[發(fā)明專利]顯示面板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011257564.5
• 申請(qǐng)日: 2020-11-12
• 公開（公告）號(hào): CN112420946A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張樂陶
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 深圳市華星光電半導(dǎo)體顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): H01L51/52
• 分類號(hào): H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 深圳紫藤知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

一種顯示面板，包括一陣列基板，還包括：陽極，設(shè)置于陣列基板上并與陣列基板電性連接；犧牲層，設(shè)置于陽極的表面上，以暴露陽極的部分表面；以及，疏水層，設(shè)置于犧牲層上，并覆蓋犧牲層及暴露的陣列基板；其中，疏水層具有多個(gè)開口以暴露陽極的部分表面。

技術(shù)領(lǐng)域

本申請(qǐng)涉及顯示裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術(shù)

有源矩陣有機(jī)發(fā)光二極體(Active-matrix organic light-emitting diode，AMOLED)技術(shù)是顯示面板行業(yè)的發(fā)展趨勢(shì)，相比液晶顯示器(Liquid Crystal Display)，LCD而言，OLED具有結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)化、色域更廣、響應(yīng)時(shí)間更快等優(yōu)點(diǎn)。AMOLED技術(shù)目前已量產(chǎn)的是底發(fā)光的WOLED，但該技術(shù)采用蒸鍍方法制備OLED器件，對(duì)有機(jī)發(fā)光材料的浪費(fèi)極大；且WOLED需要彩膜層(CF)來濾色才能得到RGB，因而能耗相比傳統(tǒng)LCD并不占優(yōu)；此外，開口率低是底發(fā)光結(jié)構(gòu)的先天缺陷，不利于高分辨顯示應(yīng)用。相比底發(fā)光的WOLED，頂發(fā)光的噴墨打印(IJP)技術(shù)對(duì)原材料利用超過80％，無需CF進(jìn)行濾色即可發(fā)出RGB色光，且頂發(fā)光有利于提高開口率。正常的頂發(fā)光IJP技術(shù)是在TFT基板上依次制備平坦層(PLN)、LED陽極，以及Bank層。

請(qǐng)參閱圖1，圖1是一種常規(guī)顯示面板的結(jié)構(gòu)示意圖。所述常規(guī)顯示面板包括一陣列基板100；設(shè)置于所述陣列基板100一側(cè)表面上的至少一陽極200；設(shè)置于所述陽極200背離所述陣列基板100一側(cè)表面上的疏水層400，且所述疏水層400覆蓋所述陣列基板100以及部分所述陽極200，并用以暴露所述陽極200的部分表面。其中，所述陣列基板100包括一襯底101、設(shè)置于所述襯底101上的復(fù)數(shù)個(gè)薄膜晶體管102、覆蓋所述復(fù)數(shù)個(gè)薄膜晶體管102的一鈍化層103，以及設(shè)置于所述鈍化層103背離所述襯底101一側(cè)上的一平坦層104，所述陽極200設(shè)置于所述平坦層104上并與所述薄膜晶體管102電性連接。

目前Bank層主要采用含F(xiàn)基團(tuán)來降低材料表面能，從而使得疏水性變強(qiáng)。Bank圖形化之后，在陽極發(fā)光區(qū)表面會(huì)有一些光阻殘留，導(dǎo)致打印時(shí)墨水的鋪展性變差。一般會(huì)用氧化性氣體的等離子體處理方法將陽極發(fā)光區(qū)表面的光阻殘留去除，同時(shí)增大陽極表面的功函數(shù)；但由于Bank表面疏水層很薄，且處理過后Bank材料的表面能急劇增大，導(dǎo)致Bank丟失疏水性。

因此，亟需提供一種新的顯示面板及其制備方法、顯示裝置，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

本申請(qǐng)實(shí)施例提供一種顯示面板及其制備方法、顯示裝置，通過在陽極與疏水層之間配置犧牲層，利用犧牲層分隔陽極與疏水層，從而解決陽極上有疏水材料殘留的問題，改善打印墨水的鋪展性。

本申請(qǐng)?zhí)峁┮环N顯示面板，包括一陣列基板，所述顯示面板還包括：陽極，所述陽極設(shè)置于所述陣列基板上并與所述陣列基板電性連接；犧牲層，所述犧牲層設(shè)置于所述陽極的表面上，以暴露所述陽極的部分表面；以及，疏水層，所述疏水層設(shè)置于所述犧牲層上，并覆蓋所述犧牲層及暴露的所述陣列基板；其中，所述疏水層具有多個(gè)開口以暴露所述陽極的部分表面。

在一些實(shí)施例中，所述疏水層的材料為疏水性有機(jī)光阻。

在一些實(shí)施例中，所述疏水性有機(jī)光阻為聚酰亞胺系、亞克力系中的任一種。

在一些實(shí)施例中，所述犧牲層包括在不損傷所述疏水層的水溶性或有機(jī)溶液中可緩慢溶解的材料。

在一些實(shí)施例中，所述犧牲層的材料為氧化鎢。

在一些實(shí)施例中，所述陽極的材料為氧化銦錫、氧化銦鋅及氧化鎢中的至少一種與金屬的組合。

本申請(qǐng)還提供一種顯示裝置，包括如上所述的顯示面板。

本申請(qǐng)還提供一種如上所述的顯示面板的制備方法，所述制備方法包括如下步驟：