[發明專利]顯示面板及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 202011257564.5
• 申請日: 2020-11-12
• 公開（公告）號: CN112420946A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 張樂陶
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

1.一種顯示面板，包括一陣列基板，其特征在于，所述顯示面板還包括：

陽極，所述陽極設置于所述陣列基板上并與所述陣列基板電性連接；

犧牲層，所述犧牲層設置于所述陽極的表面上，以暴露所述陽極的部分表面；以及，

疏水層，所述疏水層設置于所述犧牲層上，并覆蓋所述犧牲層及暴露的所述陣列基板；其中，

所述疏水層具有多個開口以暴露所述陽極的部分表面。

2.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述疏水層的材料為疏水性有機光阻。

3.根據權利要求2所述的顯示面板，其特征在于，所述疏水性有機光阻為聚酰亞胺系、亞克力系中的任一種。

4.根據權利要求3所述的顯示面板，其特征在于，所述犧牲層包括在不損傷所述疏水層的水溶性或有機溶液中可緩慢溶解的材料。

5.根據權利要求4所述的顯示面板，其特征在于，所述犧牲層的材料為氧化鎢。

6.根據權利要求1所述的顯示面板，其特征在于，所述陽極的材料為氧化銦錫、氧化銦鋅及氧化鎢中的至少一種與金屬的組合。

7.一種顯示裝置，其特征在于，包括如權利要求1至6中任一項所述的顯示面板。

8.一種如權利要求1至6中任一項所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：

提供一陣列基板并在所述陣列基板上層疊形成一陽極和一犧牲層；

通過噴墨打印在所述犧牲層上形成疏水層，所述疏水層具有多個開口以暴露所述犧牲層；以及，

通過濕法刻蝕將所述開口暴露的所述犧牲層刻蝕掉以露出所述陽極。

9.根據權利要求8所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在所述陣列基板上層疊形成一陽極和一犧牲層的步驟中，還包括如下步驟：

在所述陣列基板上層疊形成一金屬層和一犧牲材料層；

在所述犧牲材料層背離所述金屬層一側的表面上涂覆光阻材料并進行光刻以形成一光阻層；

以所述光阻層為阻擋層，對所述金屬層及所述犧牲材料層進行圖案化處理后并去除所述光阻層，以分別形成一陽極及一犧牲層。

10.根據權利要求8所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，在通過濕法刻蝕將所述開口暴露的所述犧牲層刻蝕掉以露出所述陽極的步驟中，進行濕法蝕刻的蝕刻液為用于溶解所述犧牲層且不損傷所述疏水層的水溶性或有機溶液。