[發(fā)明專利]發(fā)光裝置、光學(xué)裝置以及信息處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011202712.3 | 申請日: | 2020-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN113314943A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 井口大介 | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/024 | 分類號: | H01S5/024;H01S5/042;H01S5/42;G01B11/24;G01S17/48;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 日本東京*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 光學(xué) 以及 信息處理 | ||
本發(fā)明提供一種發(fā)光裝置、光學(xué)裝置以及信息處理裝置,發(fā)光裝置具有:導(dǎo)熱率為10W/m·K以上的絕緣性的基材;發(fā)光元件,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋坏谝槐趁媾渚€,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述發(fā)光元件的陰極電極與陽極電極的其中一者;第二背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述陰極電極與所述陽極電極的另一者;以及基準(zhǔn)電位配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于外部的基準(zhǔn)電位。
技術(shù)領(lǐng)域
本公開涉及一種發(fā)光裝置、光學(xué)裝置以及信息處理裝置。
背景技術(shù)
日本專利特開2008-252129號公報(bào)中記載了一種發(fā)光裝置,其具有:陶瓷基板,具有透光性;發(fā)光元件,搭載于所述陶瓷基板的表面;配線圖案,用于對所述發(fā)光元件供給電力;以及金屬化層(metalization layer),包含具有反光性的金屬,所述金屬化層以對從所述發(fā)光元件出射的光進(jìn)行反射的方式而形成在所述陶瓷基板的內(nèi)部。
發(fā)明內(nèi)容
提供下述結(jié)構(gòu)的發(fā)光裝置等,即,在發(fā)光元件被設(shè)在散熱基材表面?zhèn)鹊陌l(fā)光裝置中,與僅設(shè)有連接于發(fā)光元件的陰極電極的配線和連接于陽極電極的配線的結(jié)構(gòu)相比較,在對發(fā)光元件進(jìn)行低側(cè)驅(qū)動的情況下,容易使發(fā)光元件的熱從散熱基材的背面?zhèn)壬l(fā)至外部。
根據(jù)本公開的第一方案,提供一種發(fā)光裝置,包括:導(dǎo)熱率為10W/m·K以上的絕緣性的基材;發(fā)光元件,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋坏谝槐趁媾渚€,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述發(fā)光元件的陰極電極與陽極電極的其中一者;第二背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述陰極電極與所述陽極電極的另一者;以及基準(zhǔn)電位配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于外部的基準(zhǔn)電位。
根據(jù)本公開的第二方案,所述發(fā)光裝置具有第一表面配線,所述第一表面配線設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋遗c所述第一背面配線連接,所述發(fā)光元件設(shè)在所述第一表面配線上,所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述第一表面配線的至少一部分重合。
根據(jù)本公開的第三方案,所述發(fā)光裝置具有:第一表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋遗c所述第一背面配線連接;以及第二表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋遗c所述第二背面配線連接,所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述第一表面配線或所述第二表面配線的至少一部分重合。
根據(jù)本公開的第四方案,所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述第一表面配線及所述第二表面配線各自的至少一部分重合。
根據(jù)本公開的第五方案,所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時(shí)與所述發(fā)光元件的至少一部分重合。
根據(jù)本公開的第六方案,所述基準(zhǔn)電位配線的面積比所述第一背面配線的面積及所述第二背面配線的面積的至少一者大。
根據(jù)本公開的第七方案,所述基準(zhǔn)電位配線的面積分別比所述第一背面配線的面積及所述第二背面配線的面積大。
根據(jù)本公開的第八方案,所述基材整體包含陶瓷材料。
根據(jù)本公開的第九方案,所述發(fā)光元件為垂直腔面發(fā)射激光器元件。
根據(jù)本公開的第十方案,所述發(fā)光元件是具有多個(gè)發(fā)光元件的發(fā)光元件陣列。
根據(jù)本公開的第十一方案,所述發(fā)光裝置具有擴(kuò)散構(gòu)件,所述擴(kuò)散構(gòu)件使從所述發(fā)光元件出射的光擴(kuò)散而照射至外部。
根據(jù)本公開的第十二方案,所述發(fā)光裝置具有驅(qū)動部,所述驅(qū)動部與所述發(fā)光元件連接,對所述發(fā)光元件進(jìn)行低側(cè)驅(qū)動。
根據(jù)本公開的第十三方案,提供一種光學(xué)裝置,包括:所述發(fā)光裝置;以及受光部,接收從所述發(fā)光裝置所包括的發(fā)光元件出射并由被測定物予以反射的反射光,所述受光部輸出一信號,所述信號相當(dāng)于從光自所述發(fā)光元件出射開始直至被所述受光部接收為止的時(shí)間。
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