[發明專利]顯示裝置、顯示用基板及其制備方法

在審

• 申請號: 202011193932.4
• 申請日: 2020-10-30
• 公開（公告）號: CN112310324A
• 公開（公告）日: 2021-02-02
• 發明（設計）人: 郝艷軍;屈財玉;周輝;杜小波;李彥松
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: H01L51/52
• 分類號: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種顯示用基板，其特征在于，包括：

襯底；

設置在所述襯底上的多個子像素，所述多個子像素包括：發光顏色不同的第一子像素、第二子像素以及第三子像素，每個所述子像素包括透明的第一電極和位于所述第一電極遠離所述襯底一側的第二電極；

其中，所述第一子像素還包括：位于所述襯底和所述第一電極之間的第一反射層，位于所述第一反射層和所述第一電極之間的第一絕緣層，位于所述第一電極和所述第二電極之間的第一緩沖圖案和第一發光圖案；

所述第二子像素還包括：位于所述襯底和所述第一電極之間的第二反射層，位于所述第一電極和所述第二電極之間的第二緩沖圖案和第二發光圖案；

所述第三子像素還包括：位于所述襯底和所述第一電極之間的第三反射層，位于所述第一電極和所述第二電極之間的第三緩沖圖案和第三發光圖案。

2.根據權利要求1所述的顯示用基板，其特征在于，所述第二子像素還包括：位于所述第二反射層和所述第一電極之間的第二絕緣層；

和/或，

所述第三子像素還包括：位于所述第三反射層和所述第一電極之間的第三絕緣層。

3.根據權利要求2所述的顯示用基板，其特征在于，在所述第二子像素包括所述第二絕緣層，且所述第三子像素包括所述第三絕緣層的情況下，所述第一絕緣層、所述第二絕緣層和所述第三絕緣層的厚度相同。

4.根據權利要求3所述的顯示用基板，其特征在于，所述第一反射層、所述第二反射層和所述第三反射層屬于同一層；

所述第一絕緣層、所述第二絕緣層和所述第三絕緣層屬于同一層，且所述第一絕緣層、所述第二絕緣層和所述第三絕緣層相連接。

5.根據權利要求2所述的顯示用基板，其特征在于，在所述第二子像素包括所述第二絕緣層，且所述第三子像素包括所述第三絕緣層的情況下，

所述第一絕緣層的厚度大于所述第二絕緣層的厚度，所述第二絕緣層的厚度大于所述第三絕緣層的厚度。

6.根據權利要求5所述的顯示用基板，其特征在于，所述第一絕緣層包括：沿遠離所述襯底的方向依次層疊設置的第一絕緣子層、第二絕緣子層和第三絕緣子層；

所述第二絕緣層包括：沿遠離所述襯底的方向依次層疊設置的第四絕緣子層和第五絕緣子層；

其中，所述第三絕緣子層、所述第五絕緣子層和所述第三絕緣層屬于同一層，且所述第三絕緣子層、所述第五絕緣子層和所述第三絕緣層相連接；

所述第二絕緣子層和所述第四絕緣子層屬于同一層，且所述第二絕緣子層和所述第四絕緣子層相連接。

7.根據權利要求1所述的顯示用基板，其特征在于，所述第一緩沖圖案靠近所述第一發光圖案的表面與所述第一發光圖案靠近所述第一緩沖圖案的表面接觸且二者在所述襯底上的投影完全重疊；

所述第二緩沖圖案靠近所述第二發光圖案的表面與所述第二發光圖案靠近所述第二緩沖圖案的表面接觸且二者在所述襯底上的投影完全重疊；

所述第三緩沖圖案靠近所述第三發光圖案的表面與所述第三發光圖案靠近所述第三緩沖圖案的表面接觸且二者在所述襯底上的投影完全重疊。

8.一種顯示用基板的制備方法，其特征在于，包括：

在襯底上設置多個子像素，所述多個子像素包括：發光顏色不同的第一子像素、第二子像素以及第三子像素，每個子像素包括透明的第一電極和位于所述第一電極遠離所述襯底一側的第二電極；

其中，所述第一子像素還包括：位于所述襯底和所述第一電極之間的第一反射層，位于所述第一反射層和所述第一電極之間的第一絕緣層，位于所述第一電極和所述第二電極之間的第一緩沖圖案和第一發光圖案；

所述第二子像素還包括：位于所述襯底和所述第一電極之間的第二反射層，位于所述第一電極和所述第二電極之間的第二緩沖圖案和第二發光圖案；

所述第三子像素還包括：位于所述襯底和所述第一電極之間的第三反射層，位于所述第一電極和所述第二電極之間的第三緩沖圖案和第三發光圖案。