[發(fā)明專利]等離子體處理裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011216079.3 | 申請(qǐng)日： | 2020-11-04 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN112863985A | 公開（公告）日： | 2021-05-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 池田信太郎;花岡秀敏;田丸直樹 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 東京毅力科創(chuàng)株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào)： | H01J37/32 | 分類號(hào)： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人： | 呂琳;樸秀玉 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 等離子體 處理 裝置 | ||
1.一種等離子體處理裝置，包括：
第一部件，設(shè)置在處理容器內(nèi)；以及
第二部件，設(shè)置在所述第一部件的外側(cè)，
其中，在所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者上，形成有用于使氣體向所述第一部件與所述第二部件之間的間隙流動(dòng)的流路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的等離子體處理裝置，其中，
用于使氣體向所述間隙流動(dòng)的所述流路等間隔地設(shè)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的等離子體處理裝置，其中，
用于使氣體向所述間隙流動(dòng)的所述流路與用于供給所述氣體的流路中的最外側(cè)的流路連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項(xiàng)所述的等離子體處理裝置，其中，
用于使氣體向所述間隙流動(dòng)的所述流路具有向所述間隙沿周向開放的凹部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的等離子體處理裝置，其中，
用于供給氣體的所述流路包括貫穿所述第一部件和所述第二部件中的至少任意一者的流路，
用于使氣體向所述間隙流動(dòng)的所述流路從進(jìn)行貫穿的所述流路中的至少任意一者分岔。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項(xiàng)所述的等離子體處理裝置，其中，
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