[發(fā)明專利]一種根據(jù)T拓?fù)渥呔€阻抗平衡過孔不等長的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011210381.8 | 申請日： | 2020-11-03 |
| 公開（公告）號： | CN112601341B | 公開（公告）日： | 2022-02-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 張毅軍 | 申請（專利權(quán)）人： | 蘇州浪潮智能科技有限公司 |
| 主分類號： | H05K1/02 | 分類號： | H05K1/02;H05K3/00 |
| 代理公司： | 濟(jì)南舜源專利事務(wù)所有限公司 37205 | 代理人： | 徐胭脂 |
| 地址： | 215100 江蘇省蘇州市吳*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 根據(jù) 拓?fù)?/a> 阻抗 平衡 不等 方法 | ||
1.一種根據(jù)T拓?fù)渥呔€阻抗平衡過孔不等長的方法，其特征在于，包括：
根據(jù)分支點劃分T拓?fù)渥呔€的短過孔分支和長過孔分支；
列舉短過孔分支和長過孔分支的阻抗分布方式；
實施所述阻抗分布方式，并對分支點進(jìn)行阻抗掃描仿真對比得到阻抗要求；
根據(jù)阻抗要求改變短過孔分支和長過孔分支的走線線寬；
所述阻抗分布方式包括：
短過孔分支和長過孔分支等阻抗分布；
長過孔分支選擇低阻抗，短過孔分支選擇高阻抗；
長過孔分支選擇高阻抗，短過孔分支選擇低阻抗；
對分支點進(jìn)行阻抗掃描仿真對比得到阻抗要求，具體為：對分支點阻抗進(jìn)行步進(jìn)掃描，對比不同阻抗下波形結(jié)，獲取最優(yōu)化阻抗值。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種根據(jù)T拓?fù)渥呔€阻抗平衡過孔不等長的方法，其特征在于，所述方法還包括：
通過仿真軟件查看改變后的信號水平；
并檢測閃存提升速率。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種根據(jù)T拓?fù)渥呔€阻抗平衡過孔不等長的方法，其特征在于，經(jīng)掃描仿真對比得到的阻抗要求為：阻抗要求長過孔分支選擇低阻抗，短過孔分支選擇高阻抗。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種根據(jù)T拓?fù)渥呔€阻抗平衡過孔不等長的方法，其特征在于，所述方法還包括：獲取阻抗與走線線寬的映射信息。
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