[發明專利]氣足

有效

• 申請號: 202011243535.3
• 申請日: 2020-11-10
• 公開（公告）號: CN112065858B
• 公開（公告）日: 2021-01-29
• 發明（設計）人: 江旭初;袁嘉欣;吳火亮
• 申請（專利權）人: 上海隱冠半導體技術有限公司
• 主分類號: F16C32/06
• 分類號: F16C32/06
• 代理公司: 上海上谷知識產權代理有限公司 31342
• 代理人: 蔡繼清

本發明公開了一種氣足。本發明中，氣足包括：氣足本體，氣足本體呈矩形板狀，且氣足本體的四個角部設有倒角面；氣足本體的底面上開設有第一環形泄氣槽和第二環形泄氣槽，第一環形泄氣槽與第二環形泄氣槽同軸設置且相對于第二環形泄氣槽徑向向內間隔開，在第一環形泄氣槽和第二環形泄氣槽之間形成氣浮區；氣足本體的底面上還具有位于第二環形泄氣槽內的真空預載區；氣足本體的各側面和/或各倒角面上均開設有泄氣口；氣足本體內開設有與第一環形泄氣槽和第二環形泄氣槽相連通的多個泄氣通道；多個泄氣通道分別與各泄氣口連通。與現有技術相比，使得氣足性能穩定，結構簡單，安裝使用方便，加工成本低。

技術領域

本發明實施例涉及精密設備技術領域，特別涉及氣足。

背景技術

氣足是為精密運動臺提供氣浮軸承支撐、以保證運動臺在平臺( 一般為大理石平臺)上作無摩擦運動的關鍵部件，其包括氣浮結構和真空預緊力結構。

圖1所示為現有技術的一種方形氣足，該方形氣足的氣足板103的底面四個角為氣浮結構101a、101b、101c、101d，中心為真空預緊力結構102，氣浮結構101a、101b、101c、101d與真空預緊力結構102由氣足板103加工成一體。如圖 2 所示，氣足工作時，氣浮結構101a、101b、101c、101d通入正壓氣體，在氣足與平臺201之間形成氣膜，使氣足受到氣浮力N的支撐，保證氣足在平臺201上作無摩擦運動，而真空預緊力結構102則通入真空，使氣足受到與氣浮力N方向相反的真空預緊力F的作用，調節氣浮力N及真空預緊力F的大小，可調節氣足的氣浮剛度。

上述現有技術的方形氣足結構的特點是，若要提高氣足的氣浮剛度，需同時增加氣浮力N和真空預緊力F，而增加真空預緊力F會導致氣足板103的中部產生彎曲(如圖2中的虛線所示 )，如圖3所示，布置在方形氣足結構四角的氣浮結構101的變形量不均勻，導致整個氣足性能不穩定，容易產生氣振或者嘯叫，從而影響精密運臺的性能。

在專利CN201110053278中，針對方形氣足變形不均勻的問題，提出另外一種該領域的氣足解決方案。該發明提供一種分體式氣足，氣浮結構與真空預緊力結構分離，避免氣足板在受到真空預緊力作用時產生彎曲變形，對氣浮區域產生的影響，但該氣足方案結構非常復雜，加工成本高，裝調困難。

發明內容

本發明實施方式的目的在于提供一種氣足，使得氣足性能穩定，結構簡單，安裝使用方便，加工成本低。

為解決上述技術問題，本發明的實施方式提供了一種氣足，包括：氣足本體，所述氣足本體呈矩形板狀，且所述矩形板狀的氣足本體的四個角部設有倒角面；

所述氣足本體的底面上開設有第一環形泄氣槽和第二環形泄氣槽，所述第一環形泄氣槽與所述第二環形泄氣槽同軸設置且相對于所述第二環形泄氣槽徑向向內間隔開，在所述第一環形泄氣槽和所述第二環形泄氣槽之間設置氣浮區；

所述氣足本體的底面上還具有位于所述第二環形泄氣槽內的真空預載區；

所述氣足本體的各側面和各倒角面上均開設有泄氣口；所述氣足本體內開設有與所述第一環形泄氣槽和所述第二環形泄氣槽相連通的多個泄氣通道；所述多個泄氣通道分別與各泄氣口連通。