[發明專利]一種修整邊緣拋光墊的系統及方法在審
| 申請號: | 202011238390.8 | 申請日: | 2020-11-09 |
| 公開(公告)號: | CN112372508A | 公開(公告)日: | 2021-02-19 |
| 發明(設計)人: | 徐全 | 申請(專利權)人: | 西安奕斯偉硅片技術有限公司;西安奕斯偉材料技術有限公司 |
| 主分類號: | B24B53/017 | 分類號: | B24B53/017 |
| 代理公司: | 西安維英格知識產權代理事務所(普通合伙) 61253 | 代理人: | 沈寒酉;王渝 |
| 地址: | 710065 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 修整 邊緣 拋光 系統 方法 | ||
1.一種修整邊緣拋光墊的方法,其特征在于,所述方法包括:
將未被使用的新拋光墊安裝在拋光墊底板;
在針對待拋光晶圓執行圓邊拋光工藝單元之前,將所述新拋光墊與待拋光晶圓具有相同形狀以及相同尺寸規格的修整器相接觸;
通過所述新拋光墊與所述修整器之間的相對運動,以修整所述新拋光墊表面的形貌。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述修整器的直徑范圍為300±0.1毫米mm;厚度值為790±10微米μm。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述修整器的材質為陶瓷,且所述修整器與所述新拋光墊相接觸的邊緣表面為分布有微型齒輪形貌的非光滑面。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,在所述新拋光墊與所述修整器之間進行相對運動的過程中,所述方法還可以包括:向所述處于相對運動過程中的所述新拋光墊供給去離子水DIW。
5.一種修整邊緣拋光墊的系統,其特征在于,所述系統包括:用于放置并固定修整器的固定底板,與所述固定底板剛性連接的固定底板傳動桿,拋光頭以及與所述拋光頭剛性連接的拋光頭傳動桿;其中,所述拋光頭包括:形成開口空間的殼體以及在所述殼體內側邊緣且沿豎直方向設置的多組拋光墊底板;每組拋光墊底板形成與所述修整器的邊緣圓邊相適配的空間以容置所述修整器的邊緣圓邊,并且所述拋光墊底板在所述固定底板邊緣對向設置,對向設置的距離與所述修整器的直徑相關;每組中的每個拋光墊底板均安裝有未被使用的新拋光墊。
6.根據權利要求5所述的系統,其特征在于,所述將所述新拋光墊與所述修整器相接觸;利用所述固定底板傳動桿以及所述拋光頭傳動桿繞軸旋轉的旋轉速度差,使得所述新拋光墊與所述修整器之間產生相對運動,以修整所述新拋光墊表面的形貌。
7.根據權利要求6所述的系統,其特征在于,所述固定底板傳動桿按照每分鐘5至30轉的速度繞其中心軸線進行第一旋轉;所述拋光頭傳動桿按照每分鐘100至500轉的速度繞其中心軸線進行第二旋轉;所述第一旋轉以及所述第二旋轉之間基于轉速差形成所述相對運動。
8.根據權利要求6或7所述的系統,其特征在于,所述相對運動的持續時間為1至2分鐘。
9.根據權利要求5所述的系統,其特征在于,所述修整器的直徑范圍為300±0.1毫米mm;厚度值為790±10微米μm。
10.根據權利要求5所述的系統,其特征在于,所述修整器的材質為陶瓷,且所述修整器與所述新拋光墊相接觸的邊緣表面為分布有微型齒輪形貌的非光滑面。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于西安奕斯偉硅片技術有限公司;西安奕斯偉材料技術有限公司,未經西安奕斯偉硅片技術有限公司;西安奕斯偉材料技術有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011238390.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





