[發(fā)明專(zhuān)利]光學(xué)元件、顯示模組及降低光學(xué)元件表面反射率的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011237263.6 | 申請(qǐng)日： | 2020-11-06 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN112305643A | 公開(kāi)（公告）日： | 2021-02-02 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 于佳;王旭;陳益千 | 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人： | 深圳惠?？萍加邢薰?/a> |
| 主分類(lèi)號(hào)： | G02B1/11 | 分類(lèi)號(hào)： | G02B1/11;G02B5/30 |
| 代理公司： | 深圳市恒程創(chuàng)新知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44542 | 代理人： | 苗廣冬 |
| 地址： | 518101 廣東省深圳市寶安區(qū)新安*** | 國(guó)省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 光學(xué) 元件 顯示 模組 降低 表面 反射率 方法 | ||
本發(fā)明公開(kāi)一種光學(xué)元件、顯示模組及降低光學(xué)元件表面反射率的方法，其中，所述光學(xué)元件包括基材和設(shè)于所述基材至少一個(gè)表面的多層膜層；所述膜層包括低折射率膜層、中折射率膜層和高折射率膜層中的至少兩種；多層所述膜層中，任意相鄰兩所述膜層的折射率不同；在所述基材的厚度方向上，設(shè)定距離所述基材最遠(yuǎn)的膜層為外層膜層，設(shè)定距離所述外層膜層與所述基材之間的膜層均為內(nèi)層膜層；所述外層膜層為低折射率膜層，且與所述基材相貼合的內(nèi)層膜層為中折射率膜層或低折射率膜層。本發(fā)明技術(shù)方案的光學(xué)元件可降低P光和S光的反射率。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及光學(xué)器件技術(shù)領(lǐng)域，特別涉及一種光學(xué)元件、顯示模組及降低光學(xué)元件表面反射率的方法。
背景技術(shù)
目前，在折疊光路或者pancake光路中，為了提高成像質(zhì)量，對(duì)偏光片和相位延遲器的性能要求越來(lái)越高。目前，偏光片主要是偏振偏光元件PBS(polarization beamsplitter)，相位延遲器優(yōu)選四分之一波片QWP(quarter wave plate)，為解決將上述器件單獨(dú)暴露于空氣中因菲涅爾反射造成的鬼影，通常使用QWP與PBS貼合的方式，但是一般地，PBS是由布拉格型反射偏振膜APF(Advanced Polarizer Film)和偏光片POL(Polarizer)貼合而成，APF表面材料具有雙折射特性，且QWP與APF之間存在著折射率差異，如此，還是會(huì)存在較大的菲涅爾反射，以透P偏振光反S偏振光為參考，不能很好地降低P偏振光的反射率，在成像系統(tǒng)的光路中產(chǎn)生鬼影，影響人眼觀察主像的清晰度和舒適度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是提供一種光學(xué)元件，旨在解決其表面反射率高的技術(shù)問(wèn)題。
為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提出的光學(xué)元件包括基材和設(shè)于所述基材至少一個(gè)表面的多層膜層；所述膜層包括低折射率膜層、中折射率膜層和高折射率膜層中的至少兩種；多層所述膜層中，任意相鄰兩所述膜層的折射率不同；在所述基材的厚度方向上，設(shè)定距離所述基材最遠(yuǎn)的膜層為外層膜層，設(shè)定距離所述外層膜層與所述基材之間的膜層均為內(nèi)層膜層；所述外層膜層為低折射率膜層，且與所述基材相貼合的內(nèi)層膜層為中折射率膜層或低折射率膜層。
可選的實(shí)施例中，所述內(nèi)層膜層為中折射率膜層和高折射率膜層交替疊設(shè)；或，所述內(nèi)層膜層為高折射率和低折射率膜層交替疊設(shè)。
可選的實(shí)施例中，所述膜層的層數(shù)范圍為5～9層。
可選的實(shí)施例中，多層所述膜層的總厚度范圍為250nm-400nm；和/或，
每層所述膜層的厚度范圍為2nm-200nm。
可選的實(shí)施例中，所述光學(xué)元件包括：偏振元件或相位延遲元件。
本發(fā)明還提出一種降低光學(xué)元件表面反射率的方法，該方法包括以下步驟：
采用鍍膜方式在所述基材的至少一個(gè)表面鍍多層膜層，得到鍍膜后的光學(xué)元件；其中，所述膜層包括低折射率膜層、中折射率膜層和高折射率膜層中的至少兩種；多層所述膜層中，任意相鄰兩所述膜層的折射率不同；在所述基材的厚度方向上，設(shè)定距離所述基材最遠(yuǎn)的膜層為外層膜層，設(shè)定距離所述外層膜層與所述基材之間的膜層均為內(nèi)層膜層；所述外層膜層為低折射率膜層，且與所述基材相貼合的內(nèi)層膜層為中折射率膜層或低折射率膜層；
將所述鍍膜后的光學(xué)元件應(yīng)用到特定光路，并將給定入射光入射至所述特定光路的所述鍍膜后的光學(xué)元件上，以降低所述入射光經(jīng)過(guò)所述鍍膜后的光學(xué)元件時(shí)的表面反射率。
可選的實(shí)施例中，所述內(nèi)層膜層為中折射率膜層和高折射率膜層交替疊設(shè)；或，所述內(nèi)層膜層為高折射率和低折射率膜層交替疊設(shè)。
可選的實(shí)施例中，所述膜層的層數(shù)范圍為5～9層，
多層所述膜層的總厚度范圍為250nm-400nm；和/或，每層所述膜層的厚度范圍為2nm-200nm。
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