[發(fā)明專利]數(shù)據(jù)處理時間計算方法、數(shù)據(jù)處理平臺評價方法及系統(tǒng)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011212783.1 | 申請日: | 2020-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN112380489A | 公開(公告)日: | 2021-02-19 |
| 發(fā)明(設計)人: | 李森林;頓凱 | 申請(專利權)人: | 武漢光庭信息技術股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F17/11 | 分類號: | G06F17/11;G06F17/18;G06F16/29 |
| 代理公司: | 武漢藍寶石專利代理事務所(特殊普通合伙) 42242 | 代理人: | 高蘭 |
| 地址: | 430000 湖北省武漢市東湖開發(fā)區(qū)光谷軟*** | 國省代碼: | 湖北;42 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 數(shù)據(jù)處理 時間 計算方法 平臺 評價 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種數(shù)據(jù)處理時間計算方法,其特征在于,包括:
統(tǒng)計目標區(qū)域的多個瓦片區(qū)域中每一個瓦片區(qū)域的多個影響因素和每一個瓦片區(qū)域的數(shù)據(jù)處理時間;
根據(jù)每一個瓦片區(qū)域多個影響因素和每一個瓦片區(qū)域的數(shù)據(jù)處理時間,建立多個影響因素與數(shù)據(jù)處理時間之間的多元線性回歸模型;
基于所述多元線性回歸模型以及目標區(qū)域中的每一個瓦片區(qū)域的多個影響因素,計算每一個瓦片區(qū)域的數(shù)據(jù)處理時間;
將目標區(qū)域中的所有瓦片區(qū)域的數(shù)據(jù)處理時間累積求和,得到目標區(qū)域的數(shù)據(jù)處理時間;
其中,所述數(shù)據(jù)處理時間是指將傳統(tǒng)導航地圖數(shù)據(jù)轉換為DSM中精度地圖數(shù)據(jù)的轉換時間。
2.根據(jù)權利要求1所述的計算方法,其特征在于,所述根據(jù)每一個瓦片區(qū)域多個影響因素和每一個瓦片區(qū)域的數(shù)據(jù)處理時間,建立多個影響因素與數(shù)據(jù)處理時間之間的多元線性回歸模型包括:
根據(jù)每一個瓦片區(qū)域的任一個影響因素和數(shù)據(jù)處理時間,建立所述任一個影響因素與數(shù)據(jù)處理時間之間的多項式方程;
根據(jù)所述任一個影響因素與數(shù)據(jù)處理時間之間的多項式方程,建立多個影響因素與數(shù)據(jù)處理時間之間的線性回歸模型。
3.根據(jù)權利要求2所述的計算方法,其特征在于,所述多個影響因素為道路數(shù)量、每一條道路與其它道路的交叉點數(shù)量和每一條道路的長度。
4.根據(jù)權利要求3所述的計算方法,其特征在于,所述多項式方程為三次多項式方程;所述根據(jù)每一個瓦片區(qū)域的任一個影響因素和數(shù)據(jù)處理時間,建立所述任一個影響因素與數(shù)據(jù)處理時間之間的多項式方程包括:
y1=a1x13+b1x12+c1x1+d1;
y2=a2x13+b2x12+c2x1+d2;
y3=a3x13+b3x12+c3x1+d3;
其中,y1為道路數(shù)量與數(shù)據(jù)處理時間之間的三次多項式方程,y2為每一條道路與其它道路的交叉點數(shù)量與數(shù)據(jù)處理時間之間的三次多項式方程,y3為每一條道路長度與數(shù)據(jù)處理時間之間的三次多項式方程,a1、a2、a3為三次項系數(shù),b1、b2、b3為二次項系數(shù),c1、c2、c3為一次項系數(shù),d1、d2、d3為常數(shù)系數(shù),x1為道路數(shù)量,x2為每一條道路的交叉點數(shù)量,x3為道路長度。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于武漢光庭信息技術股份有限公司,未經(jīng)武漢光庭信息技術股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011212783.1/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種多功能化學實驗連接裝置
- 下一篇:一種故障定位方法及裝置
- 數(shù)據(jù)處理設備,數(shù)據(jù)處理方法,和數(shù)據(jù)處理程序
- 數(shù)據(jù)處理電路、數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法、數(shù)據(jù)處理控制方法
- 數(shù)據(jù)處理設備、數(shù)據(jù)處理方法和數(shù)據(jù)處理程序
- 數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法及數(shù)據(jù)處理程序
- 數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法及計算機可讀取的記錄介質
- 數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法和數(shù)據(jù)處理程序
- 數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法和數(shù)據(jù)處理程序
- 數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法以及數(shù)據(jù)處理程序
- 數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法以及數(shù)據(jù)處理程序
- 數(shù)據(jù)處理裝置、數(shù)據(jù)處理方法和數(shù)據(jù)處理程序





