[發明專利]一種納米級磁性顆粒及其制備方法

有效

• 申請號: 202011247058.8
• 申請日: 2020-11-10
• 公開（公告）號: CN113380526B
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 請求不公布姓名
• 申請（專利權）人: 美國發現集團有限公司
• 主分類號: H01F41/02
• 分類號: H01F41/02;B82Y5/00;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 王曉坤

本申請公開了一種納米級磁性顆粒制備方法，包括獲得襯底，且襯底的上表面具有微米級的孔；在襯底的上表面形成疏水層；在疏水層的上表面形成厚度為納米級的磁性膜層，得到處理后襯底；分離處理后襯底中的磁性膜層，并對分離后磁性膜層進行研磨，得到納米級磁性顆粒。在具有微米級的孔的襯底上先形成一層疏水層，然后再形成一層厚度在納米級的磁性膜層，得到處理后襯底，再將磁性膜層從處理后襯底上分離下來，并研磨磁性膜層，便得到納米級磁性顆粒，整個制備過程工藝穩定，保證納米級磁性顆粒的質量，且均勻性好，產量高，可實現批量生產，襯底可以重復使用，降低生產成本，并且整個過程環保。本申請還提供一種具有上述優點的納米級磁性顆粒。

技術領域

本申請涉及生物醫療材料技術領域，特別是涉及一種納米級磁性顆粒及其制備方法。

背景技術

磁性納米顆粒具有很高的比表面積，且本身又具有磁響應性和生物親和性等，在生物分離、靶向載藥、血管超聲造影等方向有很大的應用前景，成為生物醫療研究領域中的研究熱點。

目前在生物醫療方面，對于制備微米級的顆粒是比較容易的，可以采用物理或者化學的制備方法，而對于納米級的顆粒的研究較少，還處于實驗室研究階段，采用化學或陽極氧化的方法進行制備，生產過程有較多不可控因素，生產成本高，同時產量又低，不能實現批量生產，并且制備過程容易對環境造成污染。

因此，如何解決上述技術問題應是本領技術人員重點關注的。

發明內容

本申請的目的是提供一種納米級磁性顆粒及其制備方法，以實現磁性納米顆粒的批量生產，降低生產成本，且生產過程無污染。

為解決上述技術問題，本申請提供一種納米級磁性顆粒制備方法，包括：

獲得襯底，且所述襯底的上表面具有微米級的孔；

在所述襯底的上表面形成疏水層；

在所述疏水層的上表面形成厚度為納米級的磁性膜層，得到處理后襯底；

分離所述處理后襯底中的所述磁性膜層，并對分離后磁性膜層進行研磨，得到納米級磁性顆粒。

可選的，在所述疏水層的上表面形成厚度為納米級的磁性膜層，得到處理后襯底之前，還包括：

利用離子轟擊所述疏水層的上表面。

可選的，所述獲得襯底，且所述襯底的上表面具有微米級的孔包括：

獲得基板；

對所述基板進行光刻，得到所述襯底。

可選的，在獲得基板之后，還包括：

在所述基板的上表面形成介質層；

相應的，對所述基板進行光刻，得到所述襯底包括：

對所述介質層進行光刻，得到所述襯底。

可選的，在所述基板的上表面形成介質層包括：

利用涂膠法或者真空磁控濺射法，在所述基板的上表面形成所述介質層。

可選的，獲得基板之前，還包括：

對所述基板進行清洗。

可選的，在所述疏水層的上表面形成厚度為納米級的磁性膜層包括：

利用真空磁控濺射法、涂膠法、噴涂法、印刷法中的任一種方法，在所述疏水層的上表面形成所述磁性膜層。

可選的，所述磁性膜層包括下述任一種或者任意組合膜層：

鐵膜層、鈦膜層、鈷膜層、鎳膜層、不銹鋼膜層。

可選的，所述疏水層為下述任一種膜層：