[發(fā)明專利]模型貼地處理方法、裝置、存儲(chǔ)介質(zhì)與電子設(shè)備

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202011181734.6
• 申請(qǐng)日: 2020-10-29
• 公開（公告）號(hào): CN112215968A
• 公開（公告）日: 2021-01-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 盤琪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 網(wǎng)易（杭州）網(wǎng)絡(luò)有限公司
• 主分類號(hào): G06T19/00
• 分類號(hào): G06T19/00
• 代理公司: 北京律智知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11438
• 代理人: 王輝;闞梓瑄

1.一種模型貼地處理方法，其特征在于，包括：

獲取場(chǎng)景中目標(biāo)區(qū)域的基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值；

根據(jù)待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值；

根據(jù)所述采樣點(diǎn)的高度值，將所述待貼地模型貼至所述目標(biāo)區(qū)域。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，通過(guò)以下方式確定：

獲取所述待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)在同一坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)；

確定所述采樣點(diǎn)的位置坐標(biāo)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的位置坐標(biāo)之間距離。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

設(shè)置所述待貼地模型的包圍盒；

以所述包圍盒的尺寸為單位坐標(biāo)，確定相對(duì)坐標(biāo)系；

所述獲取所述待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)在同一坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)，包括：

將所述待貼地模型映射至所述包圍盒內(nèi)，確定所述采樣點(diǎn)在所述相對(duì)坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)；

將各所述基準(zhǔn)點(diǎn)映射至所述包圍盒內(nèi)，確定各所述基準(zhǔn)點(diǎn)在所述相對(duì)坐標(biāo)系中的位置坐標(biāo)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于，包括：

所述坐標(biāo)系為平面坐標(biāo)系。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值，包括：

根據(jù)所述采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離確定各所述基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值；

利用各所述基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離確定各所述基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值，包括：

根據(jù)參考距離與所述采樣點(diǎn)到任一基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，確定所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)參考距離與所述采樣點(diǎn)到任一基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，確定所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值，包括：

確定所述采樣點(diǎn)到所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，以作為第一距離；

根據(jù)所述第一距離與縮放系數(shù)，確定第二距離；

根據(jù)所述參考距離與所述第二距離，確定所述任一基準(zhǔn)點(diǎn)相對(duì)于所述采樣點(diǎn)的權(quán)重值。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述縮放系數(shù)，通過(guò)以下方式確定：

根據(jù)所述基準(zhǔn)點(diǎn)的數(shù)量確定所述縮放系數(shù)。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，所述根據(jù)所述第一距離與縮放系數(shù)，確定第二距離，包括：

將所述第一距離與所述縮放系數(shù)之積確定為所述第二距離。

10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，包括：

將所述場(chǎng)景劃分為多個(gè)子區(qū)域，分別以每個(gè)子區(qū)域作為所述目標(biāo)區(qū)域。

11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，所述方法還包括：

在所述目標(biāo)區(qū)域中等間距地設(shè)置各所述基準(zhǔn)點(diǎn)。

12.一種模型貼地處理裝置，其特征在于，包括：

基準(zhǔn)點(diǎn)高度值獲取模塊，用于獲取場(chǎng)景中目標(biāo)區(qū)域的基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值；

采樣點(diǎn)高度值獲取模塊，用于根據(jù)待貼地模型中的采樣點(diǎn)與各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的距離，對(duì)各所述基準(zhǔn)點(diǎn)的地形高度值進(jìn)行加權(quán)，得到所述采樣點(diǎn)的高度值；

貼地模塊，用于根據(jù)所述采樣點(diǎn)的高度值，將所述待貼地模型貼至所述目標(biāo)區(qū)域。

13.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)所述的方法。

14.一種電子設(shè)備，其特征在于，包括：

處理器；以及

存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)所述處理器的可執(zhí)行指令；

其中，所述處理器配置為經(jīng)由執(zhí)行所述可執(zhí)行指令來(lái)執(zhí)行權(quán)利要求1至11任一項(xiàng)所述的方法。