1.一種反應(yīng)磁控濺射分離式布?xì)夥ǎ涮卣髟谟冢喊怏w流量控制儀(1)、密封箱(12)、磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)、被濺射玻璃基片(14)，所述氣體流量控制儀(1)下端連接有所述密封箱(12)，所述氣體流量控制儀(1)前端設(shè)置有氣體流量顯示窗口(2)，所述氣體流量控制儀(1)一側(cè)設(shè)置有進(jìn)氣管(6)，所述進(jìn)氣管(6)出氣端連接氣體流量計(3)，所述氣體流量計(3)通過連接頭(5)連接氣體通斷電磁閥(4)，所述氣體通斷電磁閥(4)通過連接管(7)連接欒生對靶布?xì)夥至魅?8)，所述欒生對靶布?xì)夥至魅?8)兩端均連接有氣體輸入管(9)，所述氣體輸入管(9)出氣端連接迷宮布?xì)庋b置(10)，所述迷宮布?xì)庋b置(10)上設(shè)置有迷宮布?xì)庋b置氣體擴(kuò)散小孔(11)，所述密封箱(12)前端設(shè)置有密封蓋(13)，所述密封箱(12)內(nèi)部設(shè)置有被濺射玻璃基片(14)，所述被濺射玻璃基片(14)下側(cè)設(shè)置有兩個磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置(15)，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置(15)下側(cè)設(shè)置有磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)之間設(shè)置有磁控濺射等離子體物理面可調(diào)控?fù)醢?18)，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)上前側(cè)和兩側(cè)成型有連接絲孔(21)，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)下側(cè)設(shè)置有兩個磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置(16)，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置(15)和所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置(16)內(nèi)部均連接有迷宮布?xì)庋b置(10)，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置(16)下側(cè)設(shè)置有兩個磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極欒生對靶(19)，所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極欒生對靶(19)內(nèi)側(cè)設(shè)置有磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極欒生對靶磁控磁場源(20)；

所述氣體流量控制儀(1)設(shè)置有兩組，分別連接外部的氬氣和氧氣，且第一組的所述連接管(7)連接所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶工作氣體迷宮布?xì)庋b置(15)內(nèi)側(cè)的所述迷宮布?xì)庋b置(10)，第二組的所述連接管(7)連接所述磁控濺射旋轉(zhuǎn)陰極對靶反應(yīng)氣體迷宮布?xì)庋b置(16)內(nèi)側(cè)的所述迷宮布?xì)庋b置(10)。