[發明專利]陣列基板及其制備方法

在審

• 申請號: 202011247307.3
• 申請日: 2020-11-10
• 公開（公告）號: CN112415799A
• 公開（公告）日: 2021-02-26
• 發明（設計）人: 劉煌正
• 申請（專利權）人: TCL華星光電技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G03F7/09;C23F1/26;C23F1/02
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 高楊麗

本發明公開了一種陣列基板及其制備方法，該制備方法包括：沿垂直于玻璃基板的方向，在所述玻璃基板上依次鋪設隔離層、金屬層和光阻膜層；對所述光阻膜層進行曝光顯影處理；對所述隔離層和所述金屬層進行初蝕刻處理；對所述金屬層進行二次蝕刻處理，使得沿所述玻璃基板的平面方向，所述隔離層的外周與所述金屬層的外周之間的間距為0.1?0.8μm；去除所述光阻膜層。本發明的制備方法簡單，所制備得到的陣列基板在應用過程中，能夠顯著改善液晶面板的暗態漏光現象，提升產品對比度。

技術領域

本發明涉及液晶面板技術領域，具體涉及一種陣列基板及其制備方法。

背景技術

液晶面板(Liquid Crystal Display，LCD)是決定液晶顯示器亮度、對比度、色彩、可視角度的材料，液晶面板的質量、技術的好壞關系到液晶顯示器整體性能的高低。

LCD面板中，通常包括兩片大玻璃基板，兩片玻璃基板之間設有由液晶、彩色濾波片、配向膜等制成的夾板，兩片玻璃基板外側對應設置有兩片偏光板。背光經過下偏光板后成為線偏振光，其掠過金屬線邊緣時，由于金屬消偏作用，線偏振光會成為橢圓偏振光，這種情況導致會有光線可以通過上偏光板，從而造成暗態漏光，嚴重影響產品的對比度。

改善金屬漏光的方法有很多，諸如改變金屬線的材料(銀、鋁、銅等)、降低金屬線的厚度、降低金屬線邊緣的傾角等。上述方法能夠一定程度上改善金屬漏光的情況，但其效果有待進一步提高；并且，改變金屬線材料和/或金屬線厚度，可能會導致金屬線本身的性能發生變化。

發明內容

本發明實施例提供一種陣列基板及其制備方法，以解決現有技術中液晶面板存在金屬漏光現象而影響產品質量的技術問題。

一方面，本發明提供一種陣列基板的制備方法，包括：沿垂直于玻璃基板的方向，在玻璃基板上依次鋪設隔離層、金屬層和光阻膜層；

對光阻膜層進行曝光顯影處理；

對隔離層和金屬層進行初蝕刻處理；

對金屬層進行二次蝕刻處理，使得沿玻璃基板的平面方向，隔離層的外周與金屬層的外周之間的間距為0.1-0.8μm；

去除光阻膜層。

在玻璃基板的一側順序鋪設隔離層、金屬層和光阻膜層，其具體的鋪設方法可以采用化學沉積、濺射或其他常規方式，只要能夠滿足要求即可。對光阻膜層進行顯影處理和剝離的方式采用目前常規方式即可。其中，金屬層上鋪設的光阻膜層的厚度和范圍大小可根據金屬層和隔離層的形狀或蝕刻范圍適應性設置。

在進行初蝕刻處理時，對隔離層和金屬層同時進行蝕刻處理。在進行初蝕刻處理時，沿玻璃基板的平面方向，隔離層的外周和金屬層的外周之間的間距約為零或相差較小距離。通常來說，隔離層的外周和對應的玻璃基板邊緣之間的距離略小于金屬層的外周與對應的玻璃基板邊緣之間的距離。

當二次蝕刻處理時，隔離層不被蝕刻處理，隔離層的外周與對應的玻璃基板邊緣之間的距離保持不變。僅只對金屬層進行蝕刻處理，使得金屬層的外周與對應的玻璃基板邊緣之間的距離擴大。則沿玻璃基板的平面方向，能夠調控隔離層的外周與金屬層的外周之間的間距L保持在0.1-0.8μm。

其中，形成隔離層的材料為鉬、鈦、鈮和鉈中的至少兩種。金屬層為銅層、銀層或其他能夠作為電極的金屬層狀物。通常情況下，金屬層為銅層。形成隔離層的材料采用鉬、鈦、鈮和鉈中的至少兩種，形成合金隔離層，采用此種材料的隔離層，不僅能夠有利于增強金屬層與玻璃基板之間的粘附能力；同時，在兩步蝕刻的處理過程中，還有利于二次蝕刻處理時，在蝕刻金屬層的同時，隔離層不易被蝕刻，易于二次蝕刻處理時試劑的選擇和蝕刻過程的控制。

采用上述兩步蝕刻的處理方法，能夠精準地控制隔離層的外周與金屬層的外周之間的間距，減少或避免線偏振光掠過金屬層側部邊緣，從而有效改善金屬暗態漏光的現象，能夠提升LCD產品的對比度。