[發(fā)明專利]一種殺爆戰(zhàn)斗部飛散角的生成方法和殺爆戰(zhàn)斗部有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011226707.6 | 申請日： | 2020-11-05 |
| 公開（公告）號： | CN112414232B | 公開（公告）日： | 2023-01-03 |
| 發(fā)明（設計）人： | 王文光;朱照陽;張鵬;謝曉暉;薛建鋒;劉濤;孟衛(wèi)兵;湯軍偉;楊會林;韓果;朱鵬;和鑫 | 申請（專利權）人： | 江西洪都航空工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號： | F42B15/01 | 分類號： | F42B15/01;F42B15/00 |
| 代理公司： | 中國航空專利中心 11008 | 代理人： | 王世磊 |
| 地址： | 330095 江西*** | 國省代碼： | 江西;36 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 戰(zhàn)斗 飛散 生成 方法 | ||
1.一種殺爆戰(zhàn)斗部飛散角的生成方法，其特征在于，包括：
獲取待攻擊的相控陣雷達天線的高度H；
根據(jù)待攻擊的相控陣雷達天線的高度H、破片分布密度提高倍數(shù)n和殺爆戰(zhàn)斗部的威力半徑R，采用如下公式，確定殺爆戰(zhàn)斗部飛散角θ'；
；
其中，H/n表示殺爆戰(zhàn)斗部內的破片的殺傷帶寬，k1和k2為預設系數(shù)；所述破片分布密度提高倍數(shù)n的取值符合1≤n≤1/η；
其中，η為待攻擊的相控陣雷達天線的失效百分比；
所述k1的取值為9，所述k2的取值為20。
2.根據(jù)權利要求1所述的方法，其特征在于，所述殺爆戰(zhàn)斗部的威力半徑R根據(jù)所述殺爆戰(zhàn)斗部的脫靶量確定。
3.一種殺爆戰(zhàn)斗部，其特征在于，包括：殼體、破片和起爆點；所述破片和起爆點設置在所述殼體內；所述破片在所述殼體內呈弧形布置，所述起爆點設置在所述破片的弧內；所述破片的布局曲率以及破片和起爆點的位置，根據(jù)殺爆戰(zhàn)斗部飛散角θ'確定；
其中，；H為相控陣雷達天線的高度H；n為破片分布密度提高倍數(shù)；R為殺爆戰(zhàn)斗部的威力半徑，H/n表示殺爆戰(zhàn)斗部內的破片的殺傷帶寬，k1和k2為預設系數(shù)；所述破片分布密度提高倍數(shù)n的取值符合1≤n≤1/η；
其中，η為待攻擊的相控陣雷達天線的失效百分比；
所述k1的取值為9，所述k2的取值為20。
4.根據(jù)權利要求3所述的殺爆戰(zhàn)斗部，其特征在于，所述殺爆戰(zhàn)斗部的威力半徑R根據(jù)所述殺爆戰(zhàn)斗部的脫靶量確定。
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