[發明專利]裝置、方法和記錄介質在審
| 申請號: | 202011214802.4 | 申請日: | 2020-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN112947134A | 公開(公告)日: | 2021-06-11 |
| 發明(設計)人: | 高見豪 | 申請(專利權)人: | 橫河電機株式會社 |
| 主分類號: | G05B19/042 | 分類號: | G05B19/042;G01D21/02 |
| 代理公司: | 北京信慧永光知識產權代理有限責任公司 11290 | 代理人: | 李成必;李雪春 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 方法 記錄 介質 | ||
1.一種裝置,其特征在于包括:
第一取得部,取得由傳感器測量的測量數據;以及
第一學習處理部,使用學習數據執行第一模型的學習處理,所述學習數據包含由所述第一取得部取得的測量數據和表示至少一個控制對象設備的第一種控制內容的控制參數,所述第一模型根據測量數據的輸入,輸出表示為了提高由預先設定的回報函數確定的回報值而推薦的所述第一種控制內容的推薦控制參數。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于還包括:
第一供給部,向所述第一模型供給由所述第一取得部取得的所述測量數據;
第一推薦控制參數取得部,取得根據將所述測量數據供給到所述第一模型而由所述第一模型輸出的所述推薦控制參數;以及
第一控制部,使用由所述第一推薦控制參數取得部取得的所述推薦控制參數,控制所述至少一個控制對象設備。
3.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,
通過P控制、PI控制、PD控制和PID控制中的任意一種反饋控制對各控制對象設備進行控制,
所述第一種控制內容是反饋控制的目標值。
4.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,
通過PI控制、PD控制和PID控制中的任意一種反饋控制對各控制對象設備進行控制,
所述第一種控制內容是預先與包含反饋控制的積分增益值和微分增益值中的至少一方和比例增益值的各增益組對應的識別信息中的用于反饋控制的增益組的識別信息。
5.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,
通過P控制、PI控制、PD控制和PID控制中的任意一種反饋控制對各控制對象設備進行控制,
所述第一種控制內容是反饋控制的比例增益值、積分增益值和微分增益值中的至少一個。
6.根據權利要求4或5所述的裝置,其特征在于,
還包括:
第二取得部,取得由傳感器測量的測量數據;以及
第二學習處理部,使用包含由所述第二取得部取得的測量數據和表示所述至少一個控制對象設備的第二種控制內容的控制參數的學習數據,執行第二模型的學習處理,所述第二模型根據測量數據的輸入,輸出表示為了提高所述回報值而推薦的所述第二種控制內容的推薦控制參數,
所述第二種控制內容是反饋控制的目標值。
7.根據權利要求6所述的裝置,其特征在于還包括:
第二供給部,向所述第二模型供給由所述第二取得部取得的所述測量數據;
第二推薦控制參數取得部,取得根據將所述測量數據供給到所述第二模型而由所述第二模型輸出的所述推薦控制參數;以及
第二控制部,使用由所述第二推薦控制參數取得部取得的所述推薦控制參數,控制所述至少一個控制對象設備。
8.根據權利要求1或2所述的裝置,其特征在于,所述第一種控制內容是各控制對象設備的輸出值。
9.根據權利要求1至8中任意一項所述的裝置,其特征在于,所述第一取得部取得表示能夠起到作為對所述至少一個控制對象設備的干擾的作用的物理量的所述測量數據。
10.根據權利要求1至9中任意一項所述的裝置,其特征在于,所述第一取得部取得表示包括所述至少一個控制對象設備的設施的能量和原材料中的至少一方的消耗量的所述測量數據。
11.根據權利要求1至10中任意一項所述的裝置,其特征在于,
所述第一取得部分別取得包含至少一種測量數據的第一組測量數據和包含至少一種測量數據的第二組測量數據,
在所述第一學習處理部中使用的所述回報函數,在所述第一組測量數據中的至少一個不滿足基準條件的情況下,與所述第二組測量數據的各值無關而使所述回報值為0,在所述第一組測量數據分別滿足基準條件的情況下,根據所述第二組測量數據的各值使所述回報值增減。
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