[發明專利]一種內窺熒光成像穿刺系統

在審

• 申請號: 202011229612.X
• 申請日: 2020-11-06
• 公開（公告）號: CN112336385A
• 公開（公告）日: 2021-02-09
• 發明（設計）人: 蔡惠明;倪軻娜;盧露
• 申請（專利權）人: 南京諾源醫療器械有限公司
• 主分類號: A61B10/04
• 分類號: A61B10/04;A61B17/34;A61B5/00
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產權代理有限公司 11246
• 代理人: 劉珊珊

1.一種內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：包括殼體、控制端、顯示屏、微處理器、785nm激光光源、白光LED光源、穿刺針、電機、濾光件、分光鏡、第一鏡頭、第二鏡頭、第一光電轉換器、第二光電轉換器、第一光纖束和第二光纖束，785nm激光光源產生的785nm激光用于照射待測物，白光LED光源產生的白光用于照射待測物，濾光件用于過濾待測物反射的激光，待測物經由照射產生的熒光依次經由濾光件和分光鏡到達第一鏡頭，待測物經由照射產生的可見光依次經由濾光件和分光鏡到達第二鏡頭，第一鏡頭經由第一光纖束與第一光電轉換器連接，第二鏡頭經由第二光纖束與第二光電轉換器連接，穿刺針與電機信號連接，電機用于驅動穿刺針，顯示屏、785nm激光光源、白光LED光源、電機、第一光電轉換器和第二光電轉換器均與微處理器信號連接；785nm激光光源、白光LED光源、穿刺針、電機、濾光件、分光鏡、第一鏡頭和第二鏡頭均位于殼體內，顯示屏、微處理器、第一光電轉換器和第二光電轉換器均位于控制端內。

2.根據權利要求1所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：所述濾光件為785nm陷波濾光片。

3.根據權利要求1所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：還包括位移傳感器，用于測量穿刺針移動的距離。

4.根據權利要求3所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：所述位移傳感器位于殼體內，且分別與穿刺針和微處理器信號連接。

5.根據權利要求1所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：還包括護套，第一光纖束和第二光纖束均位于護套內。

6.根據權利要求1所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：所述第一光電轉換器為CMOS圖像傳感器。

7.根據權利要求1所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：所述第二光電轉換器為CMOS圖像傳感器。

8.根據權利要求1所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：所述殼體的前端設有透明材料制成的端蓋。

9.根據權利要求1所述的內窺熒光成像穿刺系統，其特征在于：所述控制端設有電池。