[發(fā)明專利]一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應(yīng)用其的烹飪設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011239294.5 | 申請日： | 2020-11-09 |
| 公開（公告）號： | CN112484102A | 公開（公告）日： | 2021-03-12 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 麥偉添;潘葉江 | 申請（專利權(quán)）人： | 華帝股份有限公司 |
| 主分類號： | F24C14/00 | 分類號： | F24C14/00;B08B3/02;B08B13/00 |
| 代理公司： | 深圳市合道英聯(lián)專利事務(wù)所(普通合伙) 44309 | 代理人： | 廉紅果 |
| 地址： | 528400 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 清潔 控制 方法 裝置 應(yīng)用 烹飪 設(shè)備 | ||
本發(fā)明提供了一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應(yīng)用其的烹飪設(shè)備，用于烹飪設(shè)備，包括：S1，采集至少兩次所述烹飪設(shè)備的內(nèi)腔氧濃度，并計算第一次與最后一次的內(nèi)腔氧濃度的差值；S2，根據(jù)內(nèi)腔氧濃度的差值，控制清潔裝置的運行狀態(tài)，清潔裝置包括采集裝置，用于采集至少兩次所述烹飪設(shè)備內(nèi)腔中的氧氣濃度；控制器，接收所述采集裝置采集的前后兩次氧氣濃度，并計算獲得前后兩次氧氣濃度的差值，并控制所述清潔裝置；清潔裝置，接收所述的控制器的指令，用于對所述的烹飪設(shè)備的內(nèi)腔進行清潔操作，利用清潔控制方法對烹飪設(shè)備的內(nèi)腔油污濃度進行清理。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及廚房烹飪設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應(yīng)用其的烹飪設(shè)備。
背景技術(shù)
日常生活中，用戶使用帶清潔功能的烹飪設(shè)備對內(nèi)腔區(qū)域進行清潔，能減少人力的投入，節(jié)省用戶的清潔時間；普通的烹飪設(shè)備通過烹飪設(shè)備的控制面板設(shè)置烹飪設(shè)備的清潔時長，烹飪設(shè)備根據(jù)清潔時長對內(nèi)腔進行清潔，僅僅只是對內(nèi)腔進行了平均清潔，但并未有針對性清潔，對于污漬較多的區(qū)域，用戶仍需要手動進行操作，明顯降低了用戶的使用體驗。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種清潔控制方法、清潔控制裝置及應(yīng)用其的烹飪設(shè)備，其可克服上述不能針對污漬較嚴重的區(qū)域進行針對性清潔等問題。
為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明的解決方案為：
一種清潔控制方法，用于烹飪設(shè)備，包括：
S1，采集至少兩次所述烹飪設(shè)備的內(nèi)腔氧濃度，并計算第一次與最后一次的內(nèi)腔氧濃度的差值；
S2，根據(jù)內(nèi)腔氧濃度的差值，控制清潔裝置的運行狀態(tài)。
進一步地，在步驟S1中，采集兩次所述烹飪設(shè)備的內(nèi)腔氧濃度的方法包括：
采集兩次所述烹飪設(shè)備開啟預(yù)熱模式前和預(yù)熱模式完成之后的內(nèi)腔氧濃度。
進一步地，在步驟S1中，獲得內(nèi)腔氧濃度差值的方法包括：
獲得第一氧濃度值和第二氧濃度值，并將所述第一氧濃度值和第二氧濃度值傳輸至控制器，計算所述第一氧濃度與第二氧濃度的差值，并獲得前后兩次氧濃度差值；
進一步地，根據(jù)所述前后兩次氧濃度差值，控制清潔裝置的運行狀態(tài)的方法包括：
根據(jù)所述前后兩次氧濃度差值的不同，控制所述清潔裝置的出水水溫、噴淋次數(shù)以及噴淋時間。
進一步地，根據(jù)兩次的內(nèi)腔氧濃度的差值，確定清潔裝置的運行狀態(tài)的方法還包括：
根據(jù)前后兩次的內(nèi)腔氧濃度的差值，確定所述烹飪設(shè)備內(nèi)腔中的油污濃度。
一種清潔控制裝置，其包括上述任一項所述的一種清潔控制方法：
采集裝置，用于采集至少兩次所述烹飪設(shè)備內(nèi)腔中的氧氣濃度；
控制器，接收所述采集裝置采集的前后兩次氧氣濃度，并計算獲得前后兩次氧氣濃度的差值，并控制所述清潔裝置；
清潔裝置，接收所述的控制器的指令，用于對所述的烹飪設(shè)備的內(nèi)腔進行清潔操作。
一種烹飪設(shè)備，包括上述所述的一種清潔控制裝置。
進一步地，所述清潔裝置為噴淋清潔裝置或蒸汽噴洗裝置。
采用上述技術(shù)方案后，利用采集裝置采集烹飪設(shè)備內(nèi)腔中前后兩次的氧濃度，并計算得到前后兩次的氧濃度差值，根據(jù)該差值確定清潔裝置的運行狀態(tài)，可對內(nèi)腔進行精確的清洗，對油污較重的區(qū)域進行重點清潔，而且清潔裝置的清潔時長能隨著內(nèi)腔油污濃度的不同而改變，簡化了用戶對烹飪設(shè)備的清潔操作，而且提高了用戶的烹飪體驗。
附圖說明
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