[發(fā)明專利]版圖結(jié)構(gòu)、半導(dǎo)體器件及其形成方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011195556.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112309986B | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-03-29 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 蔡佩庭;王嘉鴻;林剛毅 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 福建省晉華集成電路有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/8242 | 分類號(hào): | H01L21/8242;H01L27/108 |
| 代理公司: | 上海思捷知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295 | 代理人: | 鄭星 |
| 地址: | 362200 福建省泉州*** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 版圖 結(jié)構(gòu) 半導(dǎo)體器件 及其 形成 方法 | ||
1.一種版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,包括:
特征圖案,所述特征圖案包括由多個(gè)規(guī)則圖形構(gòu)成的圖案陣列,所述規(guī)則圖形具有相交于中心的長(zhǎng)軸和短軸,其中沿著長(zhǎng)軸方向?yàn)榈谝环较颍刂梯S方向?yàn)榈诙较颍?/p>
掩模圖案,用于掩模遮蓋所述特征圖案,以遮蓋所述圖案陣列中位于邊緣的無(wú)效規(guī)則圖形,并暴露出所述圖案陣列中被所述掩模圖案圍繞在內(nèi)的有效規(guī)則圖形,其中每一有效規(guī)則圖形被遮蓋的面積均小于50%,每一無(wú)效規(guī)則圖形被遮蓋的面積均大于50%;以及,所述掩模圖案靠近所述有效規(guī)則圖形的邊界包括沿著所述第一方向延伸的第一邊界和沿著所述第二方向延伸的第二邊界,并且至少所述第一邊界順應(yīng)規(guī)則圖形的排布而構(gòu)成第一鋸齒狀邊界;
其中,所述第一鋸齒狀邊界包括順應(yīng)規(guī)則圖形的邊界的臺(tái)階狀斜邊,所述第一鋸齒狀邊界的臺(tái)階狀斜邊中沿著第一方向的臺(tái)階面寬度大于等于沿著第二方向的臺(tái)階面寬度。
2.如權(quán)利要求1所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一鋸齒狀邊界中,由兩兩相鄰的臺(tái)階狀斜邊圍繞出鋸齒圖形,所述鋸齒圖形呈中心線對(duì)稱。
3.如權(quán)利要求2所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述掩模圖案的每一鋸齒圖形中位于中心的掩模凸塊均至少遮蓋至最靠近有效規(guī)則圖形的無(wú)效規(guī)則圖形,并使所述掩模凸塊至少抵達(dá)至緊鄰且在第一方向?qū)桥挪嫉膬蓚€(gè)有效規(guī)則圖形之間。
4.如權(quán)利要求3所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述鋸齒圖形的掩模凸塊超出所述對(duì)角排布的兩個(gè)有效規(guī)則圖形的中心點(diǎn)之間的連接線。
5.如權(quán)利要求3所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述鋸齒圖形的掩模凸塊超出所述對(duì)角排布的兩個(gè)有效規(guī)則圖形的中心點(diǎn)之間的連接線,并進(jìn)一步延伸至與所述對(duì)角排布的兩個(gè)有效規(guī)則圖形緊鄰且對(duì)角排布的第三個(gè)有效規(guī)則圖形中。
6.如權(quán)利要求1所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一邊界的臺(tái)階狀斜邊的延伸長(zhǎng)度大于等于兩個(gè)規(guī)則圖形的邊界長(zhǎng)度之和,以使所述第一邊界的臺(tái)階狀斜邊沿著規(guī)則圖形的邊界對(duì)應(yīng)穿過(guò)至少兩個(gè)規(guī)則圖形。
7.如權(quán)利要求1所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述掩模圖案的第二邊界也順應(yīng)規(guī)則圖形的排布而構(gòu)成第二鋸齒狀邊界,以及所述第二鋸齒狀邊界包括順應(yīng)規(guī)則圖形的邊界的臺(tái)階狀斜邊,所述第二鋸齒狀邊界的臺(tái)階狀斜邊中沿著第一方向的臺(tái)階面寬度大于等于沿著第二方向的臺(tái)階面寬度。
8.如權(quán)利要求7所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二邊界的臺(tái)階狀斜邊的延伸長(zhǎng)度大于等于一個(gè)規(guī)則圖形的邊界長(zhǎng)度,以使所述第二邊界的臺(tái)階狀斜邊沿著規(guī)則圖形的邊界對(duì)應(yīng)穿過(guò)至少一個(gè)規(guī)則圖形。
9.如權(quán)利要求1所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第二邊界為沿著第二方向直線延伸的直邊狀邊界。
10.如權(quán)利要求1所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,在所述第一邊界其最邊緣的臺(tái)階狀斜邊和所述第二邊界相互連接的各個(gè)拐角位置,所述第一邊界其最邊緣的臺(tái)階狀斜邊和所述第二邊界的延伸方向之間的夾角均為鈍角。
11.如權(quán)利要求10所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一邊界其最邊緣的臺(tái)階狀斜邊的延伸長(zhǎng)度大于等于兩個(gè)規(guī)則圖形的邊界長(zhǎng)度之和,以使得在所述拐角位置至少對(duì)應(yīng)有兩個(gè)有效規(guī)則圖形,以及同一拐角位置上的至少兩個(gè)有效規(guī)則圖形組合構(gòu)成第一圖形組,四個(gè)拐角位置所對(duì)應(yīng)的四個(gè)第一圖形組呈中心對(duì)稱。
12.如權(quán)利要求1所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述第一邊界的所述臺(tái)階狀斜邊中具有至少兩階臺(tái)階面,并且所述至少兩階臺(tái)階面的寬度尺寸不一致。
13.如權(quán)利要求1所述的版圖結(jié)構(gòu),其特征在于,所述規(guī)則圖形的形狀為正方形、菱形或橢圓形。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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