[發(fā)明專(zhuān)利]一種硅片清洗系統(tǒng)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011196895.2
• 申請(qǐng)日: 2020-10-30
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112309942A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-02-02
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 李健兒;馮永;胡仲波;敬春云;宋勇;王一超;李慕軒
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 四川上特科技有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/677
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/677;H01L21/673;H01L21/687;H01L21/67;B08B3/04;F26B21/00
• 代理公司: 成都睿道專(zhuān)利代理事務(wù)所(普通合伙) 51217
• 代理人: 王小艷

1.一種硅片清洗系統(tǒng)，包括依次連接的上料機(jī)構(gòu)和清洗機(jī)構(gòu)，其特征在于，

所述上料機(jī)構(gòu)包括至少一條平料傳送帶(10)，平料傳送帶(10)終端設(shè)有立片導(dǎo)槽(11)，立片導(dǎo)槽(11)終端豎直向下，立片導(dǎo)槽(11)下方設(shè)有豎料傳送帶(12)，豎料傳送帶(12)沿傳送方向設(shè)有至少一條立片傳送槽(121)，立片傳送槽(121)槽寬與硅片厚度相匹配，立片傳送槽(121)與立片導(dǎo)槽(11)終端平行且一一對(duì)應(yīng)，立片傳送槽(121)位于對(duì)應(yīng)的立片導(dǎo)槽(11)終端開(kāi)口正下方，

所述清洗機(jī)構(gòu)包括清洗池(20)，清洗池(20)上方通過(guò)升降機(jī)構(gòu)連有清洗框(21)，以使清洗框(21)能夠進(jìn)出清洗池(20)，清洗框(21)的入口與豎料傳送帶(12)終端匹配，清洗框(21)內(nèi)平行設(shè)有若干插片槽(211)，插片槽(211)與立片傳送槽(121)平行且一一對(duì)應(yīng)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述上料機(jī)構(gòu)包括至少一個(gè)規(guī)整筒(13)，規(guī)整筒(13)與平料傳送帶(10)一一對(duì)應(yīng)，規(guī)整筒(13)上方設(shè)有水平滑軌(14)，水平滑軌(14)的始端位于規(guī)整筒(13)上方，終端位于平料傳送帶(10)始端上方，水平滑軌(14)滑動(dòng)連接有至少一個(gè)升降桿(15)，升降桿(15)底端連有取料吸盤(pán)(16)，取料吸盤(pán)(16)與規(guī)整筒(13)一一對(duì)應(yīng)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述升降機(jī)構(gòu)包括升降梯(22)，升降梯(22)底部位于清洗池(20)內(nèi)且固定，升降梯(22)自上而下掛設(shè)若干清洗框(21)，

所述清洗池(20)內(nèi)設(shè)有一對(duì)轉(zhuǎn)運(yùn)軌(23)，兩條轉(zhuǎn)運(yùn)軌(23)分設(shè)清洗框(21)兩側(cè)，清洗框(21)上部?jī)蓚?cè)對(duì)稱(chēng)設(shè)有兩片搭接沿(212)，以使清洗框(21)能夠搭設(shè)在兩條轉(zhuǎn)運(yùn)軌(23)上，當(dāng)清洗框(21)與轉(zhuǎn)運(yùn)軌(23)搭設(shè)時(shí)，清洗框(21)底部與清洗池(20)底壁預(yù)留有轉(zhuǎn)運(yùn)間隙，以使清洗框(21)與升降梯(22)分離。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述清洗池(20)內(nèi)設(shè)有升降臺(tái)(24)，升降臺(tái)(24)位于轉(zhuǎn)運(yùn)軌(23)終端正下方，升降臺(tái)(24)遠(yuǎn)離轉(zhuǎn)運(yùn)軌(23)終端的一側(cè)豎直設(shè)有伸縮擋板(241)，伸縮擋板(241)，底部與清洗池(20)連接，

所述升降臺(tái)(24)頂面靠近轉(zhuǎn)運(yùn)軌(23)終端的一側(cè)設(shè)有限位板(242)，當(dāng)清洗框(21)與限位板(242)抵接時(shí)，清洗框(21)與伸縮擋板(241)平齊。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，還包括卸料機(jī)構(gòu)，卸料機(jī)構(gòu)包括卸料傳送帶(30)，卸料傳送帶(30)沿傳送方向設(shè)有至少一條卸料槽(31)，卸料槽(31)的槽壁和槽底均為網(wǎng)狀結(jié)構(gòu)，卸料傳送帶(30)兩側(cè)均勻設(shè)有若干烘干風(fēng)機(jī)(32)，

當(dāng)所述升降臺(tái)(24)位于最高位置時(shí)，所述卸料傳送帶(30)始端與清洗框(21)平齊，所述卸料槽(31)與插片槽(211)一一對(duì)應(yīng)，

所述清洗框(21)靠近卸料傳送帶(30)的一側(cè)敞口，所述升降臺(tái)(24)頂面通過(guò)氣缸鉸接有推板(243)，以使所述清洗框(21)向卸料傳送帶(30)方向傾斜。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述插片槽(211)的槽底傾斜設(shè)置，且靠近卸料傳送帶(30)的一側(cè)的設(shè)置高度高于遠(yuǎn)離卸料傳送帶(30)的一側(cè)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片清洗系統(tǒng)，其特征在于，所述插片槽(211)的槽底圓弧過(guò)渡。