[發(fā)明專利]一種好氧沉淀工藝及其專用裝置

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011207456.7
• 申請(qǐng)日: 2020-11-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112408700A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-26
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張銘尹;王鳳新;張盤新;邵華平
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 江蘇通用環(huán)保集團(tuán)有限公司
• 主分類號(hào): C02F9/14
• 分類號(hào): C02F9/14;C02F3/12
• 代理公司: 無(wú)錫知初知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32418
• 代理人: 高春濤

1.一種好氧沉淀工藝，其特征在于，包括以下步驟：

(1)將廢水通過(guò)進(jìn)水口加入好氧沉淀模塊，并加入鹽酸調(diào)節(jié)溶液pH值，通過(guò)溫度控制系統(tǒng)控制好氧沉淀模塊內(nèi)溶液至反應(yīng)溫度；同時(shí)將氧氣通過(guò)氧氣管道通入好氧沉淀模塊中；

(2)好氧菌用水兌勻后加入好氧沉淀模塊中，混凝劑通過(guò)藥劑進(jìn)口加入到好氧沉淀模塊，利用裝置中的攪拌槳進(jìn)行攪拌；混合后的廢水在好氧沉淀模塊中進(jìn)行好氧沉淀處理，處理過(guò)程中固體污泥顆粒在重力的作用下下沉到好氧池底部，通過(guò)底部的排泥口排出，處理后的液體通過(guò)溢水堰、出水管排出，氣體進(jìn)入排氣管，實(shí)現(xiàn)固液氣三相分離。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述好氧沉淀工藝，其特征在于，每立方米污水中加入絮凝劑的質(zhì)量為0.5～1.0kg；所述混凝劑為過(guò)氧化氫、亞鐵鹽和聚硅酸硫酸鋁的混合物，所述過(guò)氧化氫、亞鐵鹽和聚硅酸硫酸鋁的摩爾用量比為1:1～3:2～5；溶解氧的濃度為3～10mg/L。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述好氧沉淀工藝，其特征在于，調(diào)節(jié)好氧沉淀模塊溶液pH在4～11之間，溫度為25～45℃之間，處理時(shí)間為2～5h。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述好氧沉淀工藝，其特征在于，所述好氧菌的用量為2～3g/cm³，每克好氧菌中加入300～400kg水兌勻；所述好氧菌為乙酸鈣不動(dòng)桿菌或短小芽孢桿菌。

5.一種好氧沉淀工藝用裝置，其特征在于，包括殼體(1)以及設(shè)于殼體(1)內(nèi)的好氧沉淀模塊(2)，所述好氧沉淀模塊(2)設(shè)有若干個(gè)，若干個(gè)的好氧沉淀模塊(2)并聯(lián)設(shè)置；所述好氧沉淀模塊(2)包括進(jìn)水口、藥劑進(jìn)口、沉淀模塊及設(shè)于沉淀模塊下方的好氧池；所述沉淀模塊包括三相分離器(5)和高效斜板(6)，三相分離器(5)上方設(shè)有出氣口，下方連接有高效斜板(6)，高效斜板(6)下方連接有導(dǎo)流孔(7)；所述出氣口與排氣管(8)連通；好氧池底部設(shè)有排泥閥；好氧沉淀模塊(2)設(shè)有排水管(9)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述好氧沉淀工藝用裝置，其特征在于，若干個(gè)的好氧沉淀模塊(2)共用一個(gè)排水管(9)，排水管在每個(gè)好氧沉淀模塊(2)中均設(shè)有進(jìn)水口，進(jìn)水口上設(shè)有溢水堰，排水管(9)的出水管伸出殼體(1)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述好氧沉淀工藝用裝置，其特征在于，所述排氣口(4)上設(shè)有排氣閥，排泥口(3)上設(shè)有排泥閥；所述好氧池底部設(shè)有攪拌槳。

8.根據(jù)權(quán)利要5所述好氧沉淀工藝用裝置，其特征在于，所述導(dǎo)流孔(7)設(shè)有過(guò)濾網(wǎng)，所述過(guò)濾網(wǎng)活動(dòng)設(shè)于導(dǎo)流孔上。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述好氧沉淀工藝用裝置，其特征在于，所述好氧沉淀模塊中還設(shè)有溫度控制系統(tǒng)，所述溫度控制系統(tǒng)包括溫度控制器、溫度傳感器和電加熱絲，所述溫度傳感器和電加熱絲均與溫度控制器電連接，所述電加熱絲設(shè)于好氧沉淀模塊的內(nèi)側(cè)壁上。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述好氧沉淀工藝用裝置，其特征在于，所述好氧沉淀模塊中設(shè)有氧氣管道，氣體管道伸入導(dǎo)流孔下方，氧氣通過(guò)氧氣管道進(jìn)入好氧池。