[發(fā)明專利]一種晶圓測(cè)試分類方法及系統(tǒng)有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011175918.1 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-28 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN112382582B | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-04-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 滕為榮;江華;陸毅;張珩 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 海光信息技術(shù)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L21/66 | 分類號(hào): | H01L21/66;H01L21/67 |
| 代理公司: | 北京市廣友專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 11237 | 代理人: | 張仲波 |
| 地址: | 300000 天津市濱海新區(qū)天津華苑*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 測(cè)試 分類 方法 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明的實(shí)施例公開(kāi)一種晶圓測(cè)試分類方法及系統(tǒng),屬于芯片技術(shù)領(lǐng)域,本發(fā)明的方法在封裝步驟之前,包括:獲取對(duì)目標(biāo)晶圓的線上多重晶圓測(cè)試數(shù)據(jù);所述測(cè)試數(shù)據(jù)包括目標(biāo)晶圓在不同溫度和電壓測(cè)試條件下的指定參數(shù)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù);根據(jù)獲取的指定參數(shù)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù),通過(guò)預(yù)設(shè)芯片分類模型對(duì)所述目標(biāo)晶圓的各芯片進(jìn)行性能功耗分類;根據(jù)預(yù)先設(shè)置的性能功耗分類和產(chǎn)品規(guī)格的對(duì)應(yīng)關(guān)系,生成包括各芯片對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品規(guī)格信息的封裝用圖。本發(fā)明能夠根據(jù)晶圓測(cè)試參數(shù)進(jìn)行線下分析芯片性能和分類,以達(dá)提升最終器件性能水平、滿足不同性能功耗的產(chǎn)品規(guī)格的需求和提升實(shí)際產(chǎn)品生產(chǎn)率的目的。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于芯片技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種晶圓測(cè)試分類方法及系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在晶圓制造完成之后,需要進(jìn)行晶圓測(cè)試,即在晶圓送到封裝工廠之前,需要通過(guò)晶圓測(cè)試鑒別出其中合格的芯片,晶圓測(cè)試是主要的芯片良品率統(tǒng)計(jì)方法之一。目前業(yè)內(nèi)通行的技術(shù)方案是:晶圓測(cè)試分類及數(shù)據(jù)處理主要由測(cè)試程序在芯片測(cè)試過(guò)程中完成,隨后的封裝直接按照晶圓測(cè)試分類結(jié)果切割封裝。
可見(jiàn),現(xiàn)有技術(shù)中芯片的分類和封裝直接取決于晶圓測(cè)試程式的內(nèi)容和測(cè)試結(jié)果。但是,現(xiàn)有技術(shù)方案的測(cè)試流程復(fù)雜且成本很高,對(duì)于產(chǎn)品性能要求高、封裝工藝復(fù)雜的復(fù)雜芯片產(chǎn)品來(lái)說(shuō),現(xiàn)有的晶圓測(cè)試分類方法已不能滿足這些需求。以高性能處理器產(chǎn)品為例,高性能處理器不僅有復(fù)雜的產(chǎn)品工藝和多重晶圓測(cè)試條件,同時(shí)需求不同種類的多芯片封裝既要滿足高性能要求又要滿足細(xì)分的產(chǎn)品規(guī)格,現(xiàn)有技術(shù)方案無(wú)法直接滿足這些要求。另外,對(duì)于多芯片封裝的高性能處理器芯片來(lái)說(shuō),由于水桶效應(yīng),其中性能最低的芯片將決定整個(gè)器件最終性能指標(biāo),如果將合格但是性能不同的芯片隨機(jī)封裝在一起,最終生產(chǎn)出的高性能器件的晶圓級(jí)ATE測(cè)試(Chip?Probing,CP)和封裝器件的最終ATE測(cè)試(Final?Test,F(xiàn)T)良率不可控且不能滿足市場(chǎng)需求也不能滿足量產(chǎn)要求,同時(shí)測(cè)試過(guò)程中的線上數(shù)據(jù)處理增加了CP測(cè)試成本。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明實(shí)施例提供一種晶圓測(cè)試分類方法及系統(tǒng),用于解決現(xiàn)有技術(shù)不能有效處理性能要求高、生產(chǎn)測(cè)試工藝要求復(fù)雜的芯片產(chǎn)品的分類,可能造成生產(chǎn)測(cè)試成本居高不下、高性能產(chǎn)品規(guī)格量產(chǎn)FT良率不可控的問(wèn)題。本發(fā)明能夠根據(jù)晶圓測(cè)試參數(shù)進(jìn)行線下分析芯片性能和分類,以達(dá)提升最終器件性能水平、滿足不同性能功耗的產(chǎn)品規(guī)格的需求和提升實(shí)際產(chǎn)品生產(chǎn)率的目的。
為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的實(shí)施例采用如下技術(shù)方案:
第一方面,本發(fā)明提供一種晶圓測(cè)試分類方法,該方法在封裝步驟之前,包括:
獲取對(duì)目標(biāo)晶圓的線上多重晶圓測(cè)試數(shù)據(jù);所述測(cè)試數(shù)據(jù)包括目標(biāo)晶圓在不同溫度和電壓測(cè)試條件下的指定參數(shù)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù);
根據(jù)獲取的指定參數(shù)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù),通過(guò)預(yù)設(shè)芯片分類模型對(duì)所述目標(biāo)晶圓的各芯片進(jìn)行性能功耗分類;
根據(jù)預(yù)先設(shè)置的性能功耗分類和產(chǎn)品規(guī)格的對(duì)應(yīng)關(guān)系,生成包括各芯片對(duì)應(yīng)的產(chǎn)品規(guī)格信息的封裝用圖。
結(jié)合第一方面,在第一方面的第一種實(shí)施方式中,所述預(yù)設(shè)芯片分類模型包括至少兩個(gè);
在所述根據(jù)獲取的指定參數(shù)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù),通過(guò)預(yù)設(shè)芯片分類模型對(duì)所述目標(biāo)晶圓的各芯片進(jìn)行性能功耗分類之前,還包括:
接收對(duì)預(yù)設(shè)芯片分類模型的選擇;
所述通過(guò)預(yù)設(shè)芯片分類模型對(duì)所述目標(biāo)晶圓的各芯片進(jìn)行性能功耗分類,包括:
通過(guò)當(dāng)前被選擇的芯片分類模型對(duì)所述目標(biāo)晶圓的各芯片進(jìn)行性能功耗分類。
結(jié)合第一方面的第一種實(shí)施方式,在第一方面的第二種實(shí)施方式中,在所述獲取對(duì)目標(biāo)晶圓的線上多重晶圓測(cè)試數(shù)據(jù)之前,還包括:
獲取歷史測(cè)試的若干晶圓的指定參數(shù)測(cè)試結(jié)果數(shù)據(jù)和實(shí)測(cè)芯片性能功耗數(shù)據(jù),作為樣本數(shù)據(jù);
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門(mén)適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門(mén)適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過(guò)程中的測(cè)試或測(cè)量
H01L21-67 .專門(mén)適用于在制造或處理過(guò)程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門(mén)適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過(guò)程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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