[發(fā)明專利]模型貼地處理方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)與電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011181734.6
• 申請(qǐng)日: 2020-10-29
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN112215968A
• 公開(kāi)（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盤(pán)琪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 網(wǎng)易（杭州）網(wǎng)絡(luò)有限公司
• 主分類號(hào): G06T19/00
• 分類號(hào): G06T19/00
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 王輝;闞梓瑄

本公開(kāi)提供一種模型貼地處理方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)與電子設(shè)備，涉及計(jì)算機(jī)技術(shù)領(lǐng)域。其中，所述模型貼地處理方法包括：獲取場(chǎng)景中目標(biāo)區(qū)域的基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值；根據(jù)待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值；根據(jù)所述采樣點(diǎn)的高度值，將所述待貼地模型貼至所述目標(biāo)區(qū)域。本公開(kāi)能夠?qū)崿F(xiàn)模型貼地的擬真效果，并簡(jiǎn)化模型貼地的處理流程，降低資源消耗。

技術(shù)領(lǐng)域

本公開(kāi)涉及計(jì)算機(jī)技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種模型貼地處理方法、模型貼地處理裝置、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)與電子設(shè)備。

背景技術(shù)

模型貼地是指將平面模型貼合至場(chǎng)景中具有高低起伏狀態(tài)的區(qū)域表面。在傳統(tǒng)的三維渲染管線當(dāng)中，模型在送入管線處理之前，形態(tài)已經(jīng)被固定，當(dāng)?shù)孛娴钠鸱鼱顟B(tài)變化時(shí)，模型與地面無(wú)法貼合，會(huì)產(chǎn)生畫(huà)面失真的問(wèn)題。

需要說(shuō)明的是，在上述背景技術(shù)部分公開(kāi)的信息僅用于加強(qiáng)對(duì)本公開(kāi)的背景的理解，因此可以包括不構(gòu)成對(duì)本領(lǐng)域普通技術(shù)人員已知的現(xiàn)有技術(shù)的信息。

發(fā)明內(nèi)容

本公開(kāi)提供了一種模型貼地處理方法、裝置、計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)與電子設(shè)備，進(jìn)而至少在一定程度上改善模型與地面無(wú)法貼合導(dǎo)致的畫(huà)面失真的問(wèn)題。

本公開(kāi)的其他特性和優(yōu)點(diǎn)將通過(guò)下面的詳細(xì)描述變得顯然，或部分地通過(guò)本公開(kāi)的實(shí)踐而習(xí)得。

根據(jù)本公開(kāi)的第一方面，提供一種模型貼地處理方法，包括：獲取場(chǎng)景中目標(biāo)區(qū)域的基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值；根據(jù)待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值；根據(jù)所述采樣點(diǎn)的高度值，將所述待貼地模型貼至所述目標(biāo)區(qū)域。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，通過(guò)以下方式確定：獲取所述待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)在同一坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)；確定所述采樣點(diǎn)的位置坐標(biāo)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的位置坐標(biāo)之間距離。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述方法還包括：設(shè)置所述待貼地模型的包圍盒；以所述包圍盒的尺寸為單位坐標(biāo)，確定相對(duì)坐標(biāo)系；所述獲取所述待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)在同一坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)，包括：將所述待貼地模型映射至所述包圍盒內(nèi)，確定所述采樣點(diǎn)在所述相對(duì)坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)；將各所述基準(zhǔn)點(diǎn)映射至所述包圍盒內(nèi)，確定各所述基準(zhǔn)點(diǎn)在所述相對(duì)坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述坐標(biāo)系為平面坐標(biāo)系。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述根據(jù)待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值，包括：根據(jù)所述采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離確定各所述基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值；利用各所述基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述根據(jù)采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離確定各所述基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值，包括：根據(jù)參考距離與所述采樣點(diǎn)到任一基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，確定所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述根據(jù)參考距離與所述采樣點(diǎn)到任一基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，確定所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值，包括確定所述采樣點(diǎn)到所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，以作為第一距離；根據(jù)所述第一距離與縮放系數(shù)，確定第二距離；根據(jù)所述參考距離與所述第二距離，確定所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述縮放系數(shù)，通過(guò)以下方式確定：根據(jù)所述基準(zhǔn)點(diǎn)的數(shù)量確定所述縮放系數(shù)。

在本公開(kāi)的一種示例性實(shí)施例中，所述根據(jù)所述第一距離與縮放系數(shù)，確定第二距離，包括：將所述第一距離與所述縮放系數(shù)之積確定為所述第二距離。