[發(fā)明專利]基板的焊接槽形成工藝及其基板在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011202784.8 | 申請(qǐng)日: | 2020-11-02 |
| 公開(公告)號(hào): | CN114446795A | 公開(公告)日: | 2022-05-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 章恒鏢 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 杭州骉昇科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/48 | 分類號(hào): | H01L21/48;H01L23/13;H01L23/14 |
| 代理公司: | 杭州萬(wàn)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 33294 | 代理人: | 丁海華 |
| 地址: | 311401 浙江*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 焊接 形成 工藝 及其 | ||
1.基板的焊接槽形成工藝,其特征在于,包括以下步驟:
S1:對(duì)基板進(jìn)行等離子清洗,干燥;
S2:在干燥后的基板表面,選取多個(gè)遮蔽區(qū)域,用覆蓋材料進(jìn)行遮蔽;
S3:在基板的上表面進(jìn)行鍍鎳,鍍覆至少一層鎳層;
S4:將基板表面遮蔽區(qū)域的覆蓋材料去除掉,在基板的表面形成多個(gè)焊接槽;
S5:再對(duì)基板進(jìn)行等離子清洗,干燥后得到成品。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的焊接槽形成工藝,其特征在于:所述的覆蓋材料可以是膠、蠟或者覆蓋膜。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的焊接槽形成工藝,其特征在于:所述的遮蔽區(qū)域包括主體遮蔽區(qū)域,主體遮蔽區(qū)域的四周設(shè)有側(cè)部遮蔽區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的焊接槽形成工藝,其特征在于:所述的焊接槽的形狀為立方體狀槽體。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基板的焊接槽形成工藝,其特征在于:所述的焊接槽的面積占據(jù)基板整體的面積的一半以上。
6.實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1所述工藝的具有焊接槽的基板,其特征在于:包括板體(1),所述板體(1)的表面設(shè)有鍍鎳層(3);一側(cè)的鍍鎳層(3)上設(shè)有多個(gè)焊接槽(4),焊接槽(4)的槽底深至板體(1)表面;所述板體(1)的四周設(shè)有安裝孔(101),板體(1)的短邊側(cè)設(shè)有短側(cè)槽(102),板體(1)的長(zhǎng)邊側(cè)設(shè)有長(zhǎng)側(cè)槽(103);所述的鍍鎳層(3)上設(shè)有多個(gè)出氣孔(11),出氣孔(11)與焊接槽(4)相連通。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具有焊接槽的基板,其特征在于:所述的焊接槽(4)為立方體狀槽體。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具有焊接槽的基板,其特征在于:所述的焊接槽(4)為圓柱體狀槽體。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的具有焊接槽的基板,其特征在于:所述的焊接槽(4)內(nèi)設(shè)有第一側(cè)壁(6),第一側(cè)壁(6)上設(shè)有第一腔(7),第一側(cè)壁(6)的鄰側(cè)設(shè)有第二側(cè)壁(8),第二側(cè)壁(8)上設(shè)有第二腔(9),所述的出氣孔(11)的下口與第一腔(7)或者第二腔(9)連通。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





