[發(fā)明專利]一種清除石墨盤表面沉積物的方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011215503.2 | 申請日： | 2020-11-04 |
| 公開（公告）號： | CN112430804A | 公開（公告）日： | 2021-03-02 |
| 發(fā)明（設計）人： | 孫飛 | 申請（專利權）人： | 蘇州尚勤光電科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C16/44 | 分類號： | C23C16/44 |
| 代理公司： | 無錫市匯誠永信專利代理事務所(普通合伙) 32260 | 代理人： | 王春麗 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 清除 石墨 表面 沉積物 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種清除石墨盤表面沉積物的方法，其特征在于：包括以下步驟：
第一，將待清洗的石墨盤放入清洗設備的清洗腔內(nèi)；
第二，將清洗腔內(nèi)的壓力抽至0托；
第三，向清洗腔內(nèi)充入氮氣，使清洗腔內(nèi)的壓力升至1000托；
第四，重復第二步和第三步，重復次數(shù)不低于三次；
第五，將清洗腔內(nèi)的壓力再次抽至0托，并在氮氣氛圍下，將清洗腔升溫至930℃；
第六，對清洗腔內(nèi)通過混合氣體，并持續(xù)2小時；
第七，對清洗腔進行降溫，并通入氮氣進行吹掃。
2.根據(jù)權利要求1所述的一種清除石墨盤表面沉積物的方法，其特征在于：所述混合氣體為5％的氯氣和氮氣組成的混合氣體。
3.根據(jù)權利要求1所述的一種清除石墨盤表面沉積物的方法，其特征在于：第五步驟中的升溫時間為3小時，第七步驟中的吹掃時間為5小時。
4.根據(jù)權利要求1所述的一種清除石墨盤表面沉積物的方法，其特征在于：所述清洗設備為烤爐盤或MOCVD設備。
5.根據(jù)權利要求1所述的一種清除石墨盤表面沉積物的方法，其特征在于：所述第四步驟中的重復次數(shù)為五次。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學鍍覆，例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上，例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的
