[發明專利]一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法有效
| 申請號: | 202011263719.6 | 申請日: | 2020-11-12 |
| 公開(公告)號: | CN112245817B | 公開(公告)日: | 2022-07-19 |
| 發明(設計)人: | 石江偉;金建華;汪德文;范麗華;石江濤 | 申請(專利權)人: | 靖江市人民醫院 |
| 主分類號: | A61N5/10 | 分類號: | A61N5/10 |
| 代理公司: | 南京禾祁專利代理事務所(普通合伙) 32462 | 代理人: | 黃天天 |
| 地址: | 214500 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 減小 固定 鉛門野鉛門 到位 誤差 計劃 劑量 影響 方法 | ||
1.一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1、確定哪個鉛門需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的處理,平行于MLC葉片的鉛門,投影邊界在靶區中,確定哪個鉛門需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的處理中定位葉片靜止閉合的狀態位置,即葉片被鉛門全部遮擋的狀態位置;
S2、選定固定鉛門射野鉛門的坐標可取值區間:鉛門邊界到靜止閉合葉片邊界的距離大于等于鉛門到位精度誤差;
S3、定制此鉛門下方的一葉片為靜止閉合葉片,使得遮擋固定鉛門野鉛門的葉片靜止閉合的方案中,對葉片靜止閉合狀態下的鉛門邊界處的葉片上方區間內,優化鉛門的虛擬坐標,此虛擬坐標具體為下次葉片完全遮擋次葉片;
S4、設定計劃系統中的固定鉛門射野的減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響選項系統,設定計劃系統中的固定鉛門射野的選項系統中在計劃系統內的固定鉛門射野的選項下載增加兩個選項,兩個選項分別為設置一和設置二;
其中,所述設置一具體為:在計劃系統中優化時使得固定鉛門射野的需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響處理的鉛門邊界下的葉片始終保持靜止閉合,靜止閉合的葉片遮擋此鉛門距離,同時限制此鉛門的位置坐標的可設置值,可設置值的下鉛門的邊界遠離葉片縫隙的距離要大于鉛門到位精度的誤差值;
其中,所述設置二具體為:限制需要減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響處理的鉛門位置坐標的可設置值只能取鉛門邊界在葉片縫隙的值,計劃系統優化后,劑量計算時自動給固定鉛門射野的鉛門坐標加一值,此值大于等于國家對鉛門到位精度的要求。
2.根據權利要求1所述的一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法,其特征在于,在S4、設定計劃系統的葉片靜止閉合時的定位區間中通過醫用加速器設有平行于多頁準直器葉片的Y1鉛門、Y2鉛門,和垂直于葉片的X1鉛門、X2鉛門。
3.根據權利要求2所述的一種減小固定鉛門野鉛門到位誤差對計劃劑量影響的方法,其特征在于,所述X1鉛門、X2鉛門、Y1鉛門與Y2鉛門呈十字型排布。
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