[發明專利]一種超低反射率的光學增透膜

在審

• 申請號: 202011228090.1
• 申請日: 2020-11-05
• 公開（公告）號: CN112198565A
• 公開（公告）日: 2021-01-08
• 發明（設計）人: 陳建軍;于百華;呂強;朱曉強;孔旭東;王玉;姚宏輝;王浩
• 申請（專利權）人: 中山聯合光電研究院有限公司
• 主分類號: G02B1/115
• 分類號: G02B1/115
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

1.一種超低剩余反射率的光學增透膜，應用于光學玻璃上，其特征在于，所述超低剩余反射率的光學增透膜包括用于固定至所述光學玻璃的增透膜主體，所述增透膜主體具有用以固定至所述光學玻璃的近端、以及遠離所述光學玻璃的遠端；

所述增透膜主體包括十三層膜層，所述十三層膜層包括七層氟化鎂膜層以及六層鈦酸鑭膜層，所述氟化鎂膜層與所述鈦酸鑭膜層由近至遠依次交替層疊布設。

2.如權利要求1所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述十三層膜層中每一所述膜層的厚度大于10nm。

3.如權利要求1所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述七層氟化鎂膜層由近至遠分別為第一氟化鎂膜層、第二氟化鎂膜層、第三氟化鎂膜層、第四氟化鎂膜層、第五氟化鎂膜層、第六氟化鎂膜層、第七氟化鎂膜層；

所述第一氟化鎂膜層，厚度為26.85nm-27.05nm；和/或，

所述第二氟化鎂膜層，厚度為204.04nm-204.24nm；和/或，

所述第三氟化鎂膜層，厚度為15.90nm-16.10nm；和/或，

所述第四氟化鎂膜層，厚度為54.66nm-54.86nm；和/或，

所述第五氟化鎂膜層，厚度為83.14nm-83.34nm；和/或，

所述第六氟化鎂膜層，厚度為14.90nm-15.20nm；和/或，

所述第七氟化鎂膜層，厚度為97.41nm-97.61nm。

4.如權利要求3所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述第一氟化鎂膜層厚度為26.95nm，所述第二氟化鎂膜層厚度為204.14nm，所述第三氟化鎂膜層厚度為16.00nm，所述第四氟化鎂膜層厚度為54.76nm，所述第五氟化鎂膜層厚度為83.24nm，所述第六氟化鎂膜層厚度為15.00nm，所述第七氟化鎂膜層厚度為97.51nm。

5.如權利要求1所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述六層鈦酸鑭膜層由近至遠分別為第一鈦酸鑭膜層、第二鈦酸鑭膜層、第三鈦酸鑭膜層、第四鈦酸鑭膜層、第五鈦酸鑭膜層、第六鈦酸鑭膜層；

所述第一鈦酸鑭膜層，厚度為14.98nm-15.18nm；和/或，

所述第二鈦酸鑭膜層，厚度為17.91nm-18.11nm；和/或，

所述第三鈦酸鑭膜層，厚度為112.53nm-112.73nm；和/或，

所述第四鈦酸鑭膜層，厚度為14.90nm-15.10nm；和/或，

所述第五鈦酸鑭膜層，厚度為43.36nm-43.56nm；和/或，

所述第六鈦酸鑭膜層，厚度為61.39nm-61.59nm。

6.如權利要求5所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述第一鈦酸鑭膜層厚度為15.08nm，所述第二鈦酸鑭膜層厚度為18.01nm，所述第三鈦酸鑭膜層厚度為112.63nm，所述第四鈦酸鑭膜層厚度為15.00nm，所述第五鈦酸鑭膜層厚度為43.46nm，所述第六鈦酸鑭膜層厚度為61.49nm。

7.如權利要求1所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述氟化鎂膜層的折射率為1.364-1.384。

8.如權利要求7所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述氟化鎂膜層的折射率為1.374。

9.如權利要求1所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述鈦酸鑭膜層的折射率為2.054-2.074。

10.如權利要求9所述的超低剩余反射率的光學增透膜，其特征在于，所述鈦酸鑭膜層的折射率為2.064。