[發(fā)明專利]發(fā)光裝置、光學(xué)裝置以及信息處理裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011208457.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-03 |
| 公開(公告)號(hào): | CN113314944A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 井口大介 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01S5/024 | 分類號(hào): | H01S5/024;H01S5/026;H01S5/042;H01S5/183;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊文娟;臧建明 |
| 地址: | 日本東京*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說(shuō)明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 光學(xué) 以及 信息處理 | ||
1.一種發(fā)光裝置,包括:
導(dǎo)熱率為10W/m·K以上的絕緣性的基材;
發(fā)光元件,具有陰極電極及陽(yáng)極電極,且被設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋?/p>
電容元件,設(shè)于所述基材,對(duì)所述發(fā)光元件供給電流;以及
基準(zhǔn)電位配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于外部的基準(zhǔn)電位,
所述基準(zhǔn)電位配線連接于所述電容元件,且與所述陰極電極及所述陽(yáng)極電極絕緣。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置,具有:
第一表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋疫B接于所述陰極電極與所述陽(yáng)極電極的其中一者,
所述發(fā)光元件設(shè)在所述第一表面配線上,
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述第一表面配線的至少一部分重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置,具有:
第一表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋疫B接于所述陰極電極與所述陽(yáng)極電極的其中一者;以及
第二表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋疫B接于所述陰極電極與所述陽(yáng)極電極的另一者,
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述第一表面配線或所述第二表面配線的至少一部分重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置,其中
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述第一表面配線及所述第二表面配線各自的至少一部分重合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,其中
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述發(fā)光元件的至少一部分重合。
6.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,具有:
第一背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋c所述第一表面配線連接;以及
第二背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋c所述第二表面配線連接,
所述基準(zhǔn)電位配線的面積大于所述第一背面配線的面積及所述第二背面配線的面積的至少一者。
7.根據(jù)權(quán)利要求3至5中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,具有:
第一背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋c所述第一表面配線連接;以及
第二背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋c所述第二表面配線連接,
所述基準(zhǔn)電位配線的面積分別大于所述第一背面配線的面積及所述第二背面配線的面積。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,其中
所述電容元件設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋?/p>
所述基準(zhǔn)電位配線具有在俯視時(shí)包含所述電容元件的面積。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,其中
所述基材整體包含陶瓷材料。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,其中
所述發(fā)光元件為垂直腔面發(fā)射激光器元件。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,其中所述發(fā)光元件是具有多個(gè)發(fā)光元件的發(fā)光元件陣列。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,具有:擴(kuò)散構(gòu)件,使從所述發(fā)光元件出射的光擴(kuò)散而照射至外部。
13.根據(jù)權(quán)利要求1至12中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置,具有:驅(qū)動(dòng)部,與所述發(fā)光元件連接,對(duì)所述發(fā)光元件進(jìn)行低側(cè)驅(qū)動(dòng)。
14.一種光學(xué)裝置,包括:權(quán)利要求1至13中任一項(xiàng)所述的發(fā)光裝置;以及
受光部,接收從所述發(fā)光裝置所包括的發(fā)光元件出射并由被測(cè)定物予以反射的反射光,
所述受光部輸出一信號(hào),所述信號(hào)相當(dāng)于從光自所述發(fā)光元件出射開始直至被所述受光部接收為止的時(shí)間。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司,未經(jīng)富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011208457.3/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 接收裝置以及接收方法、以及程序
- 凈水濾芯以及凈水裝置、以及洗漱臺(tái)
- 隱匿檢索系統(tǒng)以及公開參數(shù)生成裝置以及加密裝置以及用戶秘密密鑰生成裝置以及查詢發(fā)布裝置以及檢索裝置以及計(jì)算機(jī)程序以及隱匿檢索方法以及公開參數(shù)生成方法以及加密方法以及用戶秘密密鑰生成方法以及查詢發(fā)布方法以及檢索方法
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 編碼方法以及裝置、解碼方法以及裝置
- 圖片顯示方法以及裝置以及移動(dòng)終端
- ENB以及UEUL發(fā)送以及接收的方法
- X射線探測(cè)方法以及裝置以及系統(tǒng)
- 圖書信息錄入方法以及系統(tǒng)以及書架
- 護(hù)耳器以及口罩以及眼鏡





