[發明專利]X射線相位成像裝置

在審

• 申請號: 202011178422.X
• 申請日: 2020-10-29
• 公開（公告）號: CN112869756A
• 公開（公告）日: 2021-06-01
• 發明（設計）人: 佐野哲;田邊晃一;和田幸久;德田敏;堀場日明;森本直樹
• 申請（專利權）人: 株式會社島津制作所
• 主分類號: A61B6/00
• 分類號: A61B6/00
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇

1.一種X射線相位成像裝置，具備：

X射線源；

檢測器，其檢測從所述X射線源照射出的X射線；

多個光柵，所述多個光柵配置在所述X射線源與所述檢測器之間；

移動機構，其使被攝體與攝像系統相對地平移，所述攝像系統由所述X射線源、所述檢測器以及所述多個光柵構成；以及

圖像處理部，其基于一邊通過所述移動機構使所述被攝體與所述攝像系統相對地平移一邊獲取到的多個圖像來生成相位對比度圖像，并且基于在所述相位對比度圖像中沿著從所述X射線的光軸方向看來與平移方向正交的正交方向產生的漸變的分布狀態來校正所述漸變。

2.根據權利要求1所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為：基于所述相位對比度圖像的沿著所述正交方向的像素值的分布，來校正所述漸變。

3.根據權利要求2所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為：基于所述相位對比度圖像的從所述正交方向上的一端部到另一端部的所述像素值的分布，來校正所述漸變。

4.根據權利要求2所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為：基于所述相位對比度圖像的不存在所述被攝體的區域的所述像素值的分布，來校正所述漸變。

5.根據權利要求4所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為：基于所述相位對比度圖像的所述平移方向上的端部附近的所述像素值的分布，來校正所述漸變。

6.根據權利要求2所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述像素值的分布是在所述平移方向上具有規定寬度的像素組的平均像素值的分布。

7.根據權利要求2所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為：基于通過使所述像素值的分布在所述平移方向上延伸而生成的校正對應圖，來校正所述漸變。

8.根據權利要求7所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為：基于通過以使所述平移方向上的像素數與所述相位對比度圖像的所述平移方向上的像素數相同的方式使所述像素值的分布在所述平移方向上延伸而生成的所述校正對應圖，來校正所述漸變。

9.根據權利要求7所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為：通過將所述相位對比度圖像除以所述校正對應圖或者從所述相位對比度圖像減去所述校正對應圖，來校正所述漸變。

10.根據權利要求1所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述圖像處理部構成為在將多個相位對比度圖像接合而成的所述相位對比度圖像中校正所述漸變。

11.根據權利要求1所述的X射線相位成像裝置，其特征在于，

所述相位對比度圖像包括相位微分像和暗場像。