[發明專利]新型導電膜及其制備方法和觸控屏

在審

• 申請號: 202011190342.6
• 申請日: 2020-10-30
• 公開（公告）號: CN112373141A
• 公開（公告）日: 2021-02-19
• 發明（設計）人: 高毓康;呂敬波;胡業新;劉世琴;宋尚金
• 申請（專利權）人: 江蘇日久光電股份有限公司
• 主分類號: B32B9/00
• 分類號: B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B15/085;B32B15/20;B32B27/06;B32B27/32;B32B27/36;B32B33/00;G06F3/041;B29D7/01
• 代理公司: 蘇州科仁專利代理事務所(特殊普通合伙) 32301
• 代理人: 郭楊

本發明公開了一種新型導電膜及其制備方法和觸控屏，包括基材層、設置于所述基材層的一面上能夠通過蝕刻制作觸控屏幕的屏幕功能層，還包括能夠通過蝕刻制作后端線路的邊框走線功能層，所述邊框走線功能層通過磁控濺射工藝鍍設在所述屏幕功能層上，所述邊框走線功能層包括邊框走線金屬層。采用鍍膜方式將邊框走線功能層鍍制于屏幕功能層上，采用相應蝕刻液將邊框走線功能層蝕刻成導電線路后端線路，用該新型導電膜制作出的觸控屏具有線寬優勢，線寬能窄至3?10μm，且附著力較強，不易脫膜，性能更優良。

技術領域

本發明涉及一種新型導電膜及其制備方法和觸控屏。

背景技術

現有技術中的導電膜，通常只能是用于制作可視區的那塊觸控屏幕，各種各樣的導電膜達到各種不同的功能效果，如觸控順暢、反應靈敏、顯色效果優、觸感平整度好等等。在制作觸摸屏時，觸摸屏周圍圍設有后端線路，后端線路與觸控屏幕電連接，后端線路再與FPC電連接。而現有技術中，后端線路都是通過后期印刷工藝印在觸控屏幕周圍的，后期印刷的后端線路的線寬比較寬，線寬大于25μm，導致中間可視區尺寸受限，且印刷的后端線路附著力不強。

發明內容

本發明需要解決的技術問題是提供一種新型導電膜。

為了解決上述技術問題，本發明提供的技術方案是：一種新型導電膜，包括基材層、設置于所述基材層的一面上能夠通過蝕刻制作觸控屏幕的屏幕功能層，還包括能夠通過蝕刻制作后端線路的邊框走線功能層，所述邊框走線功能層通過磁控濺射工藝鍍設在所述屏幕功能層上，所述邊框走線功能層包括邊框走線金屬層。

在某些實施方式中，所述邊框走線功能層還包括通過磁控濺射工藝鍍設在所述屏幕功能層上的連接層，所述邊框走線金屬層鍍設在所述連接層上，所述邊框走線金屬層上通過磁控濺射工藝鍍設有抗氧化層，所述邊框走線金屬層夾設于所述連接層與所述抗氧化層之間。

在某些實施方式中，所述邊框走線金屬為銅層、銅合金層、銀層或銀合金層，其中，所述銀合金層中銀含量為98.5-99.5％，鈀含量為0.5-1.5％；所述連接層為氧化鋁層、單質硅層、氧化硅層、氧化鈦層或者氧化鋯層，或者單質硅層以及氧化鋁層；所述抗氧化層為銅鎳鈦合金層。

在某些實施方式中，所述屏幕功能層包括通過磁控濺射工藝鍍設在所述基材層一面上的打底層、通過磁控濺射工藝鍍設在所述打底層上的可視區觸控層，所述連接層通過磁控濺射工藝鍍設在所述可視區觸控層上。

在某些實施方式中，所述可視區觸控層為氧化銦錫層，或者氧化銦摻錳混合物層，或者氧化銦摻鈦混合物層，其中：所述氧化銦錫層中的銦錫比90：10-97：3；所述氧化銦摻錳混合物層中氧化錳的含量為2-10％，氧化銦的含量為90-98％；所述氧化銦摻鈦混合物層中氧化銦的含量為92-99％，鈦的含量為1-8％。

在某些實施方式中，所述打底層為所述氧化硅層、單質硅層、氧化鋁層或者銅鎳合金層。

在某些實施方式中，所述打底層的厚度為5-30nm，所述可視區觸控層的厚度為5-70nm，所述連接層的厚度為0.5-15nm，所述邊框走線金屬層的厚度為150-400nm，所述抗氧化層的厚度為5-50nm。

在某些實施方式中，所述基材層為PET層、COP層、透明PI層或者PC層，厚度為6-200μm，所述基材層的另一面上貼設有PET保護膜，所述抗氧化層上貼設有CPP保護膜。

本發明要解決的技術問題是還提供一種制備新型導電膜的方法，包括以下步驟：

步驟一：在所述基材層的另一面上貼覆PET保護膜的步驟；

步驟二：在所述基材層的一面上通過磁控濺射工藝鍍設屏幕功能層；

步驟三：進入烘箱，在120-150℃溫度下烘20-40分鐘，進行老化使其充分結晶；