[發(fā)明專利]缺陷標注方法和裝置

在審

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• 申請日: 2020-11-12
• 公開（公告）號: CN112381851A
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發(fā)明（設計）人: 孫猛猛;紀旭宇;郭寧;韓錦;潘正頤;侯大為
• 申請（專利權）人: 常州微億智造科技有限公司
• 主分類號: G06T7/187
• 分類號: G06T7/187;G06T7/73;G06K9/62
• 代理公司: 常州佰業(yè)騰飛專利代理事務所(普通合伙) 32231
• 代理人: 張勵

本發(fā)明提供一種缺陷標注方法和裝置，所述方法包括以下步驟：獲取產品圖像，并獲取產品圖像中的缺陷類型和缺陷坐標；根據(jù)缺陷類型和缺陷坐標獲取缺陷區(qū)域；當缺陷坐標不完全處于缺陷區(qū)域內時，更改缺陷區(qū)域，以使缺陷完全處于缺陷區(qū)域內。本發(fā)明的缺陷標注方法，能夠滿足產品缺陷的不同標注需求，增加標注的多樣化，并且通過對缺陷區(qū)域進行更改，增大了繪制的容錯率，降低了標注時間。

技術領域

本發(fā)明涉及缺陷標注技術領域，具體涉及一種缺陷標注方法、一種缺陷標注裝置和一種計算機設備。

背景技術

目前的缺陷標注方法，只能實現(xiàn)缺陷標注方法和缺陷類型一對一的標注方式，并且，當缺陷標注出現(xiàn)問題時，需要將該缺陷標注刪除，重新進行標注，增加了標注時間，降低了標注效率。

發(fā)明內容

本發(fā)明為解決上述技術問題，提供了一種缺陷標注方法，能夠滿足產品缺陷的不同標注需求，增加標注的多樣化，并且通過對缺陷區(qū)域進行更改，增大了繪制的容錯率，降低了標注時間。

本發(fā)明采用的技術方案如下：

一種缺陷標注方法，包括以下步驟：獲取產品圖像，并獲取所述產品圖像中的缺陷類型和缺陷坐標；根據(jù)所述缺陷類型和所述缺陷坐標獲取缺陷區(qū)域；當所述缺陷坐標不完全處于所述缺陷區(qū)域內時，更改所述缺陷區(qū)域，以使所述缺陷完全處于缺陷區(qū)域內。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，根據(jù)所述缺陷類型和所述缺陷坐標獲取缺陷區(qū)域，包括：根據(jù)所述缺陷類型確定標注方式；根據(jù)標注方式和所述缺陷坐標獲取標注元素；將所述標注元素相連，以獲取所述缺陷區(qū)域。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，當所述缺陷坐標不完全處于所述缺陷區(qū)域內時，更改所述缺陷區(qū)域，以使所述缺陷完全處于缺陷區(qū)域內，包括：獲取未處于所述缺陷區(qū)域內的缺陷坐標；將該缺陷坐標對應的缺陷區(qū)域的標注元素進行移動，并帶動與標注元素相連的線段移動，擴大缺陷區(qū)域。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，所述標注方式包括：閉合區(qū)域標注和折線標注，其中，閉合區(qū)域標注包括：矩形、圓形和多邊形中的一種或多種。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，上述的缺陷標注方法，還包括：當所述缺陷坐標完全處于所述缺陷區(qū)域內時，將所述缺陷區(qū)域作為缺陷標注，并進行存儲。

根據(jù)本發(fā)明的一個實施例，上述的缺陷標注方法，還包括：當未處于所述缺陷區(qū)域內的缺陷坐標的個數(shù)大于預設數(shù)量閾值時，刪除該缺陷區(qū)域，并重新獲取缺陷區(qū)域。

本發(fā)明的有益效果：

本發(fā)明通過根據(jù)缺陷類型和缺陷坐標獲取缺陷區(qū)域，并判斷缺陷坐標是都完全處于缺陷區(qū)域內，如果存在不處于缺陷區(qū)域內的缺陷坐標，則更改缺陷區(qū)域，使缺陷完全處于缺陷區(qū)域內，從而能夠滿足產品缺陷的不同標注需求，增加標注的多樣化，并且通過對缺陷區(qū)域進行更改，增大了繪制的容錯率，降低了標注時間。

附圖說明

圖1為本發(fā)明實施例的缺陷標注方法的流程圖；

圖2為本發(fā)明一個實施例的缺陷標注的示意圖；

圖3為本發(fā)明另一個實施例缺陷標注的示意圖；

圖4為本發(fā)明又一個實施例缺陷標注的示意圖；

圖5為本發(fā)明實施例的缺陷標注裝置的方框示意圖。

具體實施方式

下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。

圖1為本發(fā)明實施例的缺陷標注方法的流程圖。