[發明專利]一種用于生產硅氧負極材料基于CVD工藝的加工設備在審
| 申請號: | 202011181474.2 | 申請日: | 2020-10-29 |
| 公開(公告)號: | CN112301323A | 公開(公告)日: | 2021-02-02 |
| 發明(設計)人: | 楊偉;梅田隆太 | 申請(專利權)人: | 佛山高砂工業窯爐有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/26 | 分類號: | C23C16/26;C23C16/44;H01M4/04;H01M4/36;H01M4/38;H01M4/48;H01M4/583 |
| 代理公司: | 廣州市智遠創達專利代理有限公司 44619 | 代理人: | 卓幼紅 |
| 地址: | 528000 廣東省佛山市禪城區*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 生產 負極 材料 基于 cvd 工藝 加工 設備 | ||
本發明公開了一種用于生產硅氧負極材料基于CVD工藝的加工設備及基設備的加工工藝,其結構包括加熱結構,所述加熱結構包括加熱室、燃氣燃燒嘴、加熱驅動馬達、加熱旋轉框和輔熱板,所述加熱結構側壁安裝有自動供料機,所述加熱結構遠離自動供料機的一側安裝有過篩結構,所述過篩結構包括過篩板和導料管,所述過篩結構頂端安裝有排氣結構。本發明結構新穎,且密封性好,加熱速度快,安全性高,維護更換速度快,避免空氣污染,保護大氣環境,原料二次回收利用,成本低?;谠O備的硅氧負極材料基于CVD工藝的加工工藝簡單、有效實現量產硅氧負極材料材料。
技術領域
本發明涉及CVD工藝加工設備領域,尤其涉及一種用于生產硅氧負極材料基于CVD工藝的加工設備。
背景技術
硅氧負極材料電池材料在燒成時,需要在微量氧環境下,將碳氫類氣體高溫裂解成碳和氫氣,其中的碳沉積包覆在硅氧負極材料原料的表面,再通過高溫燒成后得到產品,CVD工藝需要滿足以下的技術特點:
1)、高溫環境:通常900℃~1050℃;
筒體材質氛圍金屬材質和非金屬材質2種,非金屬材質由于制造工藝的問題,外形尺寸無法過大,因此限制了產量,只能在小型實驗室設備中使用,金屬材質由于溫度的關系,國內生產的筒體無法在1000℃左右的溫度條件下長期穩定使用,高砂回轉窯筒體使用耐高溫合金鋼材質,采用獨特的鑄造工藝,使得筒體能在1000℃長期穩定使用;
2)、微量氧環境:筒體內氧含量要求在數十ppm以下;
達到爐內氧含量數十ppm以下的方法是往爐內打入濃度99.999%及以上的惰性氣體,將爐內的空氣置換出來,同時惰性氣體又能起到保護金屬筒體的作用,氧含量越低,對設備氣密性的要求就越高;
3)、反應氣氛:通常為易燃易爆的碳氫類氣體;
4)、工藝要求:碳在原料表面包覆的厚度和均勻性決定了產品品質的好壞,因此不宜靜態燒成,要進行動態燒成,即使用回轉窯燒成。
國內暫無能量產硅氧負極材料電池材料的設備,且傳統用于生產硅氧負極材料基于CVD工藝的加工設備無法長期穩定地在高溫環境下使用,無法達到客戶需要的數十ppm以下的微量氧環境要求,即設備氣密性不好,打入的碳氫氣體高溫下裂解產生的氫氣容易泄露,造成安全事故,空氣容易進入到設備筒體中,將原料氧化,導致燒成出來的產品不合格,使用電加熱的設備加熱速度慢,耗電量大,生產費用高,電加熱器通常是分組安裝,如果其中一組出現問題無法工作,往往需要整條窯爐停產拆卸維修,生產連續性無法保證,因此,為了解決此類問題,我們提出了一種用于生產硅氧負極材料基于CVD工藝的加工設備。
發明內容
本發明提出的一種用于生產硅氧負極材料基于CVD工藝的加工設備,解決了現有的加工設備存在的穩定性差,氣密性不好,存在安全隱患,產品合格率低,生產連續性無法保證,無法燒成硅氧負極電池材料的問題。
為了實現上述目的,本發明采用了如下技術方案:
一種用于生產硅氧負極材料基于CVD工藝的加工設備,包括加熱結構,所述加熱結構包括加熱室、燃氣燃燒嘴、加熱驅動馬達、加熱旋轉框和輔熱板,所述加熱結構側壁安裝有自動供料機,所述加熱結構遠離自動供料機的一側安裝有過篩結構,所述過篩結構包括過篩板和導料管,所述過篩結構頂端安裝有排氣結構,所述排氣結構包括燃氣處理爐、集塵機和排氣風機,所述過篩結構遠離加熱結構的一側設置有冷卻結構,所述冷卻結構包括冷卻室、冷卻驅動馬達、冷卻旋轉框、冷卻噴淋頭和冷卻水打入水站,所述冷卻結構遠離過篩結構的一側安裝有回收結構,所述回收結構包括排料管和回收機,所述加熱結構和冷卻結構連接有氣氛打入結構,所述氣氛打入結構包括加熱氣體注入閥、冷卻氣體注入閥和氣氛打入氣站。
優選的,所述自動供料機、加熱結構、過篩結構、排氣結構、冷卻結構、回收結構和氣氛打入結構連接處均做密封處理,且均設置有密封墊片,所述加熱結構采用耐高溫合金鋼制作。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





