[發明專利]一種好氧沉淀工藝及其專用裝置在審
| 申請號: | 202011207456.7 | 申請日: | 2020-11-03 |
| 公開(公告)號: | CN112408700A | 公開(公告)日: | 2021-02-26 |
| 發明(設計)人: | 張銘尹;王鳳新;張盤新;邵華平 | 申請(專利權)人: | 江蘇通用環保集團有限公司 |
| 主分類號: | C02F9/14 | 分類號: | C02F9/14;C02F3/12 |
| 代理公司: | 無錫知初知識產權代理事務所(普通合伙) 32418 | 代理人: | 高春濤 |
| 地址: | 214200 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 沉淀 工藝 及其 專用 裝置 | ||
本發明公開了一種好氧沉淀工藝及其專用裝置,屬于污水處理技術領域。將廢水通過進水口加入好氧沉淀模塊,并加入鹽酸調節溶液pH值,控制好氧沉淀模塊內溶液至反應溫度;將氧氣通入好氧沉淀模塊中;好氧菌用水兌勻后加入其中,混凝劑加入到好氧沉淀模塊,利用攪拌槳進行攪拌;混合后的廢水在好氧沉淀模塊中進行好氧沉淀處理,處理過程中固體污泥顆粒在重力的作用下下沉到好氧池底部,通過底部的排泥口排出,處理后的液體通過溢水堰、出水管排出,氣體進入排氣管,實現固液氣三相分離。本發明好氧沉淀模塊將好氧池與沉淀模塊相結合,可代替傳統的二沉池結構,減少后期沉淀或過濾負荷,減少后續工藝段設備的SS負荷,保證出水穩定持續達標排放。
技術領域
本發明屬于污水處理技術領域,具體涉及一種好氧沉淀工藝及其專用裝置。
背景技術
污水處理系統包括依次相連的調節池、厭氧池、缺氧池、好氧池、沉淀池,其中調節池的作用是對流入其中的無水進行水質和水量的調節;厭氧池的作用是聚集聚磷菌,進行磷的釋放;缺氧池的作用是反硝化菌在此將硝態氮還原為氮氣排入大氣中;好氧池的作用是降解有機物、硝化氨氮;沉淀池主要用來沉淀固體雜質。現有的污水處理系統在好氧池的后續再設置絮凝沉淀器結構,帶來的問題是增加了設備投入,同時也會造成絮凝沉淀過濾負荷較大,影響沉淀效率,從而影響污水處理的效率。
三相分離器是污水厭氧處理的重要部件,三相分離器同時具有兩個功能:一個是將反應室產生的沼氣與固液物分離并收集分離后的沼氣,另一個是使分離器內的懸浮物有效沉降從而將水與污泥分離。如何將三相分離器合理高效的應用于污水處理工藝中成為人們不斷探索的問題。
發明內容
針對現有技術中存在的問題,本發明要解決的一個技術問題在于提供一種好氧沉淀工藝,好氧沉淀護理工藝在常溫常壓下即可進行,節約污水處理成本;同時提高了分離效率,減少污水處理過程中藥劑的使用。本發明要解決的另一個技術問題在于提供一種好氧沉淀工藝用裝置,該好氧沉淀模塊將好氧池與沉淀模塊相結合,好氧池上部設置沉淀模塊,沉淀模塊為三相分離板及高效斜板相結合的氣水分離模塊;可代替傳統的二沉池結構,減少了后期沉淀或過濾負荷50%以上,減少后續工藝段設備的SS負荷,保證出水穩定持續達標排放。
為了解決上述問題,本發明所采用的技術方案如下:
一種好氧沉淀工藝,包括以下步驟:
(1)將廢水通過進水口加入好氧沉淀模塊,并加入鹽酸調節溶液pH值,通過溫度控制系統控制好氧沉淀模塊內溶液至反應溫度;同時將氧氣通過氧氣管道通入好氧沉淀模塊中;
(2)好氧菌用水兌勻后加入好氧沉淀模塊中,混凝劑通過藥劑進口加入到好氧沉淀模塊,利用裝置中的攪拌槳進行攪拌;混合后的廢水在好氧沉淀模塊中進行好氧沉淀處理,處理過程中固體污泥顆粒在重力的作用下下沉到好氧池底部,通過底部的排泥口排出,處理后的液體通過溢水堰、出水管排出,氣體進入排氣管,實現固液氣三相分離。
所述好氧沉淀工藝,所述混凝劑為過氧化氫、亞鐵鹽和聚硅酸硫酸鋁的混合物,所述過氧化氫、亞鐵鹽和聚硅酸硫酸鋁的摩爾用量比為1:1~3:2~5。
所述好氧沉淀工藝,調節好氧沉淀模塊水中的溶解氧為3~10mg/L。
所述好氧沉淀工藝,調節好氧沉淀模塊溶液pH在4~11之間,溫度為25~45℃之間,處理時間為2~5h。
所述好氧沉淀工藝,所述好氧菌的用量為2~3g/cm3,每克好氧菌中加入300~400kg水兌勻;所述好氧菌為乙酸鈣不動桿菌或短小芽孢桿菌。
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