[發明專利]一種SAZO合金靶材的制備方法在審
| 申請號: | 202011230860.6 | 申請日: | 2020-11-06 |
| 公開(公告)號: | CN114438460A | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發明(設計)人: | 黃永香 | 申請(專利權)人: | 湖南七點鐘文化科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35;C23C14/14 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李偉 |
| 地址: | 410300 湖南省湘潭*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 sazo 合金 制備 方法 | ||
本發明提供了一種SAZO合金靶材的制備方法,包括以下步驟:A)將氧化鋅、氧化錫和氧化鋁置于真空滾動混料機中混合,得到混合物;B)將所述混合物進行真空熱壓燒結,得到SAZO合金靶材粗品;C)將所述SAZO合金靶材粗品進行退火,再進行固化靜壓,得到SAZO合金靶材。本申請制備了具有組織均勻晶粒細小、高耐熱沖擊性能的SAZO合金靶材,該種合金靶材作為旋轉靶真空鍍膜,可得到高電阻、抗電磁干擾、防靜電、抗磨損的優質薄膜,可增加膜層的均勻性,提高靶材的利用率。
技術領域
本發明涉及合金靶材技術領域,尤其涉及一種SAZO合金靶材的制備方法。
背景技術
真空鍍膜技術是一種材料合成與加工的新技術,是表面工程技術領域的重要組成部分。隨著全球制造業高速發展,真空鍍膜技術應用越來越廣泛。從半導體集成電路、LED、顯示器、觸摸屏、太陽能光伏、化工以及制藥等行業的發展來看,真空鍍膜技術的產品涉及眾多,包括制造大規模集成電路的電學膜,數字式縱向與橫向均可磁化的數據紀錄儲存膜,充分展示和應用各種光學特性的光學膜,計算機顯示用的感光膜,TFT、PDP平面顯示器上的導電膜和增透膜,建筑、汽車行業上應用的玻璃鍍膜和裝飾膜,包裝領域用防護膜、阻隔膜,裝飾材料上具有各種功能裝飾效果的功能膜,工、模具表面上應用的耐磨超硬膜以及納米材料研究方面的各種功能性薄膜等,這些膜的要求越來越高,因此對真空鍍膜設備、技術、材料需求都在不斷增加,同時,隨著工業技術的不斷發展,對材料的綜合性能要求也不斷提高,單一材料性能已不能滿足某些特定環境下工作機械的性能要求。
國內真空離子鍍膜機經過幾十年的發展,相對于國外高端鍍膜設備而言,在自動化程度與技術上取得了一定的進步,但在鍍膜產品穩定性和精確性方面尚需提升。真空鍍膜的高性價比以及傳統電鍍對環境的污染迫使真空鍍膜成為了主流,各種類型各種鍍膜工藝的真空鍍膜設備不斷增加。
化學混合物AZO是鋁摻雜的氧化鋅(ZnO)透明導電玻璃的簡稱。ZnO來源豐富、價格便宜、無毒,具有優良的綜合性能,在國際上已成為半導體光電材料的研究熱點。ZnO薄膜是一種重要的光電子信息材料,不僅具有與傳統的ITO薄膜相比擬的光電性質,而且原料豐富,價格低,無毒性,熱穩定性高,在太陽能電池、液晶顯示器及光電探測器等領域有著廣泛的應用前景,可廣泛應用于制造柔性襯底發光器件、塑料液晶顯示器和非晶硅太陽能電池,還可作為透明保溫隔熱材料用于塑料大棚以及汽車玻璃和民用建筑玻璃的貼膜,尤其在光電子產業ITO透明導電薄膜中,In元素資源稀少,價格昂貴,亟需找到一種可替代的材料。
在ZnO體系中摻雜Al和Sn得到ZnO:AlSn透明導電薄膜,即SAZO薄膜,摻雜后薄膜導電性能大幅度提高,而且透明導電薄膜SAZO薄膜在氫等離子體中穩定性要優于ITO,同時具有可同ITO相比擬的光電特性,而且SAZO薄膜的制備方便,元素資源比In元素豐富,且無毒,逐漸成為ITO薄膜最佳替代者,SAZO薄膜已經在平板顯示器和薄膜太陽能電池中得到了部分應用。
SAZO的制備薄膜的方法有很多種,主要有磁控濺射法、金屬有機物化學氣相沉積法、脈沖激光沉積法、噴霧熱分解法、分子束外延法及溶膠一凝膠法等。其中,磁控濺射法制SAZO薄膜具有較高的沉積速率、低的襯底溫度和良好的襯底粘附性等優點而被廣泛的應用。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于湖南七點鐘文化科技有限公司,未經湖南七點鐘文化科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011230860.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類





