[發(fā)明專利]一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011172751.3 | 申請日: | 2020-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN112359323B | 公開(公告)日: | 2021-07-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 暴佳興 | 申請(專利權(quán))人: | 廣西貝馳汽車科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/54 |
| 代理公司: | 廈門市寬信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 35246 | 代理人: | 寧霞光 |
| 地址: | 545000 廣西壯族自治區(qū)柳*** | 國省代碼: | 廣西;45 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 金屬薄板 表面 處理 連續(xù) 真空鍍膜 裝置 | ||
1.一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,其特征在于:包括殼體(1),所述殼體(1)的頂部設(shè)置有封蓋(2),所述殼體(1)的中間固定安裝有支架(3),所述支架(3)為鏤空,所述殼體(1)的內(nèi)壁上安裝有加熱裝置(4),所述加熱裝置(4)位于支架(3)的上方,所述殼體(1)的內(nèi)壁開設(shè)有液體流道(7),所述液體流道(7)位于支架(3)的下方,所述液體流道(7)的末端開設(shè)有流液口(9),所述流液口(9)位于殼體(1)的內(nèi)部底面,所述殼體(1)的內(nèi)部底部設(shè)置有加熱組件,所述支架(3)的底部設(shè)置有閥體(5),所述閥體(5)的頂部為傾斜狀,所述閥體(5)的頂部設(shè)置有收縮彈簧(10),所述收縮彈簧(10)的另一端與支架(3)的底部固定,所述液體流道(7)的頂部設(shè)置有密閉板(8),所述閥體(5)的四周開設(shè)有斜狀齒(12),所述密閉板(8)的內(nèi)壁上設(shè)置有斜齒條(6),所述斜狀齒(12)與斜齒條(6)為配合結(jié)構(gòu),所述閥體(5)與密閉板(8)為配合結(jié)構(gòu),所述閥體(5)的頂部設(shè)置有支撐管道(13),所述支撐管道(13)的另一端與支架(3)的底部固定,所述支撐管道(13)的一側(cè)設(shè)置有液壓主管道(17),所述液壓主管道(17)的末端連接有液壓油泵(16),所述液壓主管道(17)的中間設(shè)置有單向閥一(19),所述支架(3)的內(nèi)部開設(shè)有感應(yīng)腔(14),所述感應(yīng)腔(14)的一側(cè)設(shè)置有感應(yīng)管道(15),所述感應(yīng)管道(15)與液壓主管道(17)連接,所述感應(yīng)管道(15)與液壓主管道(17)的連接處位于單向閥一(19)的前方。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,其特征在于:所述殼體(1)的內(nèi)壁開設(shè)有控制腔,所述控制腔內(nèi)部設(shè)置有活塞(27),所述活塞(27)的上方為上腔(25),所述活塞(27)的下方為下腔(26),所述殼體(1)的內(nèi)部底部設(shè)置有浮板(24),所述浮板(24)與活塞(27)活動(dòng)連接。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,其特征在于:所述上腔(25)的一側(cè)設(shè)置有回流控制管(28),所述液壓油泵(16)的一側(cè)設(shè)置有回流管道(18),所述回流管道(18)的另一端與液壓主管道(17)連接,所述回流管道(18)與液壓主管道(17)的連接處位于單向閥一(19)的后方,所述回流管道(18)的左側(cè)設(shè)置有單向閥二(20),所述回流管道(18)的右側(cè)設(shè)置有磁通閥(21),所述磁通閥(21)的中間設(shè)置有磁性閥球,所述磁通閥(21)的左側(cè)設(shè)置有關(guān)閉磁鐵(22),所述磁通閥(21)的右側(cè)設(shè)置有開啟磁鐵(23),所述開啟磁鐵(23)的磁力大于關(guān)閉磁鐵(22)的磁力。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,其特征在于:所述殼體(1)的底部包括有出氣口(11),所述出氣口(11)的一側(cè)管道連接有融合閥(33),所述融合閥(33)的內(nèi)部設(shè)置有融合扇葉,所述融合閥(33)的兩側(cè)均設(shè)置有進(jìn)氣管(47),兩組所述進(jìn)氣管(47)的末端分別連接有氫氣泵(30)和氦氣泵(31),兩組所述進(jìn)氣管(47)的中間均設(shè)置有流量控制泵(32)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,其特征在于:所述流量控制泵(32)包括有控制油泵和進(jìn)氣泵,所述控制油泵與進(jìn)氣泵中間設(shè)置有聯(lián)動(dòng)軸(41),所述控制油泵包括有控制油葉片(40),所述控制油泵的上方設(shè)置有油口一(35),所述控制油泵的下方設(shè)置有油口二(36),所述油口一(35)與流量控制管(29)管道連接,所述油口二(36)的下方管道連接有控制油箱(34),所述進(jìn)氣泵包括有氣體閥葉片(39),所述進(jìn)氣泵的左側(cè)開進(jìn)氣口(37),所述進(jìn)氣口(37)與進(jìn)氣管(47)管道連接,所述進(jìn)氣泵的右側(cè)開設(shè)有出氣管口(38),所述出氣管口(38)與進(jìn)氣管(47)管道連接,所述控制油葉片(40)與氣體閥葉片(39)葉片導(dǎo)向相反。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種金屬薄板表面處理用連續(xù)式真空鍍膜裝置,其特征在于:所述聯(lián)動(dòng)軸(41)包括有齒輪軸(42),所述齒輪軸(42)的一側(cè)與進(jìn)氣泵固定連接,所述聯(lián)動(dòng)軸(41)的內(nèi)部兩側(cè)分別設(shè)置有彈性磁性擋片一(43)與彈性磁性擋片二(44),所述彈性磁性擋片一(43)與彈性磁性擋片二(44)均與齒輪軸(42)為配合結(jié)構(gòu),所述聯(lián)動(dòng)軸(41)的內(nèi)部還設(shè)置有移動(dòng)倉(45),所述移動(dòng)倉(45)的內(nèi)部設(shè)置有磁性球(46),所述磁性球(46)與彈性磁性擋片一(43)和彈性磁性擋片二(44)均為配合結(jié)構(gòu)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





