[發(fā)明專利]發(fā)光裝置、光學(xué)裝置以及信息處理裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011202712.3 | 申請日: | 2020-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN113314943A | 公開(公告)日: | 2021-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 井口大介 | 申請(專利權(quán))人: | 富士膠片商業(yè)創(chuàng)新有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/024 | 分類號: | H01S5/024;H01S5/042;H01S5/42;G01B11/24;G01S17/48;G06K9/00 |
| 代理公司: | 北京同立鈞成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11205 | 代理人: | 楊貝貝;臧建明 |
| 地址: | 日本東京*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 發(fā)光 裝置 光學(xué) 以及 信息處理 | ||
1.一種發(fā)光裝置,包括:
導(dǎo)熱率為10W/m·K以上的絕緣性的基材;
發(fā)光元件,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋?/p>
第一背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述發(fā)光元件的陰極電極與陽極電極的其中一者;
第二背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述陰極電極與所述陽極電極的另一者;以及
基準(zhǔn)電位配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于外部的基準(zhǔn)電位。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置,具有:
第一表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋遗c所述第一背面配線連接,
所述發(fā)光元件設(shè)在所述第一表面配線上,
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時與所述第一表面配線的至少一部分重合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置,具有:
第一表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋遗c所述第一背面配線連接;以及
第二表面配線,設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋遗c所述第二背面配線連接,
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時與所述第一表面配線或所述第二表面配線的至少一部分重合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置,其中
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時與所述第一表面配線及所述第二表面配線各自的至少一部分重合。
5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項所述的發(fā)光裝置,其中
所述基準(zhǔn)電位配線在俯視時與所述發(fā)光元件的至少一部分重合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的發(fā)光裝置,其中
所述基準(zhǔn)電位配線的面積比所述第一背面配線的面積及所述第二背面配線的面積的至少一者大。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至5中任一項所述的發(fā)光裝置,其中
所述基準(zhǔn)電位配線的面積分別比所述第一背面配線的面積及所述第二背面配線的面積大。
8.根據(jù)權(quán)利要求1至7中任一項所述的發(fā)光裝置,其中
所述基材整體包含陶瓷材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項所述的發(fā)光裝置,其中
所述發(fā)光元件為垂直腔面發(fā)射激光器元件。
10.根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項所述的發(fā)光裝置,其中
所述發(fā)光元件是具有多個發(fā)光元件的發(fā)光元件陣列。
11.根據(jù)權(quán)利要求1至10中任一項所述的發(fā)光裝置,具有:擴(kuò)散構(gòu)件,使從所述發(fā)光元件出射的光擴(kuò)散而照射至外部。
12.根據(jù)權(quán)利要求1至11中任一項所述的發(fā)光裝置,具有:驅(qū)動部,與所述發(fā)光元件連接,對所述發(fā)光元件進(jìn)行低側(cè)驅(qū)動。
13.一種光學(xué)裝置,包括:權(quán)利要求1至12中任一項所述的發(fā)光裝置;以及
受光部,接收從所述發(fā)光裝置所包括的發(fā)光元件出射并由被測定物予以反射的反射光,
所述受光部輸出一信號,所述信號相當(dāng)于從光自所述發(fā)光元件出射開始直至被所述受光部接收為止的時間。
14.一種信息處理裝置,包括:
權(quán)利要求13所述的光學(xué)裝置;以及
形狀確定部,基于從所述光學(xué)裝置所包括的光源出射并由被測定物予以反射而被所述光學(xué)裝置所包括的受光部接收的反射光,來確定所述被測定物的三維形狀。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的信息處理裝置,包括:認(rèn)證處理部,基于所述形狀確定部中的確定結(jié)果,進(jìn)行與所述信息處理裝置的使用相關(guān)的認(rèn)證處理。
16.一種發(fā)光裝置,包括:
絕緣性的第一基材;
發(fā)光元件,具有陰極電極及陽極電極,且設(shè)在所述基材的表面?zhèn)龋?/p>
第一背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述陰極電極與所述陽極電極的其中一者;
第二背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋B接于所述陰極電極與所述陽極電極的另一者;
第三背面配線,設(shè)在所述基材的背面?zhèn)龋灰约?/p>
配線基板,包含導(dǎo)熱率比所述第一基材的導(dǎo)熱率小的絕緣性的第二基材,且搭載所述第一基材,
所述第三背面配線連接于所述配線基板中所含的彼此絕緣的多個配線中的面積最大的配線。
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