[發(fā)明專利]一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011172751.3 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-28 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112359323B | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 暴佳興 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廣西貝馳汽車科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C14/24 | 分類號(hào): | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 廈門市寬信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35246 | 代理人: | 寧霞光 |
| 地址: | 545000 廣西壯族自治區(qū)柳*** | 國(guó)省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬薄板 表面 處理 連續(xù) 真空鍍膜 裝置 | ||
本發(fā)明公開了一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,包括殼體,所述殼體的頂部設(shè)置有封蓋,所述殼體的中間固定安裝有支架,所述支架為鏤空,所述殼體的內(nèi)壁上安裝有加熱裝置,所述加熱裝置位于支架的上方,殼體的內(nèi)壁開設(shè)有液體流道,所述液體流道位于支架的下方,所述液體流道的末端開設(shè)有流液口,所述流液口位于殼體的內(nèi)部底面,所述殼體的內(nèi)部底部設(shè)置有加熱組件,殼體的內(nèi)壁開設(shè)有液體流道,所述液體流道位于支架的下方,所述液體流道的末端開設(shè)有流液口,所述流液口位于殼體的內(nèi)部底面,所述殼體的內(nèi)部底部設(shè)置有加熱組件,支架的底部設(shè)置有閥體,本發(fā)明,具有實(shí)用性強(qiáng)和可以降低鍍膜材料的沸點(diǎn)的特點(diǎn)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及真空鍍膜裝置技術(shù)領(lǐng)域,具體為一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)
真空鍍膜技術(shù)是指將鍍膜材料真空環(huán)境下汽化,后將其附著到需要鍍膜的工件表面,而在鍍膜材料蒸發(fā)汽化的過程中,所需要的溫度往往都非常高,可以在鍍膜材料蒸發(fā)汽化的過程中向鍍膜材料中加入氫氣與氦氣的混合氣體,由于氫氣和氦氣的導(dǎo)熱效率較高,因此可以增加鍍膜材料的傳熱比以此來降低其汽化的沸點(diǎn),這樣可以使得整體工作溫度更低,設(shè)備更加安全,同時(shí)在氫氣中混合惰性氣體的氦氣,可以防止其因濃度過高而產(chǎn)生安全隱患,而現(xiàn)有的真空鍍膜裝置中沒有能夠降低鍍膜材料沸點(diǎn)的,因此,設(shè)計(jì)實(shí)用性強(qiáng)和可以降低鍍膜材料的沸點(diǎn)的一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置是很有必要的。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,以解決上述背景技術(shù)中提出的問題。
為了解決上述技術(shù)問題,本發(fā)明提供如下技術(shù)方案:一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,包括殼體,所述殼體的頂部設(shè)置有封蓋,所述殼體的中間固定安裝有支架,所述支架為鏤空,所述殼體的內(nèi)壁上安裝有加熱裝置,所述加熱裝置位于支架的上方。
根據(jù)上述技術(shù)方案,所述殼體的內(nèi)壁開設(shè)有液體流道,所述液體流道位于支架的下方,所述液體流道的末端開設(shè)有流液口,所述流液口位于殼體的內(nèi)部底面,所述殼體的內(nèi)部底部設(shè)置有加熱組件。
根據(jù)上述技術(shù)方案,所述殼體的內(nèi)壁開設(shè)有液體流道,所述液體流道位于支架的下方,所述液體流道的末端開設(shè)有流液口,所述流液口位于殼體的內(nèi)部底面,所述殼體的內(nèi)部底部設(shè)置有加熱組件。
根據(jù)上述技術(shù)方案,所述支架的底部設(shè)置有閥體,所述閥體的頂部為傾斜狀,所述閥體的頂部設(shè)置有收縮彈簧,所述收縮彈簧的另一端與支架的底部固定。
根據(jù)上述技術(shù)方案,所述液體流道的頂部設(shè)置有密閉板,所述閥體的四周開設(shè)有斜狀齒,所述密閉板的內(nèi)壁上設(shè)置有斜齒條,所述斜狀齒與斜齒條為配合結(jié)構(gòu),所述閥體與密閉板為配合結(jié)構(gòu)。
根據(jù)上述技術(shù)方案,所述閥體的頂部設(shè)置有支撐管道,所述支撐管道的另一端與支架的底部固定,所述支撐管道的一側(cè)設(shè)置有液壓主管道,所述液壓主管道的末端連接有液壓油泵,所述液壓主管道的中間設(shè)置有單向閥一,所述支架的內(nèi)部開設(shè)有感應(yīng)腔,所述感應(yīng)腔的一側(cè)設(shè)置有感應(yīng)管道,所述感應(yīng)管道與液壓主管道連接,所述感應(yīng)管道與液壓主管道的連接處位于單向閥一的前方。
根據(jù)上述技術(shù)方案,所述殼體的內(nèi)壁開設(shè)有控制腔,所述控制腔內(nèi)部設(shè)置有活塞,所述活塞的上方為上腔,所述活塞的下方為下腔,所述殼體的內(nèi)部底部設(shè)置有浮板,所述浮板與活塞活動(dòng)連接。
根據(jù)上述技術(shù)方案,所述上腔的一側(cè)設(shè)置有回流控制管,所述液壓油泵的一側(cè)設(shè)置有回流管道,所述回流管道的另一端與液壓主管道連接,所述回流管道與液壓主管道的連接處位于單向閥一的后方,所述回流管道的左側(cè)設(shè)置有單向閥二,所述回流管道的右側(cè)設(shè)置有磁通閥,所述磁通閥的中間設(shè)置有磁性閥球,所述磁通閥的左側(cè)設(shè)置有關(guān)閉磁鐵,所述磁通閥的右側(cè)設(shè)置有開啟磁鐵,所述開啟磁鐵的磁力大于關(guān)閉磁鐵的磁力。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





