[發明專利]一種冷光源曝光機

在審

• 申請號: 202011192267.7
• 申請日: 2020-10-30
• 公開（公告）號: CN112180694A
• 公開（公告）日: 2021-01-05
• 發明（設計）人: 李健兒;馮永;胡仲波;敬春云;宋勇;王一超;李慕軒
• 申請（專利權）人: 四川上特科技有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 成都睿道專利代理事務所(普通合伙) 51217
• 代理人: 王小艷

1.一種冷光源曝光機，包括支架和載片臺，所述載片臺水平固定于所述支架的下端，其特征在于：

還設有曝光機構和豎向調節機構，所述豎向調節機構用于調節所述曝光機構的高度，所述豎向調節機構配置有豎向分布的距離調節尺，所述距離調節尺豎向安裝于所述支架；

所述曝光機構包括紫外燈源、多面鏡組、反光鏡組、機械快門和罩殼，所述多面鏡組和所述反光鏡組均置于所述罩殼內，所述多面鏡組包括若干呈環形均勻緊密布置的反光片，所述紫外燈源置于所述多面鏡組的中心點位置處；

所述反光鏡組包括第一反光鏡和第二反光鏡，所述第一反光鏡與所述第二反光鏡平行對峙布置、并與水平方向呈夾角45°布置，所述第一反光鏡置于所述紫外燈源正下方，所述機械快門橫置于所述第一反光鏡和所述第二反光鏡之間，所述第二反光鏡正下方還設有準直鏡。

2.根據權利要求1所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述支架還設有散熱器，所述散熱器用于所述曝光機構散熱。

3.根據權利要求1所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述豎向調節機構包括豎向布置的電控液壓桿，所述電控液壓桿固定安裝于所述支架，所述電控液壓桿的活動端與所述曝光機構連接。

4.根據權利要求1所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述第二反光鏡的反射面面積大于所述第一反光鏡的反射面面積設置。

5.根據權利要求1所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述多面鏡組設有鏡座，所述鏡座設有鏡盤和壓圈，所述壓圈置于所述鏡盤與所述反光片之間，所述反光片依次緊密環行呈圈放置于所述鏡盤內。

6.根據權利要求5所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述多面鏡組的所述反光片沿豎直方向劃分成多層分布，其中每層均設有若干反光片呈環形均勻緊密布置，所述紫外燈源置于所述多面鏡組的中心點位置處。

7.根據權利要求6所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述紫外燈源發出的弧光通過所述多面鏡組的反光片，形成多點光源，投射至所述準直鏡，所述準直鏡的物距重合在所述紫外燈源的發光弧點上，后經所述準直鏡匯聚。

8.根據權利要求1所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述紫外燈源配置有燈架，所述燈架固定安裝于所述罩殼內。

9.根據權利要求1所述的冷光源曝光機，其特征在于：所述罩殼設有導向柱，所述導向柱沿豎直方向分布，所述導向柱一端固定連接所述支架，所述罩殼設有豎向分布的導向孔，所述導向柱活動穿設所述導向孔。