[發明專利]硅片處理設備

在審

• 申請號: 202011187197.6
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112226745A
• 公開（公告）日: 2021-01-15
• 發明（設計）人: 左國軍;梁建軍;楊虎;候岳明;朱海劍;柳昆鵬
• 申請（專利權）人: 常州捷佳創精密機械有限公司
• 主分類號: C23C16/458
• 分類號: C23C16/458;C23C16/50;C23C16/54
• 代理公司: 北京友聯知識產權代理事務所(普通合伙) 11343
• 代理人: 尚志峰;王淑梅

1.一種硅片處理設備，其特征在于，包括：

硅片加工組件，所述硅片加工組件上設置有輸入端和輸出端，所述輸入端適于接收載板，所述輸出端適于輸出所述載板；

載板傳送組件，所述載板傳送組件包括：

導軌，所述導軌的兩端分別與所述輸入端和所述輸出端相連接；

傳輸裝置，設置于所述導軌上，所述傳輸裝置能夠沿所述導軌運動，所述傳輸裝置上設置有腔體；

其中，所述輸出端輸出的所述載板存入所述腔體后，經所述傳輸裝置將所述載板輸送至所述輸入端。

2.根據權利要求1所述的硅片處理設備，其特征在于，所述傳輸裝置包括：

第一基板，所述第一基板與所述導軌相連接，所述第一基板能夠沿所述導軌運動；

罩體，扣合于所述第一基板上，所述罩體與所述第一基板相連接，所述罩體上設置有載板入口和載板出口；

第一門體，與所述罩體相連接，所述第一門體能夠開啟或關閉所述載板入口；

第二門體，與所述罩體相連接，所述第二門體能夠開啟或關閉所述載板出口。

3.根據權利要求2所述的硅片處理設備，其特征在于，所述傳輸裝置還包括：

從動輪，與所述第一基板轉動相連接；

第一驅動裝置，設置于所述第一基板上；

第一主動輪，與所述第一驅動裝置相連接，所述第一驅動裝置驅動所述第一主動輪轉動；

傳送帶，套設于所述第一主動輪和所述從動輪上。

4.根據權利要求1所述的硅片處理設備，其特征在于，所述載板傳送組件還包括：

基座，所述導軌設置于所述基座上；

齒條，設置于所述基座上；

第二驅動裝置，設置于所述傳輸裝置上；

齒輪，與所述第二驅動裝置的動力輸出端相連接，所述齒輪與所述齒條相嚙合。

5.根據權利要求1所述的硅片處理設備，其特征在于，還包括：

存儲裝置，所述存儲裝置的兩端分別與所述輸入端和所述導軌相連接，所述存儲裝置適于存放多個所述載板。

6.根據權利要求5所述的硅片處理設備，其特征在于，所述存儲裝置包括：

機架，所述機架的兩端分別與所述輸入端和所述導軌相連接；

支架，設置于所述機架上；

滑軌，設置于所述支架上；

升降板，與所述滑軌相連接，所述升降板上設置有多個定位部，所述定位部適于定位所述載板；

第三驅動裝置，設置于所述支架上，所述第三驅動裝置與所述升降板相連接，所述第三驅動裝置驅動所述升降板沿所述滑軌相對所述機架升高或降低。

7.根據權利要求6所述的硅片處理設備，其特征在于，所述存儲裝置還包括：

軸承座，設置于所述機架上；

輪軸，穿設于所述軸承座上，所述輪軸的兩端分別連接有滾輪和帶輪；

第四驅動裝置，設置于所述機架上；

第二主動輪，與所述第四驅動裝置相連接，所述第四驅動裝置驅動所述第二主動輪轉動；

皮帶，所述皮帶套設于所述第二主動輪和所述帶輪上。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的硅片處理設備，其特征在于，所述傳輸裝置上設置有與所述腔體相連通的進氣口，所述硅片處理設備還包括：

管路，所述管路與所述傳輸裝置相連接，且所述管路與所述進氣口相連通；

泵體，與所述管路相連接，所述泵體將潔凈且干燥的壓縮空氣或氮氣經由所述管路泵送至所述腔體內。

9.根據權利要求1至7中任一項所述的硅片處理設備，其特征在于，所述硅片加工組件包括：

第一載板升降機；

第二載板升降機；

工藝箱，所述工藝箱的兩端分別與所述第一載板升降機和所述第二載板升降機相連接，所述工藝箱適于加工硅片。

10.根據權利要求2至7中任一項所述的硅片處理設備，其特征在于，所述罩體上設置有觀察窗，光線可透過所述觀察窗；

所述罩體的外表面上設置有把手。