[發明專利]X射線相位成像裝置

在審

• 申請號: 202011178422.X
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112869756A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 佐野哲;田邊晃一;和田幸久;德田敏;堀場日明;森本直樹
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

本發明提供一種X射線相位成像裝置。該X射線相位成像裝置具備圖像處理部，該圖像處理部基于在相位對比度圖像中沿著從X射線的光軸方向看來與平移方向正交的正交方向產生的漸變的分布狀態，來校正該漸變。

技術領域

本發明涉及一種X射線相位成像裝置。

背景技術

以往，已知一種一邊使被攝體與攝像系統相對地平移一邊拍攝被攝體的X射線相位成像裝置。這種裝置例如在日本特開2017-44603號公報中被公開。

在上述日本特開2017-44603號公報中公開了一種用于拍攝試樣(被攝體)的放射線檢查裝置(X射線相位成像裝置)，其具備射線源部、光柵組、檢測部、搬送部以及圖像生成部。該放射線檢查裝置構成為：一邊通過搬送部使試樣相對于射線源部、光柵組以及檢測部(攝像系統)平移一邊拍攝試樣。另外，該放射線檢查裝置構成為：通過圖像生成部，基于一邊通過搬送部使試樣相對于射線源部、光柵組以及檢測部平移一邊獲取到的多個強度分布圖像來生成放射線圖像(相位對比度圖像)。

在此，雖然在上述日本特開2017-44603號公報中沒有明確記載，但本申請發明人得到以下新的發現：在如上述日本特開2017-44603號公報中記載的放射線檢查裝置那樣基于一邊使被攝體與攝像系統相對地平移一邊獲取到的多個圖像來生成相位對比度圖像的情況下，在相位對比度圖像中沿著從X射線的光軸方向看來與平移方向正交的方向產生漸變(色調、明暗等的階段性變化)，因此存在難以看到相位對比度圖像這樣的問題(課題)。

發明內容

本發明是為了解決本申請發明人新發現的如上所述的課題而完成的，本發明的一個目的在于提供一種能夠抑制由于在相位對比度圖像中產生的漸變而難以看到相位對比度圖像的情況X射線相位成像裝置。

為了實現上述目的，本發明的一個方面的X射線相位成像裝置具備：X射線源；檢測器，其檢測從X射線源照射出的X射線；多個光柵，所述多個光柵配置在X射線源與檢測器之間；移動機構，其使被攝體與攝像系統相對地平移，該攝像系統由X射線源、檢測器以及多個光柵構成；以及圖像處理部，其基于一邊通過移動機構使被攝體與攝像系統相對地平移一邊獲取到的多個圖像來生成相位對比度圖像，并且基于沿著從X射線的光軸方向看來與平移方向正交的正交方向產生的漸變的分布狀態來校正該漸變。

根據本發明，如上所述，基于一邊通過移動機構使被攝體與攝像系統相對地平移一邊獲取到的多個圖像來生成相位對比度圖像，并且基于在相位對比度圖像中沿著從X射線的光軸方向看來與平移方向正交的正交方向產生的漸變的分布狀態來校正該漸變。由此，能夠去除在相位對比度圖像中沿著從X射線的光軸方向看來與平移方向正交的正交方向產生的漸變，因此能夠抑制由于在相位對比度圖像中產生的漸變而難以看到相位對比度圖像的情況。

附圖說明

圖1是示出一個實施方式的X射線相位成像裝置的整體結構的示意圖。

圖2是用于說明一個實施方式的X射線相位成像裝置中的多個光柵的配置和構造的示意圖。

圖3是用于說明一個實施方式的光柵位置調整機構的結構的示意圖。

圖4是示出一個實施方式的X射線相位成像裝置獲取的多個圖像的示意圖。

圖5是用于說明獲取一個實施方式的X射線相位成像裝置所獲取的莫爾條紋的相位信息的結構的示意圖。

圖6是示出一個實施方式的將多個圖像的各像素的各相位值與各像素值以一對一的關系進行對應所得到的強度信號曲線的示意圖。

圖7是示出一個實施方式的圖像處理部生成的相位對比度圖像的示意圖。

圖8是用于說明在一個實施方式的圖像處理部生成的相位對比度圖像中產生的漸變的示意圖。

圖9是用于說明一個實施方式的圖像處理部獲取的相位對比度圖像的像素值的分布的示意圖。