本發(fā)明公開(kāi)了一種反應(yīng)磁控濺射分離式布?xì)夥?，包括氣體流量控制儀、密封箱、磁控濺射等離子體物理面基本擋板、被濺射玻璃基片，所述氣體流量控制儀下端連接有所述密封箱，所述氣體流量控制儀前端設(shè)置有氣體流量顯示窗口，所述氣體流量控制儀一側(cè)設(shè)置有進(jìn)氣管，所述進(jìn)氣管出氣端連接氣體流量計(jì)，所述氣體流量計(jì)通過(guò)連接頭連接氣體通斷電磁閥，所述氣體通斷電磁閥通過(guò)連接管連接欒生對(duì)靶布?xì)夥至魅?，所述欒生?duì)靶布?xì)夥至魅▋啥司B接有氣體輸入管，所述氣體輸入管出氣端連接迷宮布?xì)庋b置。本發(fā)明解決了反應(yīng)磁控濺射鍍膜傳統(tǒng)混合氣體輸入法所存在的濺射速率較低、靶表面易結(jié)瘤的問(wèn)題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及反應(yīng)磁控濺射鍍膜領(lǐng)域，特別是涉及一種反應(yīng)磁控濺射分離式布?xì)夥ā?/p>

背景技術(shù)

在反應(yīng)磁控濺射鍍膜過(guò)程中、濺射粒子與反應(yīng)氣體的作用不僅發(fā)生在基片表面而且也發(fā)生在濺射靶材表面，當(dāng)濺射靶材表面沉積一定數(shù)量的氧化物時(shí)就會(huì)形成結(jié)瘤，靶面出現(xiàn)打火現(xiàn)象、濺射等離子體失去穩(wěn)定，俗稱的靶中毒。

目前在反應(yīng)磁控濺射鍍膜行業(yè)均在使用傳統(tǒng)的混合氣體輸入法，工作氣體和反應(yīng)氣體通過(guò)混合裝置后輸入氣體流量控制系統(tǒng)，混合氣體輸入法具有兩種氣體擴(kuò)散更均勻、節(jié)省一組布?xì)庋b置和占用空間等優(yōu)點(diǎn)，但由于反應(yīng)氣體距離濺射靶面太近很容易造成靶中毒。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的就在于為了解決上述問(wèn)題而提供一種反應(yīng)磁控濺射分離式布?xì)夥ā?/p>

本發(fā)明通過(guò)以下技術(shù)方案來(lái)實(shí)現(xiàn)上述目的：

一種反應(yīng)磁控濺射分離式布?xì)夥ǎ怏w流量控制儀、密封箱、磁控濺射等離子體物理面基本擋板、被濺射玻璃基片，所述氣體流量控制儀下端連接有所述密封箱，所述氣體流量控制儀前端設(shè)置有氣體流量顯示窗口，所述氣體流量控制儀一側(cè)設(shè)置有進(jìn)氣管，所述進(jìn)氣管出氣端連接氣體流量計(jì)，所述氣體流量計(jì)通過(guò)連接頭連接氣體通斷電磁閥，所述氣體通斷電磁閥通過(guò)連接管連接欒生對(duì)靶布?xì)夥至魅?，所述欒生?duì)靶布?xì)夥至魅▋啥司B接有氣體輸入管，所述氣體輸入管出氣端連接迷宮布?xì)庋b置，所述迷宮布?xì)庋b置上設(shè)置有迷宮布?xì)庋b置氣體擴(kuò)散小孔，所述密封箱前端設(shè)置有密封蓋，所述密封箱內(nèi)部設(shè)置有被濺射玻璃基片，所述被濺射玻璃基片下側(cè)設(shè)置有兩個(gè)磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置下側(cè)設(shè)置有磁控濺射等離子體物理面基本擋板，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板之間設(shè)置有磁控濺射等離子體物理面可調(diào)控?fù)醢?，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板上前側(cè)和兩側(cè)成型有連接絲孔，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板下側(cè)設(shè)置有兩個(gè)磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置和所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置內(nèi)部均連接有迷宮布?xì)庋b置，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置下側(cè)設(shè)置有兩個(gè)磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極欒生對(duì)靶，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極欒生對(duì)靶內(nèi)側(cè)設(shè)置有磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極欒生對(duì)靶磁控磁場(chǎng)源。

優(yōu)選的：所述氣體流量控制儀設(shè)置有兩組，分別連接外部的氬氣和氧氣，且第一組的所述連接管連接所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置內(nèi)側(cè)的所述迷宮布?xì)庋b置，第二組的所述連接管連接所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對(duì)靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置內(nèi)側(cè)的所述迷宮布?xì)庋b置。

如此設(shè)置，利用兩組所述氣體流量控制儀分別控制氬氣和氧氣，從而提高控制精度。

優(yōu)選的：所述連接頭通過(guò)螺紋連接所述氣體流量計(jì)和所述氣體通斷電磁閥，所述連接管通過(guò)螺紋連接所述氣體通斷電磁閥和所述欒生對(duì)靶布?xì)夥至魅ā?/p>

如此設(shè)置，通過(guò)螺紋連接保證了，密封效果。

優(yōu)選的：所述連接絲孔成型于所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板通過(guò)螺釘連接所述密封箱，所述磁控濺射等離子體物理面可調(diào)控?fù)醢寤瑒?dòng)連接所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板。