[發(fā)明專利]一種晶片清洗槽及晶片清洗方法

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• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112466780A
• 公開（公告）日: 2021-03-09
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 畢洪偉;周一
• 申請（專利權(quán)）人: 威科賽樂微電子股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/02
• 代理公司: 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245
• 代理人: 張晨

本發(fā)明公開了一種晶片清洗槽及晶片清洗方法，涉及半導(dǎo)體材料技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明的一種晶片清洗槽，包括槽體以及和槽體相匹配的槽蓋，所述槽體內(nèi)固定安裝有旋轉(zhuǎn)裝置，所述旋轉(zhuǎn)裝置包括轉(zhuǎn)動安裝在槽體底面的旋轉(zhuǎn)底座，以及安裝在旋轉(zhuǎn)底座上的轉(zhuǎn)動機構(gòu)和兩組驅(qū)動機構(gòu)，所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)包括轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸上套設(shè)有轉(zhuǎn)動柱，所述轉(zhuǎn)動軸的兩端和對應(yīng)的驅(qū)動機構(gòu)之間連接有支撐桿，一側(cè)所述支撐桿上固定安裝有旋轉(zhuǎn)電機，所述旋轉(zhuǎn)電機的輸出軸和轉(zhuǎn)動軸固定連接。本發(fā)明公開了一種晶片清洗槽及晶片清洗方法，通過在槽體內(nèi)設(shè)置的旋轉(zhuǎn)裝置，保證了晶片各部分在清洗的過程中都能夠充分清洗到，保證了晶片清洗的均勻性。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及半導(dǎo)體材料技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種晶片清洗槽及晶片清洗方法。

背景技術(shù)

隨著半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展，半導(dǎo)體材料的不斷研發(fā)，其物理化學(xué)性能也會相應(yīng)的發(fā)生改變，而材料的不斷提升，也會促進每種半導(dǎo)體晶片的加工技術(shù)發(fā)生相應(yīng)的變化。

現(xiàn)今科技的不斷發(fā)展，對于半導(dǎo)體晶片的要求越來越高，對于晶片加工的過程中，需要對晶片進行腐蝕，可以調(diào)整晶片的表面內(nèi)應(yīng)力，去除表面損傷層，經(jīng)過腐蝕后的晶片，在進行拋光之前，晶片表面需要清洗干凈，只有在表面的平整度與潔凈度達(dá)到一定的要求后，再進行拋光時，才能夠?qū)⒕砻娴臋C械損傷層去除，并呈鏡面的樣式，表面沒有清洗干凈，其表面附著物，反而會加大晶片表面的損傷程度。

現(xiàn)有的晶片清洗方式，通常是將批量的晶片混亂的裝入花籃中進行清洗，在清洗的過程中，花籃和晶片接觸的位置往往清洗不到，容易產(chǎn)生清洗不均勻以及清洗后表面殘留的問題。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述問題，本發(fā)明的目的在于公開一種晶片清洗槽及晶片清洗方法，通過在槽體內(nèi)設(shè)置的旋轉(zhuǎn)裝置，保證了晶片各部分在清洗的過程中都能夠充分清洗到，保證了晶片清洗的均勻性。

具體的，本發(fā)明的一種晶片清洗槽，包括槽體以及和槽體相匹配的槽蓋，所述槽體上設(shè)置有進水口和出水口，所述槽體內(nèi)固定安裝有旋轉(zhuǎn)裝置，所述旋轉(zhuǎn)裝置包括轉(zhuǎn)動安裝在槽體底面的旋轉(zhuǎn)底座，以及安裝在旋轉(zhuǎn)底座上的轉(zhuǎn)動機構(gòu)和兩組驅(qū)動機構(gòu)，兩組所述驅(qū)動機構(gòu)分別安裝在旋轉(zhuǎn)底座相對稱的位置，所述轉(zhuǎn)動機構(gòu)包括轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸上套設(shè)有轉(zhuǎn)動柱，所述轉(zhuǎn)動軸的兩端和對應(yīng)的驅(qū)動機構(gòu)之間連接有支撐桿，一側(cè)所述支撐桿上固定安裝有旋轉(zhuǎn)電機，所述旋轉(zhuǎn)電機的輸出軸和轉(zhuǎn)動軸固定連接。

本發(fā)明的晶片清洗槽，通過設(shè)置的旋轉(zhuǎn)裝置，既能通過旋轉(zhuǎn)底盤帶動晶片進行整體旋轉(zhuǎn)清洗，還能夠通過驅(qū)動機構(gòu)和轉(zhuǎn)動機構(gòu)帶動晶片實現(xiàn)上下運動和自身旋轉(zhuǎn)清洗，從而保證了晶片各部分在清洗的過程中都能夠充分清洗到，保證了晶片清洗的均勻性。

進一步，所述旋轉(zhuǎn)底座上于轉(zhuǎn)動柱對應(yīng)的位置開設(shè)有弧形凹槽，所述轉(zhuǎn)動柱位于弧形凹槽內(nèi)，且與弧形凹槽的表面不接觸，所述弧形凹槽的深度尺寸小于轉(zhuǎn)動柱的直徑尺寸。

進一步，所述旋轉(zhuǎn)底座上于弧形凹槽的兩側(cè)還對稱開設(shè)有固定凹槽，所述固定凹槽和弧形凹槽平行設(shè)置。

固定凹槽和現(xiàn)有的裝晶片的卡塞上的凸起相匹配，在清洗的過程中，通過將卡塞上的凸起卡接到固定凹槽內(nèi)，能夠?qū)⒖ㄈ潭ㄔ谛D(zhuǎn)底座上，防止在清洗旋轉(zhuǎn)的過程中卡塞脫落。

進一步，所述旋轉(zhuǎn)底座上還安裝有固定夾具。通過固定夾具能夠進一步對卡塞進行固定，防止卡塞在清洗的過程中掉落。

進一步，所述驅(qū)動機構(gòu)包括驅(qū)動板，所述驅(qū)動板的一端和支撐桿相連接，所述驅(qū)動板上開設(shè)有腰形孔，所述腰形孔內(nèi)周表面設(shè)置有齒條，所述旋轉(zhuǎn)底座上固定安裝有驅(qū)動電機，所述驅(qū)動電機的輸出軸上安裝有主動半齒輪，所述主動半齒輪位于腰形孔內(nèi)，且與齒條相嚙合。

在使用的時候，開啟驅(qū)動電機，通過驅(qū)動電機帶動主動半齒輪旋轉(zhuǎn)，由于主動半齒輪僅有部分有齒輪，因此輪流和腰形孔內(nèi)左右兩邊的齒條相嚙合，從而帶動驅(qū)動板進行上下的往復(fù)直線運動，進而帶動支撐桿、轉(zhuǎn)動機構(gòu)進行上下的往復(fù)直線運動。