[發明專利]一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應用其的烹飪設備

在審

• 申請號: 202011239294.5
• 申請日: 2020-11-09
• 公開（公告）號: CN112484102A
• 公開（公告）日: 2021-03-12
• 發明（設計）人: 麥偉添;潘葉江
• 申請（專利權）人: 華帝股份有限公司
• 主分類號: F24C14/00
• 分類號: F24C14/00;B08B3/02;B08B13/00
• 代理公司: 深圳市合道英聯專利事務所(普通合伙) 44309
• 代理人: 廉紅果

本發明提供了一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應用其的烹飪設備，用于烹飪設備，包括：S1，采集至少兩次所述烹飪設備的內腔氧濃度，并計算第一次與最后一次的內腔氧濃度的差值；S2，根據內腔氧濃度的差值，控制清潔裝置的運行狀態，清潔裝置包括采集裝置，用于采集至少兩次所述烹飪設備內腔中的氧氣濃度；控制器，接收所述采集裝置采集的前后兩次氧氣濃度，并計算獲得前后兩次氧氣濃度的差值，并控制所述清潔裝置；清潔裝置，接收所述的控制器的指令，用于對所述的烹飪設備的內腔進行清潔操作，利用清潔控制方法對烹飪設備的內腔油污濃度進行清理。

技術領域

本發明涉及廚房烹飪設備技術領域，尤其涉及一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應用其的烹飪設備。

背景技術

日常生活中，用戶使用帶清潔功能的烹飪設備對內腔區域進行清潔，能減少人力的投入，節省用戶的清潔時間；普通的烹飪設備通過烹飪設備的控制面板設置烹飪設備的清潔時長，烹飪設備根據清潔時長對內腔進行清潔，僅僅只是對內腔進行了平均清潔，但并未有針對性清潔，對于污漬較多的區域，用戶仍需要手動進行操作，明顯降低了用戶的使用體驗。

發明內容

本發明的目的在于提供一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應用其的烹飪設備，其可克服上述不能針對污漬較嚴重的區域進行針對性清潔等問題。

為實現上述目的，本發明的解決方案為：

一種清潔控制方法，用于烹飪設備，包括：

S1，采集至少兩次所述烹飪設備的內腔氧濃度，并計算第一次與最后一次的內腔氧濃度的差值；

S2，根據內腔氧濃度的差值，控制清潔裝置的運行狀態。

進一步地，在步驟S1中，采集兩次所述烹飪設備的內腔氧濃度的方法包括：

采集兩次所述烹飪設備開啟預熱模式前和預熱模式完成之后的內腔氧濃度。

進一步地，在步驟S1中，獲得內腔氧濃度差值的方法包括：

獲得第一氧濃度值和第二氧濃度值，并將所述第一氧濃度值和第二氧濃度值傳輸至控制器，計算所述第一氧濃度與第二氧濃度的差值，并獲得前后兩次氧濃度差值；

進一步地，根據所述前后兩次氧濃度差值，控制清潔裝置的運行狀態的方法包括：

根據所述前后兩次氧濃度差值的不同，控制所述清潔裝置的出水水溫、噴淋次數以及噴淋時間。

進一步地，根據兩次的內腔氧濃度的差值，確定清潔裝置的運行狀態的方法還包括：

根據前后兩次的內腔氧濃度的差值，確定所述烹飪設備內腔中的油污濃度。

一種清潔控制裝置，其包括上述任一項所述的一種清潔控制方法：

采集裝置，用于采集至少兩次所述烹飪設備內腔中的氧氣濃度；

控制器，接收所述采集裝置采集的前后兩次氧氣濃度，并計算獲得前后兩次氧氣濃度的差值，并控制所述清潔裝置；

清潔裝置，接收所述的控制器的指令，用于對所述的烹飪設備的內腔進行清潔操作。

一種烹飪設備，包括上述所述的一種清潔控制裝置。

進一步地，所述清潔裝置為噴淋清潔裝置或蒸汽噴洗裝置。

采用上述技術方案后，利用采集裝置采集烹飪設備內腔中前后兩次的氧濃度，并計算得到前后兩次的氧濃度差值，根據該差值確定清潔裝置的運行狀態，可對內腔進行精確的清洗，對油污較重的區域進行重點清潔，而且清潔裝置的清潔時長能隨著內腔油污濃度的不同而改變，簡化了用戶對烹飪設備的清潔操作，而且提高了用戶的烹飪體驗。

附圖說明