[發明專利]一種反應磁控濺射分離式布氣法

有效

• 申請號: 202011186430.9
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112281126B
• 公開（公告）日: 2022-11-25
• 發明（設計）人: 沈江民
• 申請（專利權）人: 河南卓金光電科技股份有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/54
• 代理公司: 鄭州芝麻知識產權代理事務所(普通合伙) 41173
• 代理人: 李慧敏

1.一種反應磁控濺射分離式布氣法，其特征在于：包括氣體流量控制儀(1)、密封箱(12)、磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)、被濺射玻璃基片(14)，所述氣體流量控制儀(1)下端連接有所述密封箱(12)，所述氣體流量控制儀(1)前端設置有氣體流量顯示窗口(2)，所述氣體流量控制儀(1)一側設置有進氣管(6)，所述進氣管(6)出氣端連接氣體流量計(3)，所述氣體流量計(3)通過連接頭(5)連接氣體通斷電磁閥(4)，所述氣體通斷電磁閥(4)通過連接管(7)連接欒生對靶布氣分流三通(8)，所述欒生對靶布氣分流三通(8)兩端均連接有氣體輸入管(9)，所述氣體輸入管(9)出氣端連接迷宮布氣裝置(10)，所述迷宮布氣裝置(10)上設置有迷宮布氣裝置氣體擴散小孔(11)，所述密封箱(12)前端設置有密封蓋(13)，所述密封箱(12)內部設置有被濺射玻璃基片(14)，所述被濺射玻璃基片(14)下側設置有兩個磁控濺射旋轉陰極對靶工作氣體迷宮布氣裝置(15)，所述磁控濺射旋轉陰極對靶工作氣體迷宮布氣裝置(15)下側設置有磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)之間設置有磁控濺射等離子體物理面可調控擋板(18)，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)上前側和兩側成型有連接絲孔(21)，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)下側設置有兩個磁控濺射旋轉陰極對靶反應氣體迷宮布氣裝置(16)，所述磁控濺射旋轉陰極對靶工作氣體迷宮布氣裝置(15)和所述磁控濺射旋轉陰極對靶反應氣體迷宮布氣裝置(16)內部均連接有迷宮布氣裝置(10)，所述磁控濺射旋轉陰極對靶反應氣體迷宮布氣裝置(16)下側設置有兩個磁控濺射旋轉陰極欒生對靶(19)，所述磁控濺射旋轉陰極欒生對靶(19)內側設置有磁控濺射旋轉陰極欒生對靶磁控磁場源(20)；

所述氣體流量控制儀(1)設置有兩組，分別連接外部的氬氣和氧氣，且第一組的所述連接管(7)連接所述磁控濺射旋轉陰極對靶工作氣體迷宮布氣裝置(15)內側的所述迷宮布氣裝置(10)，第二組的所述連接管(7)連接所述磁控濺射旋轉陰極對靶反應氣體迷宮布氣裝置(16)內側的所述迷宮布氣裝置(10)。

2.根據權利要求1所述的一種反應磁控濺射分離式布氣法，其特征在于：所述連接頭(5)通過螺紋連接所述氣體流量計(3)和所述氣體通斷電磁閥(4)，所述連接管(7)通過螺紋連接所述氣體通斷電磁閥(4)和所述欒生對靶布氣分流三通(8)。

3.根據權利要求1所述的一種反應磁控濺射分離式布氣法，其特征在于：所述連接絲孔(21)成型于所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)，所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)通過螺釘連接所述密封箱(12)，所述磁控濺射等離子體物理面可調控擋板(18)滑動連接所述磁控濺射等離子體物理面基本擋板(17)。

4.根據權利要求1所述的一種反應磁控濺射分離式布氣法，其特征在于：所述氣體輸入管(9)通過螺紋連接所述欒生對靶布氣分流三通(8)和所述迷宮布氣裝置(10)，所述迷宮布氣裝置氣體擴散小孔(11)一體成型于所述迷宮布氣裝置(10)。