[發明專利]光學元件、顯示模組及降低光學元件表面反射率的方法

在審

• 申請號: 202011237263.6
• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN112305643A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 于佳;王旭;陳益千
• 申請（專利權）人: 深圳惠牛科技有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11;G02B5/30
• 代理公司: 深圳市恒程創新知識產權代理有限公司 44542
• 代理人: 苗廣冬

1.一種光學元件，其特征在于，所述光學元件包括基材和設于所述基材至少一個表面的多層膜層；所述膜層包括低折射率膜層、中折射率膜層和高折射率膜層中的至少兩種；多層所述膜層中，任意相鄰兩所述膜層的折射率不同；在所述基材的厚度方向上，設定距離所述基材最遠的膜層為外層膜層，設定距離所述外層膜層與所述基材之間的膜層均為內層膜層；所述外層膜層為低折射率膜層，且與所述基材相貼合的內層膜層為中折射率膜層或低折射率膜層。

2.如權利要求1所述的光學元件，其特征在于，所述光學元件包括：偏振元件或相位延遲元件。

3.如權利要求1所述的光學元件，其特征在于，所述內層膜層為中折射率膜層和高折射率膜層交替疊設；或，所述內層膜層為高折射率和低折射率膜層交替疊設。

4.如權利要求1至3中任一項所述的光學元件，其特征在于，所述膜層的層數范圍為5～9層。

5.如權利要求4所述的光學元件，其特征在于，多層所述膜層的總厚度范圍為250nm-400nm；和/或，每層所述膜層的厚度范圍為2nm-200nm。

6.一種降低光學元件表面反射率的方法，所述光學元件包括：基材；其特征在于，包括以下步驟：

采用鍍膜方式在所述基材的至少一個表面鍍多層膜層，得到鍍膜后的光學元件；其中，所述膜層包括低折射率膜層、中折射率膜層和高折射率膜層中的至少兩種；多層所述膜層中，任意相鄰兩所述膜層的折射率不同；在所述基材的厚度方向上，設定距離所述基材最遠的膜層為外層膜層，設定距離所述外層膜層與所述基材之間的膜層均為內層膜層；所述外層膜層為低折射率膜層，且與所述基材相貼合的內層膜層為中折射率膜層或低折射率膜層；

將所述鍍膜后的光學元件應用到特定光路，并將給定入射光入射至所述特定光路的所述鍍膜后的光學元件上，以降低所述入射光經過所述鍍膜后的光學元件時的表面反射率。

7.如權利要求6所述的降低光學元件表面反射率的方法，其特征在于，所述內層膜層為中折射率膜層和高折射率膜層交替疊設；或，所述內層膜層為高折射率和低折射率膜層交替疊設。

8.如權利要求6所述的降低光學元件表面反射率的方法，其特征在于，所述膜層的層數范圍為5～9層；

多層所述膜層的總厚度范圍為250nm-400nm；和/或，每層所述膜層的厚度范圍為2nm-200nm。

9.如權利要求6所述的降低光學元件表面反射率的方法，其特征在于，所述光學元件包括：偏振元件或相位延遲元件。

10.如權利要求6所述的降低光學元件表面反射率的方法，其特征在于，所述特定光路為虛擬現實領域的折疊光路。

11.一種顯示模組，其特征在于，包括如權利要求1至5中任一項所述的光學元件。