[發明專利]裝置、方法和記錄介質

在審

• 申請號: 202011214802.4
• 申請日: 2020-11-04
• 公開（公告）號: CN112947134A
• 公開（公告）日: 2021-06-11
• 發明（設計）人: 高見豪
• 申請（專利權）人: 橫河電機株式會社
• 主分類號: G05B19/042
• 分類號: G05B19/042;G01D21/02
• 代理公司: 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290
• 代理人: 李成必;李雪春

本發明提供裝置、方法和記錄介質。近年來，希望更適當地控制設備的要求不斷提高。提供一種裝置，其包括：第一取得部，取得由傳感器測量的測量數據；以及第一學習處理部，使用學習數據執行第一模型的學習處理，所述學習數據包含由第一取得部取得的測量數據和表示至少一個控制對象設備的第一種控制內容的控制參數，所述第一模型根據測量數據的輸入，輸出表示為了提高由預先設定的回報函數確定的回報值而推薦的第一種控制內容的推薦控制參數。

技術領域

本發明涉及裝置、方法和記錄介質。

背景技術

以往，提出了控制設備的各種方法(例如參照專利文獻1)。

現有技術文獻

專利文獻1：日本專利公開公報特開2018-202564號

但是，近年來希望更適當地控制設備的要求不斷提高。

發明內容

為了解決上述課題，在本發明的第一方式中提供一種裝置。裝置可以包括取得由傳感器測量的測量數據的第一取得部。裝置可以包括第一學習處理部，該第一學習處理部使用學習數據執行第一模型的學習處理，該學習數據包含由第一取得部取得的測量數據和表示至少一個控制對象設備的第一種控制內容的控制參數，該第一模型根據測量數據的輸入，輸出表示為了提高由預先設定的回報函數確定的回報值而推薦的第一種控制內容的推薦控制參數。

裝置可以還包括向第一模型供給由第一取得部取得的測量數據的第一供給部。裝置可以還包括第一推薦控制參數取得部，該第一推薦控制參數取得部取得根據將測量數據供給到第一模型而由第一模型輸出的推薦控制參數。裝置可以還包括第一控制部，該第一控制部使用由第一推薦控制參數取得部取得的推薦控制參數，控制至少一個控制對象設備。

可以通過P控制、PI控制、PD控制和PID控制中的任意一種反饋控制對各控制對象設備進行控制。第一種控制內容可以是反饋控制的目標值。

可以通過PI控制、PD控制和PID控制中的任意一種反饋控制對各控制對象設備進行控制。第一種控制內容可以是預先與包含反饋控制的積分增益值和微分增益值中的至少一方和比例增益值的各增益組對應的識別信息中的用于反饋控制的增益組的識別信息。

可以通過P控制、PI控制、PD控制和PID控制中的任意一種反饋控制對各控制對象設備進行控制。第一種控制內容可以是反饋控制的比例增益值、積分增益值和微分增益值中的至少一個。

裝置可以還包括取得由傳感器測量的測量數據的第二取得部。裝置可以還包括第二學習處理部，該第二學習處理部使用包含由第二取得部取得的測量數據和表示至少一個控制對象設備的第二種控制內容的控制參數的學習數據，執行第二模型的學習處理，該第二模型根據測量數據的輸入，輸出表示為了提高回報值而推薦的第二種控制內容的推薦控制參數。第二種控制內容可以是反饋控制的目標值。

裝置可以還包含向第二模型供給由第二取得部取得的測量數據的第二供給部。裝置可以還包括第二推薦控制參數取得部，該第二推薦控制參數取得部取得根據將測量數據供給到第二模型而由第二模型輸出的推薦控制參數。裝置可以還包括第二控制部，該第二控制部使用由第二推薦控制參數取得部取得的推薦控制參數，控制至少一個控制對象設備。

第一種控制內容可以是各控制對象設備的輸出值。

第一取得部可以取得表示能夠起到作為對至少一個控制對象設備的干擾的作用的物理量的測量數據。

第一取得部可以取得表示包括至少一個控制對象設備的設施的能量和原材料中的至少一方的消耗量的測量數據。