[發(fā)明專利]一種用于晶圓光刻的高精度對準設備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011170974.6 | 申請日: | 2020-10-28 |
| 公開(公告)號: | CN112230525A | 公開(公告)日: | 2021-01-15 |
| 發(fā)明(設計)人: | 趙震 | 申請(專利權)人: | 臨漳縣澳皇網(wǎng)絡科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F9/00 | 分類號: | G03F9/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 056600 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 用于 圓光 高精度 對準 設備 | ||
本發(fā)明公開了一種用于晶圓光刻的高精度對準設備,其結構包括控制屏、對準機構、固定臺、固定座,對準機構設有工作頭、固定機構、伸縮桿、固定塊,晶圓芯片在受力機構中向上滑動,且彎曲板與彈簧桿對偏移力的阻力較大,從而避免鍵合時產生偏移,防止對準后晶圓芯片產生偏差力,避免晶圓芯片表面光刻槽容易進行扭曲,避免對準后的光刻效果受偏差影響,晶圓芯片外沿對工作板中的滑動機構作用,過程中外沿在滑動板上滑動,使其滑落后貼合在摩擦板內側,且具有較大的貼合力,避免摩擦板受力時進行摩擦旋轉,對晶圓芯片產生彈力的同時避免彈力再次過度彈動,防止阻擋板作用力過小彈性過大產生偏移,在增強晶圓芯片貼合力時避免鍵合過程中受到偏移。
技術領域
本發(fā)明涉及晶圓光刻顯影領域,具體涉及一種用于晶圓光刻的高精度對準設備。
背景技術
光刻機對準設備主要作用于鍵合過程的對準,晶圓芯片鍵合時,芯片上的凸點與基板上的焊接對準,然后進行鍵合操作,由于工作頭不能接觸工件正反兩面,并且需要快速對準,繼而利用精密機械進行對位,在對圓形晶圓芯片采用彈性較強的固定槽固定時,容易受鍵合過程中的作用力影響進行平行方向的偏移,從而容易對光刻的對準精度進行影響,且由于對準重合的晶圓芯片精細度較高,對準貼合過程中受上下力的作用貼合,導致容易受平行方向的力的影響,對準過程中晶圓芯片進行偏差時容易對晶圓芯片產生作用力,從而晶圓芯片表面光刻槽容易進行扭曲,影響對準后的光刻效果。
發(fā)明內容
本發(fā)明通過如下的技術方案來實現(xiàn):一種定向天線通信桿,其結構包括控制屏、對準機構、固定臺、固定座,所述控制屏嵌固在固定臺上端,所述固定臺貼合在固定座上表面,所述對準機構安裝于固定臺上端,所述對準機構設有工作頭、固定機構、伸縮桿、固定塊,所述伸縮桿嵌固在固定塊內部,所述工作頭安裝于伸縮桿下端,所述固定機構與工作頭位于同一中心軸線上,所述固定機構嵌固在固定臺上表面,所述工作頭內部為光刻通道,工作頭為向下的槽狀結構。
作為本發(fā)明進一步改進,所述固定機構設有貼合板、間隙板、連接塊、阻擋機構,所述貼合板位于間隙板上端,所述間隙板嵌固在連接塊內側,所述阻擋機構嵌固在連接塊上端,所述貼合板位于阻擋機構內側,所述貼合板位于工作頭下端,所述間隙板為相互貼合的柱形結構,且間隙板上端為弧形結構。
作為本發(fā)明進一步改進,所述阻擋機構設有阻擋塊、受力機構、彎曲板、彈簧桿、連接板、橡膠塊,所述受力機構嵌固在阻擋塊內部,所述彎曲板位于受力機構外側,所述彈簧桿焊接在連接板內側,所述橡膠塊位于連接板內側下端,所述連接板嵌固在連接塊上端,所述彎曲板為弧形結構。
作為本發(fā)明進一步改進,所述受力機構設有滑動板、吸附槽、受力板,所述吸附槽位于受力板內部,所述滑動板嵌固在受力板左側,所述受力板上端安裝于阻擋塊內側,所述滑動板為弧形結構,所述吸附槽為上窄下寬的三角形結構。
作為本發(fā)明進一步改進,所述工作頭設有光刻板、滑動機構、工作板、固定槽,所述光刻板嵌固在固定槽表面,所述滑動機構安裝于工作板表面,所述固定槽位于滑動機構內側,所述工作板嵌固在伸縮桿下端,光刻板與滑動機構位于同一中心軸線上。
作為本發(fā)明進一步改進,所述滑動機構設有摩擦板、阻擋板、固定板、支撐桿、滑動板,所述摩擦板焊接在阻擋板內側,所述阻擋板與固定板為一體化結構,所述支撐桿位于固定板上端,所述滑動板安裝于支撐桿上端,所述固定板嵌固在工作板表面,所述阻擋板為彈性較弱的彎曲結構,具有較強的彈性恢復力,所述摩擦板表面設有孔狀橡膠環(huán)。
有益效果
與現(xiàn)有技術相比,本發(fā)明有益效果在于:
1、晶圓芯片的外圍表面為錐型機構,固定后受到水平力時,需要在受力機構中向上滑動,在其側面上進行位移,傾斜狀態(tài)的受力機構需要進行移動所需作用力過大,且彎曲板與彈簧桿對偏移力的阻力較大,從而避免鍵合時產生偏移,防止對準后晶圓芯片產生偏差力,避免晶圓芯片表面光刻槽容易進行扭曲,避免對準后的光刻效果受偏差影響。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于臨漳縣澳皇網(wǎng)絡科技有限公司,未經(jīng)臨漳縣澳皇網(wǎng)絡科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202011170974.6/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





