[發明專利]一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法

有效

• 申請號: 202011263719.6
• 申請日: 2020-11-12
• 公開（公告）號: CN112245817B
• 公開（公告）日: 2022-07-19
• 發明（設計）人: 石江偉;金建華;汪德文;范麗華;石江濤
• 申請（專利權）人: 靖江市人民醫院
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 南京禾祁專利代理事務所(普通合伙) 32462
• 代理人: 黃天天

本發明公開了一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法，包括以下步驟：S1、確定哪個鉛門需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的處理；S2、選定固定鉛門射野鉛門的坐標可取值區間；S3、定制此鉛門下方的一葉片為靜止閉合葉片，使得遮擋固定鉛門野鉛門的葉片靜止閉合；S4、設定計劃系統中的固定鉛門射野的減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響選項系統；本發明通過以設置值為優化值，計算時以虛擬坐標值計算，計劃批準時以虛擬坐標作為實際鉛門坐標，進而有效的解決了固定鉛門射野的鉛門的到位誤差有可能到遮擋運動投射葉片造成靶劑量的改變。

技術領域

本發明涉及鉛門到位誤差對劑量影響方法技術領域，特別是涉及一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法。

背景技術

近年來隨著放射治療技術的飛速發展,固定射野鉛門技術越來越多的運用于臨床，固定鉛門技術有效降低患者正常組織的低劑量照射同時還能保證治療靶區的劑量覆蓋，然而在固定鉛門射野中往往有一塊平行于MLC葉片的鉛門邊界直接在靶區上方，此鉛門的到位誤差會造成鉛門對投射射線的葉片遮擋寬度的發生改變，進而影響劑量，使得PTV中出現劑量冷點及低劑量區域，這給治療帶來了很大的不確定，降低了計劃劑量對鉛門到位誤差的容錯（Tolerant），研究發現劑量改變量與鉛門誤差改變寬度下的葉片對射線投射的多少成正相性，然而影響葉片對射野的因素很多，我們無法得知計劃優化后固定鉛門射野的鉛門邊界下的葉片如何投射射線，如圖2（①若葉片對1為靜止閉合葉片，葉片對2為運動投射葉片，此時鉛門Y1到位有誤差時由于靜止閉合葉片對1的遮擋對劑量的影響很小。②若葉片對1為運動投射葉片，當鉛門Y1有到位誤差時改變了葉片對1寬度內對射線的投射造成劑量的變化。③若葉片對1為靜止閉合葉片，葉片對2為運動投射葉片，此時鉛門Y1到位有誤差時，可能直接遮擋到葉片對2，對劑量造成影響。）減小這給問題的解決帶來了困難，這一問題急需解決。

發明內容

為實現上述目的，本發明采用的一個技術方案是：提供一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法，利用靜止閉合葉片遮擋鉛門，這樣鉛門在靜止閉合的葉片后，即使鉛門有到位誤差射線始終有此靜止閉合的葉片遮擋，從而不會出現由于鉛門到位誤差遮擋運動投射葉片造成劑量的較大的變化，減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響，包括以下步驟包括以下步驟：S1、確定哪個鉛門需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的處理，平行于MLC葉片的鉛門，投影邊界在靶區中；S2、選定固定鉛門射野鉛門的坐標可取值區間：鉛門邊界到靜止閉合葉片邊界的距離大于等于鉛門到位精度誤差；S3、定制此鉛門下方的一葉片為靜止閉合葉片，使得遮擋固定鉛門野鉛門的葉片靜止閉合；S4、設定計劃系統中的固定鉛門射野的減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響選項系統。

其中，在S1、確定哪個鉛門需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的處理中定位葉片靜止閉合的狀態位置，即葉片被鉛門全部遮擋的狀態位置。

其中，在S3、定制此鉛門下方的一葉片為靜止閉合葉片，使得遮擋固定鉛門野鉛門的葉片靜止閉合的方案中，對葉片靜止閉合狀態下的鉛門邊界處的葉片上方區間內，優化鉛門的虛擬坐標，此虛擬坐標具體為下次葉片完全遮擋次葉片。

其中，在S4、設定計劃系統的葉片靜止閉合時的定位區間中通過醫用加速器設有平行于多頁準直器葉片的Y1鉛門、Y2鉛門，和垂直于葉片的X1鉛門、X2鉛門。

其中，所述X1鉛門、X2鉛門、Y1鉛門與Y2鉛門呈十字型排布。

其中，在S4、設定計劃系統中的固定鉛門射野的選項系統中在計劃系統內的固定鉛門射野的選項下載增加兩個選項，兩個選項分別為設置一和設置二。

其中，所述設置一具體為：在計劃系統中優化時使得固定鉛門射野的需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響處理的鉛門邊界下的葉片始終保持靜止閉合，靜止閉合的葉片遮擋此鉛門一定距離，同時限制此鉛門的位置坐標的可設置值，可設置值的下鉛門的邊界遠離葉片縫隙的距離要大于鉛門到位精度的誤差值。