[發明專利]顯示裝置、顯示用基板及其制備方法在審
| 申請號: | 202011193932.4 | 申請日: | 2020-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN112310324A | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發明(設計)人: | 郝艷軍;屈財玉;周輝;杜小波;李彥松 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 顯示裝置 顯示 用基板 及其 制備 方法 | ||
本發明實施例提供一種顯示裝置、顯示用基板及其制備方法,涉及顯示技術領域,以降低FMM的清洗頻率,降低產品混色不良的風險。顯示用基板包括襯底和多個子像素,每個子像素包括透明的第一電極和位于第一電極遠離襯底一側的第二電極;其中,第一子像素還包括:位于襯底和第一電極之間的第一反射層,位于第一反射層和第一電極之間的第一絕緣層,位于第一電極和第二電極之間的第一緩沖圖案和第一發光圖案;第二子像素還包括:位于襯底和第一電極之間的第二反射層,位于第一電極和第二電極之間的第二緩沖圖案和第二發光圖案;第三子像素還包括:位于襯底和第一電極之間的第三反射層,位于第一電極和第二電極之間的第三緩沖圖案和第三發光圖案。
技術領域
本發明涉及顯示技術領域,尤其涉及一種顯示裝置、顯示用基板及其制備方法。
背景技術
電致發光顯示裝置由于具有自發光、低功耗、寬視角、響應速度快以及高對比度等優點,因而廣泛應用于手機、電視、筆記本電腦等智能產品中。此外,電致發光顯示裝置由于具有質量輕、厚度薄以及抗彎折性能的特點,因此成為目前國內外眾多學者的研究重點。
如圖1所示,電致發光顯示裝置的主要結構包括依次層疊的陽極01、空穴注入層02、空穴傳輸層03、緩沖層04、發光層05、空穴阻擋層06、電子傳輸層07、電子注入層08和陰極09。當給陽極01和陰極09施加電壓時,陽極01產生的空穴以及陰極09產生的電子在發光層05復合并釋放光,根據發光層05材料和激發能量的不同可以發出不同能量的光子,對應不同顏色的光。詳細的,發光層05包括紅色發光層051、綠色發光層052和藍色發光層053,紅色發光層051、綠色發光層052和藍色發光層053發出的光從陰極09側射出,不同顏色的發光層05下側的緩沖層04的材料以及厚度不同,該緩沖層04主要起到能級匹配以及電子阻擋的作用。
但是,在上述電致發光顯示裝置采用蒸鍍工藝制備的過程中,由于紅色發光層與其下側的緩沖層的整體厚度以及綠色發光層與其下側的緩沖層的整體厚度較厚,紅色發光層與其下側的緩沖層需要在不同的腔室分別采用精細掩膜版(Fine Metal Mask,簡稱:FMM)分兩次進行蒸鍍,綠色發光層與其下側的緩沖層需要在不同的腔室分別采用FMM分兩次進行蒸鍍,這樣的工藝流程所需使用的蒸鍍設備的有機腔室以及FMM的張數較多,成本較高;同時,蒸鍍發光層與緩沖層的過程中,其對應的FMM均需要進行對位,兩次對位容易造成產品的混色不良。
發明內容
本發明的實施例提供一種顯示裝置、顯示用基板及其制備方法,以降低FMM的清洗頻率,降低產品混色不良的風險,成本較低。
為達到上述目的,本發明的實施例采用如下技術方案:
第一方面,本發明提供了一種顯示用基板,包括:襯底;設置在襯底上的多個子像素,多個子像素包括:發光顏色不同的第一子像素、第二子像素以及第三子像素,每個子像素包括透明的第一電極和位于第一電極遠離襯底一側的第二電極;其中,第一子像素還包括:位于襯底和第一電極之間的第一反射層,位于第一反射層和第一電極之間的第一絕緣層,位于第一電極和第二電極之間的第一緩沖圖案和第一發光圖案;第二子像素還包括:位于襯底和第一電極之間的第二反射層,位于第一電極和第二電極之間的第二緩沖圖案和第二發光圖案;第三子像素還包括:位于襯底和第一電極之間的第三反射層,位于第一電極和第二電極之間的第三緩沖圖案和第三發光圖案。
在一些實施例中,第二子像素還包括:位于第二反射層和第一電極之間的第二絕緣層;和/或,第三子像素還包括:位于第三反射層和第一電極之間的第三絕緣層。
在一些實施例中,在第二子像素包括第二絕緣層,且第三子像素包括第三絕緣層的情況下,第一絕緣層、第二絕緣層和第三絕緣層的厚度相同。
在一些實施例中,第一反射層、第二反射層和第三反射層屬于同一層;第一絕緣層、第二絕緣層和第三絕緣層屬于同一層,且第一絕緣層、第二絕緣層和第三絕緣層相連接。
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H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件;專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射;專門適用于將這些輻射能轉換為電能,或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的,如有機發光二極管
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