[發明專利]一種曝光方法及系統在審
| 申請號： | 202011210583.2 | 申請日： | 2020-11-03 |
| 公開（公告）號： | CN112415861A | 公開（公告）日： | 2021-02-26 |
| 發明（設計）人： | 朱夏彥;陳國軍;吳景舟;馬迪 | 申請（專利權）人： | 江蘇迪盛智能科技有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 蘇州集律知識產權代理事務所(普通合伙) 32269 | 代理人： | 安紀平 |
| 地址： | 215000 江蘇省蘇州市吳中*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 曝光 方法 系統 | ||
1.一種曝光方法，其特征在于，所述方法包括：
S100，依照特定的曝光圖像對基板進行第一次曝光，之后將基板進行顯影，在基板上顯影出所述曝光圖像；
S200，對顯影后的基板進行第二次曝光，用于對基板進行固化；
S300，在第二次曝光后，再依次對基板進行鍍金及退膜。
2.根據權利要求1所述的一種曝光方法，其特征在于，S100中，所述第一次曝光是對整個基板進行曝光，在基板上曝光出所述曝光圖像。
3.根據權利要求1或2所述的一種曝光方法，其特征在于，S100中，所述第一次曝光的過程包括：通過曝光鏡頭對基板進行多次掃描，在基板上對應形成多個掃描條帶，將所述掃描條帶拼接形成所述曝光圖像。
4.根據權利要求1所述的一種曝光方法，其特征在于，S200中，所述第二次曝光是對整個基板進行曝光，對基板進行曝光固化。
5.根據權利要求1或4所述的一種曝光方法，其特征在于，S200中，所述第二次曝光采用固化燈管對基板進行曝光固化。
6.一種曝光系統，其特征在于，所述系統包括：
第一曝光裝置，包括第一曝光單元和與第一曝光單元相連的顯影單元，所述第一曝光單元用于依照特定的曝光圖像對基板進行第一次曝光，所述顯影單元用于在基板上顯影出所述曝光圖像；
第二曝光裝置，包括與顯影單元相連的第二曝光單元，所述第二曝光單元用于對顯影后的基板進行第二次曝光，對基板進行固化；
鍍金裝置，包括與所述第二曝光單元相連的鍍金單元和與鍍金單元相連的退膜單元，所述鍍金單元和退膜單元用于在第二次曝光后分別對基板進行鍍金及退膜。
7.根據權利要求6所述的一種曝光系統，其特征在于，所述第一曝光單元是對整個基板進行曝光，在基板上曝光出所述曝光圖像。
8.根據權利要求6或7所述的一種曝光系統，其特征在于，所述第一曝光單元包括曝光鏡頭，所述曝光鏡頭用于對基板進行多次掃描，在基板上形成多個掃描條帶，多個所述掃描條帶拼接形成所述曝光圖像。
9.根據權利要求6所述的一種曝光系統，其特征在于，所述第二曝光單元是對整個基板進行曝光，對基板進行曝光固化。
10.根據權利要求6或9所述的一種曝光系統，其特征在于，所述第二曝光單元采用固化燈管對基板進行曝光固化。
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