物堆積于難于清洗的結(jié)構(gòu)處，降低清洗難度，提升清洗效率，延長清洗周期，增加工廠的產(chǎn)能；并且，這一防堆積易清洗的結(jié)構(gòu)能夠拆卸，且具有拆卸工具。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明提供了一種晶圓裝載平臺裝置，包含：

靜電吸盤板，所述靜電吸盤板上設(shè)有第一安裝孔和沉孔；

冷卻板，所述冷卻板上設(shè)有第二安裝孔，所述第一安裝孔、沉孔、第二安裝孔同軸設(shè)置；

螺栓，所述螺栓設(shè)置于第一安裝孔處，所述螺栓將所述靜電吸盤板和冷卻板連接后，所述螺栓的頭部容置于所述沉孔中；

保護(hù)蓋，所述保護(hù)蓋設(shè)置于所述沉孔處。

優(yōu)選地，所述靜電吸盤板在第一安裝孔和沉孔處有第一平面和第二平面，第一安裝孔和沉孔相鄰設(shè)置且貫穿第一平面和第二平面，沉孔其中一個表面為第一平面的一部分，第一安裝孔其中一個表面為第二平面的一部分，所述保護(hù)蓋與所述沉孔耦合設(shè)置，所述保護(hù)蓋不高于所述第一平面設(shè)置。

優(yōu)選地，所述保護(hù)蓋的外形呈圓柱體，所述保護(hù)蓋包含蓋外端面和外側(cè)面，所述外側(cè)面設(shè)有外螺紋；

所述沉孔為圓柱形孔，所述沉孔包含內(nèi)側(cè)面，所述內(nèi)側(cè)面設(shè)有內(nèi)螺紋；